公开(公告)号：US20110198756A1

公开(公告)日：2011-08-18

申请号：US12067285

申请日：2006-08-25

申请人： ü Thenappan ,  Chien-Wei Li ,  David Nalewajek ,  Martin Cheney ,  Jingyu Lao ,  Eric Eisenbraun ,  Min Li ,  Nathaniel Berliner ,  Mikko Ritala ,  Markku Leskela ,  kaupo Kukli ,  Linda Cheney

发明人： ü Thenappan ,  Chien-Wei Li ,  David Nalewajek ,  Martin Cheney ,  Jingyu Lao ,  Eric Eisenbraun ,  Min Li ,  Nathaniel Berliner ,  Mikko Ritala ,  Markku Leskela ,  kaupo Kukli ,  Linda Cheney

IPC分类号： H01L21/3205 ,  H01L29/43 ,  H01L23/48

CPC分类号： C07F17/02 ,  C23C16/18

摘要： Vapor deposition precursors that can deposit conformal thin ruthenium films on substrates with a very high growth rate, low resistivity and low levels of carbon, oxygen and nitrogen impurities have been provided. The precursors described herein include a compound having the formula CMC′, wherein M comprises a metal or a metalloid; C comprises a substituted or unsubstituted acyclic alkene, cycloalkene or cycloalkene-like ring structure; and C′ comprises a substituted or unsubstituted acyclic alkene, cycloalkene or cycloalkene-like ring structure; wherein at least one of C and C′ further and individually is substituted with a ligand represented by the formula CH(X)R1, wherein X is a N, P, or S-substituted functional group or hydroxyl, and R1 is hydrogen or a hydrocarbon. Methods of production of the vapor deposition precursors and the resulting films, and uses and end uses of the vapor deposition precursors and resulting films are also described.

摘要翻译： 已经提供了可以在非常高的生长速率，低电阻率和低水平的碳，氧和氮杂质的基底上沉积保形薄钌薄膜的气相沉积前体。 本文所述的前体包括具有式CMC'的化合物，其中M包含金属或准金属; C包括取代或未取代的无环烯烃，环烯烃或环烯烃环结构; 和C'包括取代或未取代的无环烯烃，环烯烃或环烯烃环结构; 其中C和C'中的至少一个进一步和单独地被式CH（X）R 1表示的配体取代，其中X是N，P或S-取代的官能团或羟基，并且R 1是氢或 烃。 还描述了气相沉积前体和所得膜的生产方法，以及气相沉积前体和所得膜的用途和最终用途。

公开(公告)号：US20120004299A1

公开(公告)日：2012-01-05

申请号：US12967522

申请日：2010-12-14

申请人： Ryan Hulse ,  Rajiv Ratna Singh ,  Martin R. Paonessa ,  Hang T. Pham ,  Mary Bogdan ,  Cliff Gittere ,  Martin Cheney ,  Linda L. Cheney

发明人： Ryan Hulse ,  Rajiv Ratna Singh ,  Martin R. Paonessa ,  Hang T. Pham ,  Mary Bogdan ,  Cliff Gittere ,  Martin Cheney ,  Linda L. Cheney

IPC分类号： A01N43/20 ,  C11B9/02 ,  A01P1/00 ,  C09K3/00 ,  A23L1/221 ,  C10M131/04 ,  C09K21/08 ,  C08G71/04 ,  C08F12/08 ,  C08F10/02 ,  A01N29/02 ,  C09K5/04

CPC分类号： A62D1/0035 ,  A01N29/02 ,  A61L2/18 ,  A62D1/0057 ,  B01F17/0021 ,  B01F17/0035 ,  B01F17/0085 ,  C07C21/18 ,  C08G18/14 ,  C08G18/664 ,  C08G18/6674 ,  C08G18/7671 ,  C08J9/125 ,  C08J9/146 ,  C08J9/149 ,  C08J2201/022 ,  C08J2203/10 ,  C08J2203/162 ,  C08J2205/052 ,  C08J2207/04 ,  C08J2375/08 ,  C09K3/00 ,  C09K3/30 ,  C09K5/044 ,  C09K5/045 ,  C09K21/08 ,  C09K2205/10 ,  C09K2205/102 ,  C09K2205/108 ,  C09K2205/122 ,  C09K2205/126 ,  C09K2205/22 ,  C09K2205/24 ,  C09K2205/32 ,  C10M131/04 ,  C10M2211/022 ,  F25B1/00 ,  F25B31/002 ,  F28C3/005 ,  F28C3/08

摘要： This invention relates to azeotrope-like compositions, methods and systems having utility in numerous applications, and in particular, uses for azeotrope-like compositions comprising effective amounts of the compound cis-1,1,1,4,4,4-hexafluoro-2-butene (Z-HFO-1336mzzm), which has the following structure: and another material selected from the group consisting of water, fluoroketones, alcohols, hydrochlorofluoroolefins, and combinations of two or more thereof. These compositions may be used in a wide variety of applications such as, blowing agents, refrigerants, heating agents, power cycle agents, cleaning agents, aerosol propellants, sterilization agents, lubricants, flavor and fragrance extractants, flammability reducing agents, and flame suppression agents.

摘要翻译： 本发明涉及在许多应用中有用的类共沸组合物，方法和系统，特别是涉及含有有效量的顺式-1,1,1,4,4,4-六氟 - 具有以下结构的2-丁烯（Z-HFO-1336mzzm）和选自水，氟代酮，醇，氢氯氟烯烃以及其两种或更多种的组合的另一种材料。 这些组合物可以用于各种应用中，例如发泡剂，制冷剂，加热剂，动力循环剂，清洁剂，气溶胶推进剂，灭菌剂，润滑剂，风味和香料萃取剂，可燃性还原剂和阻燃剂 。