公开(公告)号：US09134632B2

公开(公告)日：2015-09-15

申请号：US13301712

申请日：2011-11-21

申请人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Hans Butler ,  Yim Bun Patrick Kwan ,  Erik Roelof Loopstra ,  Bernhard Geuppert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Rodolfo Guglielmi Rabe ,  Dick Antonius Hendrikus Laro

发明人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Hans Butler ,  Yim Bun Patrick Kwan ,  Erik Roelof Loopstra ,  Bernhard Geuppert ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Rodolfo Guglielmi Rabe ,  Dick Antonius Hendrikus Laro

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70141 ,  F16F15/022 ,  F16F15/08 ,  G03F7/708 ,  G03F7/709

摘要： Lithography apparatus and device manufacturing methods are disclosed in which means are provided for reducing the extent to which vibrations propagate between a first element of a projection system and a second element of a projection system. Approaches disclosed include the use of plural resilient members in series as part of a vibration isolation system, plural isolation frames for separately supporting first and second projection system frames, and modified connection positions for the interaction between the first and second projection system frames and the isolation frame(s).

摘要翻译： 公开了平版印刷设备和设备制造方法，其中提供了用于减少振动在投影系统的第一元件和投影系统的第二元件之间传播的程度的装置。 所公开的方法包括使用多个弹性构件串联作为隔振系统的一部分，用于分开支撑第一和第二投影系统框架的多个隔离框架以及用于第一和第二投影系统框架之间的相互作用的修改的连接位置以及隔离 框架。

公开(公告)号：US08368868B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus Vermeulen ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US20110208459A1

公开(公告)日：2011-08-25

申请号：US13018226

申请日：2011-01-31

申请人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Emiel Jozef Melanie Eussen ,  Willem Herman Gertruda Anna Koenen ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Harmen Klaas Van Der Schoot ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Marcus Martinus Petrus Adrianus Vermeulen ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/70516 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70783

摘要： A lithographic apparatus includes a stage to hold an object, the stage being moveable relative to a reference structure in a motion range; a magnet structure to provide a spatially varying magnetic field in at least a part of the motion range, the magnet structure being moveable relative to the reference structure and the stage; a first position measurement system to provide a first measurement signal corresponding to a position of the stage and/or the object in a measurement direction relative to the reference structure; a second position measurement system to provide a second measurement signal corresponding to a position of the stage relative to the magnet structure; and a data processor to correct the first measurement signal with a value dependent on the second measurement signal to provide a corrected first measurement signal representative of the position of the stage and/or the object relative to the reference structure in the measurement direction.

摘要翻译： 光刻设备包括用于保持物体的平台，所述平台相对于基准结构在运动范围内可移动; 磁体结构，用于在所述运动范围的至少一部分中提供空间变化的磁场，所述磁体结构可相对于所述参考结构和所述平台移动; 第一位置测量系统，用于相对于参考结构在测量方向上提供对应于舞台和/或物体的位置的第一测量信号; 第二位置测量系统，用于提供对应于舞台相对于磁体结构的位置的第二测量信号; 以及数据处理器，用取决于所述第二测量信号的值来校正所述第一测量信号，以在所述测量方向上提供表示所述平台和/或所述对象相对于所述参考结构的位置的校正的第一测量信号。

公开(公告)号：US07804579B2

公开(公告)日：2010-09-28

申请号：US11812817

申请日：2007-06-21

申请人： Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonlus Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

发明人： Erik Roelof Loopstra ,  Engelbertus Antonlus Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/58 ,  G03B27/32 ,  G01B11/00 ,  G01B11/14

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70858 ,  G03F9/7096

摘要： A control system is provided for controlling a support structure in a lithographic apparatus. The control system includes a first measurement system arranged to measure the position of a substrate supported by the support structure, the position being measured in a first coordinate system. The control system further includes a second measurement system for measuring the position of the support structure in a second coordinate system, the first measurement system having a presumed position in the second coordinate system. The control system further comprises a controller configured to control the position of the support structure based on measurements by the second measurement system, to convert the measured position of the substrate into a converted position of the support structure in the second coordinate system, to position the support structure based on the converted position, to receive a position error signal indicative of a difference between the presumed position and an actual position of the first measurement system in the second coordinate system, and to position the support structure in a manner dependent upon the position error signal.

摘要翻译： 提供了一种用于控制光刻设备中的支撑结构的控制系统。 控制系统包括第一测量系统，其布置成测量由支撑结构支撑的基板的位置，该位置在第一坐标系中被测量。 所述控制系统还包括用于在第二坐标系中测量所述支撑结构的位置的第二测量系统，所述第一测量系统在所述第二坐标系中具有推测位置。 所述控制系统还包括控制器，所述控制器被配置为基于所述第二测量系统的测量来控制所述支撑结构的位置，以将所述基板的测量位置转换成所述支撑结构在所述第二坐标系中的转换位置， 基于转换位置的支撑结构，接收表示第二坐标系中的第一测量系统的推测位置和实际位置之间的差异的位置误差信号，并且以取决于位置的方式定位支撑结构 误差信号。

公开(公告)号：US20100159399A1

公开(公告)日：2010-06-24

申请号：US12627087

申请日：2009-11-30

申请人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

发明人： Johannes Petrus Martinus Bernardus VERMEULEN ,  Marcel Koenraad Marie Baggen ,  Hans Butler ,  Henrikus Herman Marie Cox ,  Jan Van Eijk ,  Andre Bernardus Jeunink ,  Nicolaas Rudolf Kemper ,  Robert-Han Munnig Schmidt ,  Engelbertus Antonius Fransiscus Van Der Pasch ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Fransiscus Mathijs Jacobs ,  Christiaan Louis Valentin

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/707 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70816 ,  G03F7/70866

摘要： A lithographic apparatus includes a position controller configured to control a position of a patterning device in its planar direction by selectively pressing at least one of the side faces of the patterning device. The position controller includes a gas pressure supply and one or more outflow openings directed towards at least one side face of the patterning device so as to exert pressurized gas on this side face in order to control the position of the patterning device in its planar direction in a contactless manner.

摘要翻译： 光刻设备包括位置控制器，其被配置为通过选择性地按压图案形成装置的侧面中的至少一个来控​​制图案形成装置在其平面方向上的位置。 位置控制器包括气体压力供给器和朝向图案形成装置的至少一个侧面的一个或多个流出开口，以在该侧面上施加加压气体，以便控制图案形成装置在其平面方向上的位置 一个非接触的方式。

公开(公告)号：US20090161085A1

公开(公告)日：2009-06-25

申请号：US12276115

申请日：2008-11-21

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Johan Hendrik Geerke ,  Joost De Pee ,  Clementius Andreas Johannes Beijers ,  Marco Hendrikus Hermanus Oude Nijhuis ,  Francois Xavier Debiesme

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03B27/72 ,  G03B27/32

CPC分类号： G03F7/709

摘要： A lithographic apparatus may be provided with an acoustic resonator to dampen an acoustic vibration in the lithographic apparatus. The acoustic resonator may include a Helmholtz resonator. The helmholz resonator may be provided with an active element to provide active damping and/or altering a spring characteristic of the mass spring assembly formed by the resonator. The resonator may be provided at a slit in a shield between the patterning device stage and the projection system to suppress transfer of acoustical vibrations, caused by e.g. a movement of the patterning device stage, to the projection system.

摘要翻译： 光刻设备可以设置有声谐振器以抑制光刻设备中的声振动。 声谐振器可以包括亥姆霍兹共振器。 亥姆霍兹共振器可以设置有有源元件以提供主动阻尼和/或改变由谐振器形成的质量弹簧组件的弹簧特性。 谐振器可以设置在图案形成装置台和投影系统之间的屏蔽中的狭缝处，以抑制由例如导致的声音振动的传递。 图案形成装置台的移动到投影系统。

公开(公告)号：US20080319569A1

公开(公告)日：2008-12-25

申请号：US12142271

申请日：2008-06-19

申请人： Erik Roelof LOOPSTRA ,  Emiel Jozef Melanie EUSSEN ,  Willem Herman Gertruda Anna KOENEN ,  Engelbertus Antonius Fransiscus VAN DER PASCH ,  Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST

发明人： Erik Roelof LOOPSTRA ,  Emiel Jozef Melanie EUSSEN ,  Willem Herman Gertruda Anna KOENEN ,  Engelbertus Antonius Fransiscus VAN DER PASCH ,  Marc Wilhelmus Maria VAN DER WIJST

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70775 ,  G03F7/70858 ,  G03F9/7096

摘要： A control system controls a support structure of a lithographic apparatus. A first measurement system measures the position of a substrate supported by the support structure, in a first coordinate system. A second measurement system measures the position of the support structure in a second coordinate system, the first measurement system having a presumed position in the second coordinate system. A controller controls the position of the support structure based on measurements by the second measurement system, to convert the measured position of the substrate into a converted position of the support structure in the second coordinate system, to position the support structure based on the converted position, to receive a position error signal indicative of a difference between the presumed position and an actual position of the first measurement system in the second coordinate system, and to position the support structure dependent upon the position error signal.

摘要翻译： 控制系统控制光刻设备的支撑结构。 第一测量系统在第一坐标系中测量由支撑结构支撑的基板的位置。 第二测量系统测量支撑结构在第二坐标系中的位置，第一测量系统在第二坐标系中具有推测位置。 控制器基于第二测量系统的测量来控制支撑结构的位置，将基板的测量位置转换成第二坐标系中的支撑结构的转换位置，以基于转换位置定位支撑结构 以接收表示第二坐标系中的第一测量系统的推定位置与实际位置之间的差异的位置误差信号，并且依赖于位置误差信号定位支撑结构。

公开(公告)号：US07436484B2

公开(公告)日：2008-10-14

申请号：US11022936

申请日：2004-12-28

申请人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Erik Roelof Loopstra ,  Marius Ravensbergen

发明人： Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Dominicus Jacobus Petrus Adrianus Franken ,  Erik Roelof Loopstra ,  Marius Ravensbergen

IPC分类号： G03B27/68 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70266 ,  G03F7/70825

摘要： A lithographic apparatus is disclosed having a deformable lens element through which a patterned radiation beam is arranged to pass before reaching a substrate and having a deformable lens actuator configured to transmit a combination of a force substantially parallel to the optical axis of the projection system and a localized torque about an axis substantially perpendicular to the optical axis independently at a plurality of sub-regions on the deformable lens element.

摘要翻译： 公开了一种光刻设备，其具有可变形透镜元件，图案化的辐射束通过该可变形透镜元件布置成在到达基板之前通过，并且具有被配置为透射基本上平行于投影系统的光轴的力的组合的可变形透镜致动器，以及 围绕可变形透镜元件上的多个子区域处于基本垂直于光轴的轴的局部扭矩。

公开(公告)号：US09122173B2

公开(公告)日：2015-09-01

申请号：US13398890

申请日：2012-02-17

申请人： Hans Butler ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Ronald Petrus Hendricus Faassen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

发明人： Hans Butler ,  Martinus Agnes Willem Cuijpers ,  Christiaan Alexander Hoogendam ,  Robertus Johannes Marinus De Jongh ,  Michael Jozef Mathijs Renkens ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Maurice Willem Jozef Etiënne Wijckmans ,  Robertus Leonardus Tousain ,  Ronald Petrus Hendricus Faassen ,  Adrianus Hendrik Koevoets

IPC分类号： G03B27/58 ,  G03B27/42 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/709 ,  G03F7/70758 ,  G03F7/70766

摘要： A positioning system to position a table within a base frame of a lithographic apparatus, the positioning system including first and second actuators and a controller. The first actuator exerting an actuation force on the table. The first actuator being connected to a balance mass constructed and arranged to absorb a reaction force of the first actuator. The controller and second actuator constructed and arranged to exert a compensation force and/or torque to compensate a torque caused by the actuation force exerted by the first actuator on the balance mass.

摘要翻译： 一种定位系统，用于将平台定位在光刻设备的基架内，所述定位系统包括第一和第二致动器以及控制器。 第一执行器在桌子上施加致动力。 第一致动器连接到构造和布置成吸收第一致动器的反作用力的平衡块。 控制器和第二致动器构造和布置成施加补偿力和/或扭矩以补偿由第​​一致动器施加在平衡块上的致动力引起的扭矩。

公开(公告)号：US08994919B2

公开(公告)日：2015-03-31

申请号：US12244326

申请日：2008-10-02

申请人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

发明人： Hans Butler ,  Marc Wilhelmus Maria Van Der Wijst ,  Cornelius Adrianus Lambertus De Hoon

IPC分类号： G03B27/42 ,  G03F7/20 ,  G05D19/02

CPC分类号： G03F7/70775 ,  G03F7/709 ,  G05D19/02

摘要： A control system for controlling a position or position related quantity of an object is provided. A measurement system is configured to measure a position or position related quantity of the object. A controller is configured to provide a control signal on the basis of the measured position or position related quantity. A actuator actuates the object on the basis of the control signal. A filter unit, which may be a partial order filter unit, filters the measured position or position related quantity.

摘要翻译： 提供了一种用于控制物体的位置或位置相关量的控制系统。 测量系统被配置为测量对象的位置或位置相关量。 控制器被配置为基于所测量的位置或位置相关量提供控制信号。 执行器基于控制信号致动物体。 可以是部分级过滤器单元的过滤器单元过滤所测量的位置或位置相关量。