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    Oxidation barrier coatings for silicon based ceramics
    3.
    发明申请
    Oxidation barrier coatings for silicon based ceramics 有权
    硅基陶瓷的氧化阻隔涂层

    公开(公告)号：US20050112381A1

    公开(公告)日：2005-05-26

    申请号：US10719629

    申请日：2003-11-21

    申请人： Derek Raybould ,  Chien-Wei Li ,  Bjoern Schenk ,  Thomas Strangman ,  Paul Chipko ,  Lee Poandl

    发明人： Derek Raybould ,  Chien-Wei Li ,  Bjoern Schenk ,  Thomas Strangman ,  Paul Chipko ,  Lee Poandl

    IPC分类号： C04B41/52 ,  C23C28/00 ,  C23C28/04 ,  F01D5/28 ,  F23R3/00 ,  B32B9/04 ,  B05D1/02 ,  B05D1/18 ,  B05D1/36

    CPC分类号： F23R3/007 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C04B41/89 ,  C23C28/042 ,  C23C28/048 ,  F01D5/288 ,  F05D2230/312 ,  F05D2300/134 ,  F05D2300/21 ,  F23M2900/05004 ,  Y10T428/30 ,  C04B35/565 ,  C04B35/584 ,  C04B41/4531 ,  C04B41/5066 ,  C04B41/4529 ,  C04B41/5059 ,  C04B41/522 ,  C04B41/4556 ,  C04B41/5035 ,  C04B41/4535 ,  C04B41/5024 ,  C04B41/5027 ,  C04B41/5045 ,  C04B41/4527 ,  C04B41/5042

    摘要： A protective barrier coating system including a diffusion barrier coating and an oxidation barrier coating and method for use in protecting silicon-based ceramic turbine engine components. A complete barrier coating system includes a thermal barrier coating of stabilized zirconia and an environmental barrier coating of an alloyed tantalum oxide. The oxidation barrier coating includes a layer of metallic silicates formed on a substrate of silicon nitride or silicon carbide to be protected. The oxidation barrier coating can include silicates of scandium, ytterbia or yttrium. The oxidation barrier coating may also include an inner layer of Si2ON2 between the diffusion barrier and the metallic silicate layer. The oxidation barrier coating can be applied to the substrate by spraying, slurry dipping and sintering, by a sol-gel process followed by sintering, by plasma spray, or by electron beam-physical vapor deposition. The diffusion layer of essentially pure Si3N4 can be applied to the substrate to prevent the migration of damaging cations from the protective layers to the substrate and is preferably formed by chemical vapor deposition. A method for protecting silicon based substrates can comprise a step of forming an oxidation barrier coating on a substrate, where a step of forming the oxidation barrier includes a step of sintering the oxidation barrier and substrate in a wet gas containing hydrogen.

    摘要翻译： 一种包括扩散阻挡涂层和氧化屏障涂层的保护性屏障涂层系统以及用于保护硅基陶瓷涡轮发动机部件的方法。 完整的阻隔涂层系统包括稳定的氧化锆的隔热涂层和合金化氧化钽的环境屏障涂层。 氧化阻挡涂层包括在待保护的氮化硅或碳化硅的衬底上形成的金属硅酸盐层。 氧化屏障涂层可以包括钪，镱或钇的硅酸盐。 氧化阻隔涂层还可以包括扩散阻挡层和金属硅酸盐层之间的Si 2 2 2 N 2的内层。 通过喷雾，浆料浸渍和烧结，通过溶胶 - 凝胶法烧结，通过等离子体喷涂，或通过电子束 - 物理气相沉积，可将氧化阻隔涂层施加到基材上。 可以将基本上纯的Si 3 N 4 N 4的扩散层施加到基底上，以防止损伤的阳离子从保护层迁移到基底，并且优选地由化学 气相沉积。 用于保护硅基基板的方法可以包括在基板上形成氧化阻挡涂层的步骤，其中形成氧化屏障的步骤包括在含氢的湿气中烧结氧化阻挡层和基板的步骤。

    Sintered silicon nitride
    5.
    发明申请
    Sintered silicon nitride 审中-公开
    烧结氮化硅

    公开(公告)号：US20080004170A1

    公开(公告)日：2008-01-03

    申请号：US11216877

    申请日：2005-08-30

    申请人： James Guiheen ,  Bjoern Schenk ,  Chien-Wei Li ,  Eric Passman

    发明人： James Guiheen ,  Bjoern Schenk ,  Chien-Wei Li ,  Eric Passman

    IPC分类号： C04B35/56 ,  C04B35/52

    CPC分类号： F01D5/284 ,  C04B35/593 ,  F05D2300/2283

    摘要： Sintered silicon nitride products comprising predominantly β-silicon nitride grains in combination with from about 0.1 to 30 mole % silicon carbide, and grain boundary secondary phases of scandium oxide and scandium disilicate. Such products have high fracture toughness, resistance to recession, and resistance to oxidation at temperatures of at least 1500° C. Methods for preparing sintered silicon nitride products are also disclosed.

    摘要翻译： 主要包含β-氮化硅颗粒与约0.1至30摩尔％的碳化硅以及钪氧化物和二硅酸钪的晶界二次相组合的烧结氮化硅产品。 这些产品在至少1500℃的温度下具有高的断裂韧性，抗后退性和耐氧化性。还公开了制备氮化硅烧结体的方法。

    Apparatus and method for issue grouping of instructions in a VLIW processor
    7.
    发明授权
    Apparatus and method for issue grouping of instructions in a VLIW processor 有权
    用于在VLIW处理器中发出指令分组的装置和方法

    公开(公告)号：US06684320B2

    公开(公告)日：2004-01-27

    申请号：US10085437

    申请日：2002-02-28

    申请人： Moataz A Mohamed ,  Chien-Wei Li ,  John R. Spence

    发明人： Moataz A Mohamed ,  Chien-Wei Li ,  John R. Spence

    IPC分类号： G06F938

    CPC分类号： G06F9/3853

    摘要： An apparatus and method for issue grouping of instructions in a VLIW processor is disclosed. There can be one, two, or three issue groups (but no greater than three issue groups) in each VLIW packet. In one embodiment, a template in the VLIW packet comprises two issue group end markers where each issue group end marker comprises three bits. The three bits in the first issue group end marker identifies the instruction which is the last instruction in the first issue group. Likewise, the three bits in the second issue group end marker identifies the instruction which is the last instruction in the second issue group. Any instructions in the VLIW packet falling outside the two expressly defined first and second issue groups are placed in a third issue group. As such, three issue groups can be identified by use of the two issue group end markers. In one embodiment, the template of the VLIW packet includes a chaining bit. The chaining bit is used to “chain” instructions appearing after the last instruction of the last issue group of a first VLIW packet to the instructions in the first issue group of a second VLIW packet. In one embodiment, a mask generation logic along with other logic blocks are utilized to generate an appropriate mask. The generated mask is used to pass through instructions in a VLIW packet which belong to a same issue group for execution in a same clock cycle.

    摘要翻译： 公开了一种在VLIW处理器中发出指令分组的装置和方法。 每个VLIW包中可能有一个，两个或三个问题组（但不超过三个问题组）。 在一个实施例中，VLIW分组中的模板包括两个问题组结束标记，其中每个发行组结束标记包括三个比特。 第一个问题组结束标记中的三个位标识指示第一个问题组中最后一条指令。 类似地，第二个问题组结束标记中的三个位标识指示第二个问题组中的最后一条指令。 落在两个明确定义的第一和第二个问题组之外的VLIW分组中的任何指令被放置在第三个问题组中。 因此，可以通过使用两个问题组结束标记来识别三个问题组。 在一个实施例中，VLIW分组的模板包括链接位。 链接位用于将出现在第一VLIW分组的最后一个问题组的最后指令之后出现的指令链接到第二VLIW分组的第一个问题组中的指令。 在一个实施例中，利用掩码生成逻辑与其他逻辑块一起生成适当的掩码。 生成的掩码用于通过属于同一问题组的VLIW数据包中的指令，以在相同的时钟周期内执行。

    Method for producing a ceramic part with an internal structure
    8.
    发明授权
    Method for producing a ceramic part with an internal structure 失效
    具有内部结构的陶瓷部件的制造方法

    公开(公告)号：US06350404B1

    公开(公告)日：2002-02-26

    申请号：US09592320

    申请日：2000-06-13

    申请人： Chien-Wei Li ,  Maria Melanie Matic

    发明人： Chien-Wei Li ,  Maria Melanie Matic

    IPC分类号： B28B126

    CPC分类号： B28B1/265 ,  B28B7/342 ,  C04B35/584 ,  C04B35/5935

    摘要： A method for forming a ceramic part with an internal structure includes aqueous slip-casting and a polystyrene foam insert. An aqueous slurry is poured over the insert to form a green body. The insert is shaped to produce the desired internal structure upon being encased by the slurry. The insert is then removed from the green body by dissolving it in trichloroethylene. Because the polystyrene foam does not expand when exposed to trichloroethylene and rapidly dissolves, build up of shrinkage stress in the green body is avoided. The green body is then sintered to produce the ceramic part with an internal structure.

    摘要翻译： 用于形成具有内部结构的陶瓷部件的方法包括水性滑移铸造和聚苯乙烯泡沫插入件。 将水性浆液倒入插入物上以形成生坯。 嵌件被成形为在被浆料包裹时产生期望的内部结构。 然后通过将其溶解在三氯乙烯中，将生物体从生坯中除去。 由于聚苯乙烯泡沫在暴露于三氯乙烯时不会膨胀并迅速溶解，因此可以避免在生坯体内形成收缩应力。 然后将生坯烧结以产生具有内部结构的陶瓷部件。

    Super tough monolithic silicon nitride
    9.
    发明授权
    Super tough monolithic silicon nitride 失效
    超坚固的单片氮化硅

    公开(公告)号：US5100847A

    公开(公告)日：1992-03-31

    申请号：US759970

    申请日：1991-09-17

    申请人： Chien-Wei Li ,  Jean Yamanis ,  Gilbert Carrasquillo

    发明人： Chien-Wei Li ,  Jean Yamanis ,  Gilbert Carrasquillo

    IPC分类号： C04B35/593

    CPC分类号： C04B35/5935

    摘要： A monolithic silicon nitride ceramic is densified at temperatures lower than 2000.degree. C. and heat treated at temperatures greater than 2000.degree. C. in the presence of at least 6.5 w % of multi-component sintering aids. This monolithic silicon nitride has a highly acicular microstructure Chevron Notch fracture toughness greater than 9 MPa.multidot.m.sup.1/2, R-curve behavior, high Weibull modulus, excellent damage tolerance, high thermal conductivity, and other desirable properties.

    摘要翻译： 整体式氮化硅陶瓷在低于2000℃的温度下致密化，并且在至少6.5w％的多组分烧结助剂的存在下，在高于2000℃的温度下进行热处理。 这种单片氮化硅具有高度针状微观结构，Chevron Notch断裂韧性大于9 MPaxm1 / 2，R-曲线行为，威布尔模量高，耐损伤性好，导热性好等优点。

    Atomic layer deposition for turbine components
    10.
    发明授权
    Atomic layer deposition for turbine components 失效
    涡轮机部件的原子层沉积

    公开(公告)号：US07285312B2

    公开(公告)日：2007-10-23

    申请号：US10759810

    申请日：2004-01-16

    申请人： Chien-Wei Li

    发明人： Chien-Wei Li

    IPC分类号： C23C14/30 ,  C23C16/32 ,  C23C16/34 ,  C23C16/36 ,  C23C16/40 ,  C23C16/42

    CPC分类号： F01D5/284 ,  C23C16/403 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45555 ,  C23C28/321 ,  C23C28/3215 ,  C23C28/325 ,  C23C28/34 ,  C23C28/341 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/42 ,  C23C30/00 ,  F01D5/288 ,  F05D2230/31 ,  F05D2230/313 ,  Y10T428/12576 ,  Y10T428/12597 ,  Y10T428/12611 ,  Y10T428/2462

    摘要： A method and superalloy component for depositing a layer of material onto gas turbine engine components by atomic layer deposition. A superalloy component may have a ceramic thermal barrier coating on at least a portion of its surface, comprising a superalloy substrate and a bonding coat; and aluminum oxide (Al2O3) layer may be deposited on top of an yttria-stabilized zirconia layer and form a bonding coat by atomic layer deposition. The yttria-stabilized zirconia layer may have a plurality of micron sized gaps extending from the top surface of the ceramic coating towards the substrate and defining a plurality of columns of the yttria-stabilized zirconia layer. Also, atomic layer deposition may be used to lay an aluminum oxide (Al2O3) layer over a tantalum oxide (Ta2O5) layer on a silicon-based substrate. Using atomic layer deposition to coat the gas turbine engine components permits conformal coating of the columnar surface to permit gap expansion and contraction without sintering of the columnar surface or spalling of the coating, and form an oxidation resistant bonding coat.

    摘要翻译： 一种用于通过原子层沉积将材料层沉积到燃气涡轮发动机部件上的方法和超合金部件。 超级合金部件可以在其表面的至少一部分上具有陶瓷热障涂层，其包括超合金基底和粘合涂层; 并且氧化铝（Al 2 O 3 3）层可以沉积在氧化钇稳定的氧化锆层的顶部上，并通过原子层沉积形成粘结层。 氧化钇稳定的氧化锆层可以具有从陶瓷涂层的顶表面朝向衬底延伸的多个微米尺寸的间隙并且限定多个氧化钇稳定的氧化锆层的柱。 此外，原子层沉积可以用于在氧化钽（Ta 2 O 3）上铺设氧化铝（Al 2 O 3 O 3）层， SUB> 5 ）层。 使用原子层沉积来涂覆燃气涡轮发动机部件允许圆柱形表面的共形涂覆以允许间隙膨胀和收缩，而不会烧结柱状表面或剥落涂层，并形成抗氧化粘合涂层。