公开(公告)号：US20080039655A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11842918

申请日：2007-08-21

申请人： In Baik ,  In Cho ,  Gyeong Ghi ,  Dong Han

发明人： In Baik ,  In Cho ,  Gyeong Ghi ,  Dong Han

IPC分类号： C07C233/02

CPC分类号： C11D1/75

摘要： An amine oxide type surfactant, which has excellent compatibility with an anionic or non-ionic surfactant having excellent detergency and shows excellent detergency and softening effect, is represented by the following formula 1: wherein R1 and R2 are the same or different, and each independently represents a C8˜C22 linear or branched alkyl or alkenyl group; A represents a C1˜C4 alkyl, alkenyl or hydroxyalkyl group; X represents OH, a C1˜C4 alkyl, hydroxyalkyl, (CH2CH2O)nH, (CHCH3CH2O)nH or a combination of (CH2CH2O)nH and (CHCH3CH2O)nH; and n is a number of 1˜30.

摘要翻译： 与具有优异的去污力和显示出优异的去污力和软化效果的阴离子或非离子表面活性剂具有优异的相容性的氧化胺型表面活性剂由下式1表示：其中R 1和R 2， SUB> 2相同或不同，并且各自独立地表示C 12 -C 22直链或支链烷基或烯基; A表示C 1 -C 4烷基，烯基或羟烷基; X表示OH，C 1 -C 4烷基，羟烷基，（CH 2 CH 2 CH 2） H，（CHCH 3 CH 2 O）n H或H（CH 2）2的组合， H和（CHCH 3 CH 2 CH 2）n H（CH 2 CH 2 CH 2） H; n为1〜30的数。

公开(公告)号：US20070072786A1

公开(公告)日：2007-03-29

申请号：US11593167

申请日：2006-11-03

申请人： Han Park ,  Sang Lee ,  In Cho ,  Won Kim ,  In Baik

发明人： Han Park ,  Sang Lee ,  In Cho ,  Won Kim ,  In Baik

IPC分类号： C11D3/42

CPC分类号： C11D3/3935 ,  C11D3/3932

摘要： The present invention provides a bleach activator which is at least one macrocyclic manganese complex selected from the group consisting of [MnIII(rac-14-decane)X2]Y, [MnIII(mes-14-decane)X2]Y.H2O and [MnIII(mes-14-decane)X2]Y represented by Formulas 1-3, as well as a preparation method thereof. Also, the invention provides a bleaching composition and bleaching detergent composition comprising the bleach activator. The bleach activator comprising the manganese complex is used in a granulated form. wherein X is at least one selected from chlorine (—Cl) and acetate (—OOCCH3), and Y is an anion selected from Cl−, Br−, F−, NO3−, ClO4−, OH−, NCS−, N3−, and PF6−.

摘要翻译： 本发明提供一种漂白活化剂，它是至少一种大环锰络合物，其选自[Mn III]（外消旋14-癸烷）X 2 Y，Y， [Mn III]（mes-14-癸烷）X 2 YH 2 O和[Mn III]（mes -14-癸烷）X 2] Y，以及其制备方法。 此外，本发明提供了一种漂白组合物和漂白洗涤剂组合物，其包含漂白活化剂。 包含锰络合物的漂白活化剂以颗粒形式使用。 其中X是选自氯（-Cl）和乙酸酯（-OOCCH 3））中的至少一种，Y是选自Cl - ， - ，，， 3， ，N - N，N 3 - ， - 和 - - - - - - - - - - - - - - - - - SUP> - 。

公开(公告)号：US20060111668A1

公开(公告)日：2006-05-25

申请号：US10499181

申请日：2004-05-25

申请人： Woo-In Baik

发明人： Woo-In Baik

IPC分类号： A61M5/00 ,  A61M5/31

CPC分类号： A61M5/322 ,  A61M2005/3224

摘要： A disposable syringe, which is enhanced for a safer use, is disclosed. The disposable syringe includes a cylinder having both ends open, an adapter tube inserted in one side of the cylinder, an insertion tube inserted in the adapter tube, and allowing the adapter tube to be in airtight contact with an inner circumference of the cylinder, and a piston inserted in the cylinder.

摘要翻译： 公开了一种用于更安全使用的一次性注射器。 一次性注射器包括两端打开的气缸，插入气缸的一侧的适配器管，插入适配管中的插入管，并允许适配管与气缸的内周气密接触，以及 活塞插入气缸。

公开(公告)号：US07686784B2

公开(公告)日：2010-03-30

申请号：US10499181

申请日：2004-05-25

申请人： Woo In Baik

发明人： Woo In Baik

IPC分类号： A61M5/00

CPC分类号： A61M5/322 ,  A61M2005/3224

摘要： A disposable syringe, which is enhanced for a safer use, is disclosed. The disposable syringe includes a cylinder having both ends open, an adapter tube inserted in one side of the cylinder, an insertion tube inserted in the adapter tube, and allowing the adapter tube to be in airtight contact with an inner circumference of the cylinder, and a piston inserted in the cylinder.

摘要翻译： 公开了一种用于更安全使用的一次性注射器。 一次性注射器包括两端打开的气缸，插入气缸的一侧的适配器管，插入适配管中的插入管，并允许适配管与气缸的内周气密接触，以及 活塞插入气缸。

公开(公告)号：US20050153565A1

公开(公告)日：2005-07-14

申请号：US11023260

申请日：2004-12-27

申请人： In Baik

发明人： In Baik

IPC分类号： H01L21/306 ,  H01L21/302 ,  H01L21/311 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/461 ,  H01L21/768

CPC分类号： H01L21/32136 ,  H01L21/31116 ,  H01L21/76802

摘要： Methods for manufacturing a semiconductor device are disclosed. One example method includes transferring and loading a substrate with a photoresist pattern thereon in an etching apparatus; setting the temperature of the substrate to a temperature suitable for an etching process by passing the substrate through at least one predetermined chamber; and loading the substrate in an etching chamber and performing an etching process.

摘要翻译： 公开了制造半导体器件的方法。 一种示例性方法包括在蚀刻装置中将其上具有光刻胶图案的衬底转移和加载; 通过使基板通过至少一个预定的室，将基板的温度设定为适于蚀刻工艺的温度; 并将衬底加载到蚀刻室中并执行蚀刻工艺。