公开(公告)号：US20120315453A1

公开(公告)日：2012-12-13

申请号：US13312939

申请日：2011-12-06

申请人： Sung Chul Cha ,  Ju Chul Kim ,  Seung Taik Oh ,  Kun Uk Park ,  Doo Hwan Lee ,  Hyun Dal Park ,  Ho Young Kong

发明人： Sung Chul Cha ,  Ju Chul Kim ,  Seung Taik Oh ,  Kun Uk Park ,  Doo Hwan Lee ,  Hyun Dal Park ,  Ho Young Kong

IPC分类号： B32B7/02 ,  B32B3/00 ,  B32B9/00 ,  C23C16/34 ,  C23C16/50

CPC分类号： C23C8/80 ,  C23C28/044 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

摘要： This invention relates to a coating layer structure of a basic material of a mold, which exhibits good adhesion between a coating material and a basic material and does not cause cracking when coated. Such a coating layer structure includes an ion nitriding layer formed at the surface of the basic material, a middle coating layer formed on the ion nitriding layer using AlTiCrN, AlCrSiN, AlTiSiN, or AlTiCrSiN, and a surface coating layer formed on the middle coating layer using AlTiCrCN, AlCrSiCN, AlTiSiCN, or AlTiCrSiCN.

摘要翻译： 本发明涉及一种模具的基材的涂层结构，其在涂层材料和基材之间表现出良好的粘合性，并且在涂覆时不会引起开裂。 这种涂层结构包括在基材表面形成的离子渗氮层，使用AlTiCrN，AlCrSiN，AlTiSiN或AlTiCrSiN在离子氮化层上形成的中间涂层，以及形成在中间涂层上的表面涂层 使用AlTiCrCN，AlCrSiCN，AlTiSiCN或AlTiCrSiCN。

公开(公告)号：US20130101818A1

公开(公告)日：2013-04-25

申请号：US13562998

申请日：2012-07-31

申请人： Sung Chul Cha ,  Byung Kyu Cho ,  Ho Young Kong ,  Soo Jin Chung ,  Jun Seok Lee

发明人： Sung Chul Cha ,  Byung Kyu Cho ,  Ho Young Kong ,  Soo Jin Chung ,  Jun Seok Lee

IPC分类号： B32B9/04 ,  C23C14/35 ,  C23C16/50 ,  B32B7/02 ,  B05D1/36 ,  C23C16/44

CPC分类号： C23C14/0641 ,  B32B15/01 ,  B32B15/013 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/3464 ,  C23C28/042 ,  C23C28/044 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/2495

摘要： Disclosed is a surface coating film for a forming machine, including: a substrate; a nitride layer on the substrate; a multilayered film layer deposited on the nitride layer by reaction of nitrogen (N) with a TiAl target and a Cr target; and a carbonitride layer deposited on the multilayered film layer by reaction of nitrogen (N) and carbon (C) with a TiAl target and a Cr target.

摘要翻译： 公开了一种用于成型机的表面涂膜，包括：基材; 衬底上的氮化物层; 通过氮（N）与TiAl靶和Cr靶的反应沉积在氮化物层上的多层膜层; 和通过氮（N）和碳（C）与TiAl靶和Cr靶反应而沉积在多层膜层上的碳氮化物层。