公开(公告)号：US20100310972A1

公开(公告)日：2010-12-09

申请号：US12477474

申请日：2009-06-03

申请人： Jason P. Cain

发明人： Jason P. Cain

IPC分类号： G03F1/00 ,  G03F7/20 ,  G03B27/54

CPC分类号： G03B27/54 ,  G03F1/50 ,  G03F7/70466

摘要： A reticle includes a first pattern formed in a first die flash region of the reticle and a second pattern different than the first pattern formed in a second die flash region of the reticle. A method for patterning a wafer having a plurality of die regions defined thereon includes exposing a first die region using a first pattern formed on a reticle during a first exposure, repositioning the reticle, and exposing the first die region using a second pattern formed on the reticle during a second exposure.

摘要翻译： 掩模版包括形成在掩模版的第一管芯闪光区域中的第一图案和不同于在掩模版的第二管芯闪光区域中形成的第一图案的第二图案。 一种用于图案化具有限定在其上的多个管芯区域的晶片的方法包括：在第一次曝光期间使用形成在掩模版上的第一图案来暴露第一管芯区域，重新定位掩模版，并且使用形成在第二裸片上的第二图案露出第一管芯区域 第二次曝光期间光罩。

公开(公告)号：US07663766B2

公开(公告)日：2010-02-16

申请号：US11850072

申请日：2007-09-05

申请人： Carsten Hartig ,  Jason P. Cain

发明人： Carsten Hartig ,  Jason P. Cain

IPC分类号： G01B11/24

CPC分类号： G01B11/024 ,  G01B11/06 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/24 ,  G01N21/95607

摘要： A method includes collecting optical data from an unpatterned region including a first process layer. At least one optical parameter of the first process layer is determined based on the optical data associated with the unpatterned region. Optical data is collected from a patterned region including a second process layer. At least one characteristic of the patterned region is determined based on the optical data associated with the patterned region and the at least one optical parameter.

摘要翻译： 一种方法包括从包括第一处理层的未图案区域收集光学数据。 基于与未图案化区域相关联的光学数据来确定第一处理层的至少一个光学参数。 从包括第二处理层的图案化区域收集光学数据。 基于与图案化区域和至少一个光学参数相关联的光学数据来确定图案化区域的至少一个特性。

公开(公告)号：US20090144692A1

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：US11948151

申请日：2007-11-30

申请人： JASON P. CAIN ,  Kevin R. Lensing ,  Bhanwar Singh ,  Luigi Capodieci ,  Cyrus E. Tabery

发明人： JASON P. CAIN ,  Kevin R. Lensing ,  Bhanwar Singh ,  Luigi Capodieci ,  Cyrus E. Tabery

IPC分类号： G06F17/50

CPC分类号： G03F1/36 ,  G03F1/68

摘要： A method includes specifying a plurality of optical proximity correction metrology sites on a wafer. Metrology data is collected from at least a subset of the metrology sites. Data values are predicted for the subset of the metrology sites using an optical proximity correction design model. The collected metrology data is compared to the predicted data values to generate an optical proximity correction metric. A problem condition associated with the optical proximity correction design model is identified based on the optical proximity correction metric.

摘要翻译： 一种方法包括在晶片上指定多个光学邻近校正度量位置。 计量学数据是从至少一个计量站点子集收集的。 使用光学邻近校正设计模型为量测站点的子集预测数据值。 将收集的测量数据与预测的数据值进行比较以产生光学邻近度校正度量。 基于光学邻近度校正度量来识别与光学接近校正设计模型相关联的问题状况。

公开(公告)号：US20090144686A1

公开(公告)日：2009-06-04

申请号：US11948218

申请日：2007-11-30

申请人： KEVIN R. LENSING ,  Jason P. Cain ,  Bhanwar Singh ,  Luigi Capodieci ,  Cyrus E. Tabery

发明人： KEVIN R. LENSING ,  Jason P. Cain ,  Bhanwar Singh ,  Luigi Capodieci ,  Cyrus E. Tabery

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G06F17/5081

摘要： A method includes generating a layout for an integrated circuit device in accordance with a plurality of layout design rules. A plurality of metrology sites on the layout associated with at least one subset of the layout design rules is identified. A metrology tag associated with each of the metrology sites is generated. At least one metrology recipe for determining a characteristic of the integrated circuit device is generated based on the metrology tags. Metrology data is collected using the at least one metrology recipe. A selected layout design rule in the at least one subset is modified based on the metrology data.

摘要翻译： 一种方法包括根据多个布局设计规则生成用于集成电路设备的布局。 识别与布局设计规则的至少一个子集相关联的布局上的多个计量站点。 生成与每个测量点相关联的度量标签。 基于计量标签生成至少一个用于确定集成电路装置的特性的计量配方。 使用至少一个计量学方法收集计量学数据。 基于测量数据修改至少一个子集中的选定的布局设计规则。

公开(公告)号：US07875851B1

公开(公告)日：2011-01-25

申请号：US11381000

申请日：2006-05-01

申请人： Chris Haidinyak ,  Jason P. Cain ,  Bhanwar Singh

发明人： Chris Haidinyak ,  Jason P. Cain ,  Bhanwar Singh

IPC分类号： G01N21/88

CPC分类号： H01L22/20 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70625 ,  G06T7/001 ,  G06T2207/10061 ,  G06T2207/30148 ,  H01L22/12

摘要： The claimed subject matter provides a system and/or a method that facilitates utilizing a resolution enhancement for a circuit feature. A scanning electron microscope component (104, 204, 304, 404) can provide at least one two-dimensional image of the circuit feature. An image analysis engine (106, 206, 306, 406) can analyze the two-dimensional image. An advanced process control (APC) engine (108, 208, 308, 408) can generate at least one instruction for at least one of a feed forward control and a feedback control and a process component (102, 202, 302, 402) can utilize the at least one instruction to minimize an error.

摘要翻译： 所要求保护的主题提供有助于利用电路特征的分辨率增强的系统和/或方法。 扫描电子显微镜组件（104,204,304,404）可以提供电路特征的至少一个二维图像。 图像分析引擎（106,206,306,406）可以分析二维图像。 高级过程控制（APC）引擎（108,208,308,408）可以为前馈控制和反馈控制中的至少一个生成至少一个指令，并且过程组件（102,202,302,402）可以 利用至少一个指令来最小化错误。

公开(公告)号：US20090082897A1

公开(公告)日：2009-03-26

申请号：US11859204

申请日：2007-09-21

申请人： Jason P. Cain ,  Bernd Schulz

发明人： Jason P. Cain ,  Bernd Schulz

IPC分类号： G06F19/00

CPC分类号： G06F17/5068 ,  G05B19/4097

摘要： A method includes generating a layout for an integrated circuit device. A plurality of metrology sites on the layout is generated. A metrology tag associated with each of the metrology sites is generated. Each metrology tag includes identification data, location data, and metrology context data relating to the associated metrology site. A system includes a data store and a metrology tag unit. The data store is operable to store a plurality of metrology tags. Each metrology tag is associated with a metrology site on a layout for an integrated circuit device and includes identification data, location data, and metrology context data relating to the associated metrology site. The metrology tag unit is operable to access at least a subset of the metrology tags and generate a metrology recipe for measuring characteristics of the integrated circuit device based on the subset of metrology tags.

摘要翻译： 一种方法包括生成用于集成电路装置的布局。 生成布局上的多个计量站点。 生成与每个测量点相关联的度量标签。 每个计量标签包括与相关联的测量站点相关的识别数据，位置数据和度量上下文数据。 系统包括数据存储和计量标签单元。 数据存储器可操作以存储多个计量标签。 每个计量标签与集成电路设备的布局上的度量站点相关联，并且包括与相关联的计量站点有关的识别数据，位置数据和度量上下文数据。 计量标签单元可操作以访问度量标签的至少一个子集，并且生成用于基于度量标签的子集来测量集成电路设备的特性的度量配方。

公开(公告)号：US20090059240A1

公开(公告)日：2009-03-05

申请号：US11850072

申请日：2007-09-05

申请人： Carsten Hartig ,  Jason P. Cain

发明人： Carsten Hartig ,  Jason P. Cain

IPC分类号： G01N21/00 ,  G01B11/24 ,  G01B11/04

CPC分类号： G01B11/024 ,  G01B11/06 ,  G01B11/0625 ,  G01B11/24 ,  G01N21/95607

摘要： A method includes collecting optical data from an unpatterned region including a first process layer. At least one optical parameter of the first process layer is determined based on the optical data associated with the unpatterned region. Optical data is collected from a patterned region including a second process layer. At least one characteristic of the patterned region is determined based on the optical data associated with the patterned region and the at least one optical parameter.

摘要翻译： 一种方法包括从包括第一处理层的未图案区域收集光学数据。 基于与未图案化区域相关联的光学数据来确定第一处理层的至少一个光学参数。 从包括第二处理层的图案化区域收集光学数据。 基于与图案化区域和至少一个光学参数相关联的光学数据来确定图案化区域的至少一个特性。