公开(公告)号：US4748000A

公开(公告)日：1988-05-31

申请号：US850108

申请日：1986-04-10

申请人： Kazuhiko Hayashi ,  Masatoshi Hayakawa ,  Yoshitaka Ochiai ,  Hideki Matsuda ,  Wataru Ishikawa ,  You Iwasaki ,  Kouichi Aso

发明人： Kazuhiko Hayashi ,  Masatoshi Hayakawa ,  Yoshitaka Ochiai ,  Hideki Matsuda ,  Wataru Ishikawa ,  You Iwasaki ,  Kouichi Aso

IPC分类号： H01F10/14 ,  H01F10/16 ,  C22C38/00

CPC分类号： H01F10/16 ,  H01F10/142

摘要： Disclosed is a soft magnetic thin film which has superior soft magnetic characteristics and high saturation magnetic flux density. The magnetic thin film is formed by physical vapor deposition process and composed of Fe, Ga, and Si with optional inclusion of Co, Ru, or Cr.

摘要翻译： 公开了具有优异的软磁特性和高饱和磁通密度的软磁薄膜。 磁性薄膜通过物理气相沉积法形成，由Fe，Ga和Si组成，可选地包含Co，Ru或Cr。