公开(公告)号：US20060191871A1

公开(公告)日：2006-08-31

申请号：US10906584

申请日：2005-02-25

申请人： Sheng-Yu Chen ,  Te-Sung Hung ,  Chi-Piao Cheng ,  Chung-Jung Cheng ,  Kaung-Wu Nieh ,  Po-Yuan Cheng ,  Jiann-Fu Chen ,  Chun-Ting Hu ,  Tzu-Yu Tseng ,  Tzu-Yi Hsieh ,  Hung-Chi Pai ,  Yung-Chieh Kuo

发明人： Sheng-Yu Chen ,  Te-Sung Hung ,  Chi-Piao Cheng ,  Chung-Jung Cheng ,  Kaung-Wu Nieh ,  Po-Yuan Cheng ,  Jiann-Fu Chen ,  Chun-Ting Hu ,  Tzu-Yu Tseng ,  Tzu-Yi Hsieh ,  Hung-Chi Pai ,  Yung-Chieh Kuo

IPC分类号： H01L21/306 ,  C23F1/00 ,  B44C1/22 ,  C03C15/00

CPC分类号： B24B37/04 ,  B24B57/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04

摘要： A CMP slurry delivery system includes a delivery pipe, a first slurry supply reservoir coupled to the delivery pipe for supplying an abrasive, a second slurry supply reservoir coupled to the delivery pipe for supplying a clean chemical, a third slurry supply reservoir coupled to the delivery pipe for supplying a corrosion inhibitor, and a fourth slurry supply reservoir for supplying an oxidizer.

摘要翻译： CMP浆料输送系统包括输送管，耦合到用于供给研磨剂的输送管的第一浆料供应储存器，耦合到用于供应清洁化学品的输送管的第二浆料供应储存器，耦合到输送的第三浆料供应储存器 用于供应腐蚀抑制剂的管，以及用于供应氧化剂的第四浆料供应储存器。

公开(公告)号：US20070060028A1

公开(公告)日：2007-03-15

申请号：US11554569

申请日：2006-10-30

申请人： Sheng-Yu Chen ,  Te-Sung Hung ,  Chi-Piao Cheng ,  Chung-Jung Cheng ,  Kaung-Wu Nieh ,  Po-Yuan Cheng ,  Jiann-Fu Chen ,  Chun-Ting Hu ,  Tzu-Yu Tseng ,  Tzu-Yi Hsieh ,  Hung-Chi Pai ,  Yung-Chieh Kuo

发明人： Sheng-Yu Chen ,  Te-Sung Hung ,  Chi-Piao Cheng ,  Chung-Jung Cheng ,  Kaung-Wu Nieh ,  Po-Yuan Cheng ,  Jiann-Fu Chen ,  Chun-Ting Hu ,  Tzu-Yu Tseng ,  Tzu-Yi Hsieh ,  Hung-Chi Pai ,  Yung-Chieh Kuo

IPC分类号： B24B1/00

CPC分类号： B24B37/04 ,  B24B57/02 ,  C23F3/00 ,  C23F3/04

摘要： A CMP slurry delivery system includes a delivery pipe, a first slurry supply reservoir coupled to the delivery pipe for supplying an abrasive, a second slurry supply reservoir coupled to the delivery pipe for supplying a clean chemical, a third slurry supply reservoir coupled to the delivery pipe for supplying a corrosion inhibitor, and a fourth slurry supply reservoir for supplying an oxidizer.

摘要翻译： CMP浆料输送系统包括输送管，耦合到用于供给研磨剂的输送管的第一浆料供应储存器，耦合到用于供应清洁化学品的输送管的第二浆料供应储存器，耦合到输送的第三浆料供应储存器 用于供应腐蚀抑制剂的管，以及用于供应氧化剂的第四浆料供应储存器。