公开(公告)号：US08020750B2

公开(公告)日：2011-09-20

申请号：US11586103

申请日：2006-10-24

申请人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

发明人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

IPC分类号： B23K20/00

CPC分类号： F16K27/003 ,  C22C19/055 ,  C22C19/07 ,  C22C38/001 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/44 ,  C22C38/58 ,  F15C5/00 ,  F16K99/0001 ,  Y10T29/41 ,  Y10T29/49144 ,  Y10T29/49405 ,  Y10T29/49425 ,  Y10T29/49906

摘要： A space-conserving integrated fluid delivery system which is particularly useful for gas distribution in semiconductor processing equipment. The invention also includes an integrated fluid flow network architecture, which may include, in addition to a layered substrate containing fluid flow channels, various fluid handling and monitoring components. The layered substrate is diffusion bonded, and may be partially integrated or fully integrated into a processing chamber which also includes diffusion bonded layers.

摘要翻译： 一种节省空间的集成流体输送系统，其特别适用于半导体加工设备中的气体分配。 本发明还包括集成流体流网络结构，除了包含流体流动通道的分层基板之外，还可以包括各种流体处理和监测部件。 层状衬底是扩散接合的，并且可以部分地集成或完全集成到还包括扩散接合层的处理室中。

公开(公告)号：US07559527B2

公开(公告)日：2009-07-14

申请号：US11788428

申请日：2007-04-19

申请人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

发明人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

IPC分类号： F16K31/00

CPC分类号： F16K27/003 ,  C22C19/055 ,  C22C19/07 ,  C22C38/001 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/44 ,  C22C38/58 ,  F15C5/00 ,  F16K99/0001 ,  Y10T29/41 ,  Y10T29/49144 ,  Y10T29/49405 ,  Y10T29/49425 ,  Y10T29/49906

摘要： A space-conserving integrated fluid delivery system which is particularly useful for gas distribution in semiconductor processing equipment. The fluid delivery system includes an integrated fluid flow network architecture, which may include, in addition to a layered substrate containing fluid flow channels, various fluid handling and monitoring components. The layered substrate is diffusion bonded, and the various fluid handling and monitoring components may be partially integrated or fully integrated into the substrate, depending on design and material requirements.

摘要翻译： 一种节省空间的集成流体输送系统，其特别适用于半导体加工设备中的气体分配。 流体输送系统包括集成的流体流动网络结构，除了含有流体流动通道的分层基底之外，还可以包括各种流体处理和监测部件。 分层基板是扩散接合的，并且根据设计和材料要求，各种流体处理和监测部件可以部分地集成或完全集成到基板中。

公开(公告)号：US07850786B2

公开(公告)日：2010-12-14

申请号：US11582748

申请日：2006-10-17

申请人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

发明人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

IPC分类号： C23G1/00 ,  C23G1/08 ,  C23G1/14 ,  C23G1/19 ,  B08B3/08 ,  B08B3/10

CPC分类号： F16K27/003 ,  C22C19/055 ,  C22C19/07 ,  C22C38/001 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/44 ,  C22C38/58 ,  F15C5/00 ,  F16K99/0001 ,  Y10T29/41 ,  Y10T29/49144 ,  Y10T29/49405 ,  Y10T29/49425 ,  Y10T29/49906

摘要： Described is a space-conserving integrated fluid delivery system particularly useful for gas distribution in semiconductor processing equipment. The system includes integrated fluid flow network architecture, and may include, in addition to a layered substrate containing fluid flow channels, various fluid handling and monitoring components. The layered substrate is diffusion bonded. Subsequent to diffusion bonding, a stainless steel diffusion bonded part may advantageously be treated to enhance corrosion resistance using a series of steps designed to bring more chromium to the surface of the steel.

摘要翻译： 描述了对于半导体加工设备中的气体分布特别有用的节省空间的集成流体输送系统。 该系统包括集成流体流网络结构，并且除了包含流体流动通道的分层基板之外，还可以包括各种流体处理和监测部件。 层状衬底是扩散接合的。 在扩散接合之后，可以使用一系列设计成将更多的铬带到钢的表面的步骤，可以有利地处理不锈钢扩散接合部分以增强耐腐蚀性。

公开(公告)号：US08017028B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US12287772

申请日：2008-10-14

申请人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

发明人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

IPC分类号： C03C25/68

CPC分类号： F16K99/0001 ,  F16K27/003 ,  F16K99/0015 ,  F16K99/0028 ,  F16K99/0059 ,  F16K2099/0074 ,  F16K2099/0076

摘要： A space-conserving integrated fluid delivery system which is particularly useful for gas distribution in semiconductor processing equipment. The invention also includes an integrated fluid flow network architecture, which may include, in addition to a layered substrate containing fluid flow channels, various fluid handling and monitoring components. The layered substrate is diffusion bonded, and the various fluid handling and monitoring components may be partially integrated or fully integrated into the substrate, depending on design and material requirements.

摘要翻译： 提高具有抗化学蚀刻的微结构的金属的蚀刻性的方法（例如HASTELLOY C-22）。 这是通过暂时去除提供对金属的耐腐蚀性的微结构来实现的。 通过热处理金属去除微结构。 化学蚀刻后，通过热处理将微结构恢复到其原始的耐腐蚀性。

公开(公告)号：US07459003B2

公开(公告)日：2008-12-02

申请号：US11542829

申请日：2006-10-03

申请人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

发明人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

IPC分类号： B01D46/00

CPC分类号： F16K27/003 ,  C22C19/055 ,  C22C19/07 ,  C22C38/001 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/44 ,  C22C38/58 ,  F15C5/00 ,  F16K99/0001 ,  Y10T29/41 ,  Y10T29/49144 ,  Y10T29/49405 ,  Y10T29/49425 ,  Y10T29/49906

摘要： A space-conserving integrated fluid delivery system which is particularly useful for gas distribution in semiconductor processing equipment. The invention pertains to a diffusion bonded integrated fluid flow network architecture, which includes, in addition to a layered substrate containing fluid flow channels, an in-line filter and may include various fluid handling and monitoring components. The integrated fluid delivery system that is formed from a layered substrate is diffusion bonded, and the various fluid handling and monitoring components may be partially integrated or fully integrated into the substrate, depending on design and material requirements.

摘要翻译： 一种节省空间的集成流体输送系统，其特别适用于半导体加工设备中的气体分配。 本发明涉及一种扩散结合的集成流体流动网络结构，其包括除含有流体流动通道的层状基底之外的在线过滤器，并且可以包括各种流体处理和监测部件。 由分层基板形成的集成流体输送系统是扩散接合的，并且根据设计和材料要求，各种流体处理和监测部件可以部分地集成或完全集成到基板中。

公开(公告)号：US07448276B2

公开(公告)日：2008-11-11

申请号：US11509507

申请日：2006-08-23

申请人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

发明人： Mark Crockett ,  John W. Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe N. Mohammed

IPC分类号： G01L9/12

CPC分类号： F16K27/003 ,  C22C19/055 ,  C22C19/07 ,  C22C38/001 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/44 ,  C22C38/58 ,  F15C5/00 ,  F16K99/0001 ,  Y10T29/41 ,  Y10T29/49144 ,  Y10T29/49405 ,  Y10T29/49425 ,  Y10T29/49906

摘要： A diffusion bonded space-conserving integrated fluid delivery system which is particularly useful for gas distribution in semiconductor processing equipment. The disclosure includes an integrated fluid flow network architecture, which may include, in addition to a layered substrate containing fluid flow channels, various fluid handling and monitoring components. A capacitive dual electrode pressure sensor which is integrated into a multilayered substrate is described. The pressure sensor may be used as a gage relative to atmospheric pressure if desired for a particular application.

摘要翻译： 一种扩散保温空间节约综合流体输送系统，对于半导体加工设备中的气体分布特别有用。 本公开包括集成流体流网络架构，除了包含流体流动通道的分层基板之外，还可以包括各种流体处理和监测部件。 描述了集成到多层基板中的电容双电极压力传感器。 如果特定应用需要，压力传感器可以用作相对于大气压的量具。

公开(公告)号：US20070062021A1

公开(公告)日：2007-03-22

申请号：US11586103

申请日：2006-10-24

申请人： Mark Crockett ,  John Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe Mohammed

发明人： Mark Crockett ,  John Lane ,  Micahel DeChellis ,  Chris Melcer ,  Erica Porras ,  Aneesh Khullar ,  Balarabe Mohammed

IPC分类号： B21D35/00

CPC分类号： F16K27/003 ,  C22C19/055 ,  C22C19/07 ,  C22C38/001 ,  C22C38/02 ,  C22C38/04 ,  C22C38/44 ,  C22C38/58 ,  F15C5/00 ,  F16K99/0001 ,  Y10T29/41 ,  Y10T29/49144 ,  Y10T29/49405 ,  Y10T29/49425 ,  Y10T29/49906

摘要： The disclosure pertains to a space-conserving integrated fluid delivery system which is particularly useful for gas distribution in semiconductor processing equipment. The present invention also pertains to an integrated fluid flow network architecture, which may include, in addition to a layered substrate containing fluid flow channels, various fluid handling and monitoring components. The layered substrate is diffusion bonded, and the various fluid handling and monitoring components may be partially integrated or fully integrated into the substrate, depending on design and material requirements.

摘要翻译： 本公开涉及一种节省空间的集成流体输送系统，其特别适用于半导体加工设备中的气体分配。 本发明还涉及一种集成流体流网络结构，除了包含流体流动通道的分层基板之外，还可以包括各种流体处理和监测部件。 分层基板是扩散接合的，并且根据设计和材料要求，各种流体处理和监测部件可以部分地集成或完全集成到基板中。