公开(公告)号：US20060126041A1

公开(公告)日：2006-06-15

申请号：US11012062

申请日：2004-12-15

申请人： Antonius Van Dijsseldonk ,  Mustafa Amhaouch ,  Wilhelmus Box ,  Johannes Jacobs ,  Hernes Jacobs ,  Marius Ravensbergen ,  Martinus Arnoldus Terken ,  Robert Livesey ,  Franciscus Catharina Van Vroonhoven

发明人： Antonius Van Dijsseldonk ,  Mustafa Amhaouch ,  Wilhelmus Box ,  Johannes Jacobs ,  Hernes Jacobs ,  Marius Ravensbergen ,  Martinus Arnoldus Terken ,  Robert Livesey ,  Franciscus Catharina Van Vroonhoven

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70841 ,  G03F7/70991

摘要： A vacuum operated lithographic apparatus is disclosed. The apparatus includes a vacuum housing for providing a vacuum environment to a support constructed to support a patterning device, or a substrate table, or a projection system, or any combination thereof. An interior of the vacuum housing includes a plurality of transport circuits for transporting fluids and/or electrical signals for use in a first process mode for lithographic processing. At least one of the transport circuits is adapted to transport energy towards the interior of the vacuum housing to stimulate outgassing in the vacuum housing for use in a second process mode for bringing the lithographic apparatus into a vacuum operating condition.

摘要翻译： 公开了一种真空操作的光刻设备。 该装置包括用于向构造成支撑图案形成装置的支撑件，或衬底台，或投影系统或其任何组合提供真空环境的真空壳体。 真空壳体的内部包括用于输送用于光刻处理的第一工艺模式的流体和/或电信号的多个输送电路。 传送电路中的至少一个适于将能量传送到真空壳体的内部，以刺激真空壳体中的除气，以用于使光刻设备进入真空操作状态的第二工艺模式。

公开(公告)号：US20050052631A1

公开(公告)日：2005-03-10

申请号：US10875511

申请日：2004-06-25

申请人： Barrie Brewster ,  Robert Livesey ,  Johannes Jacobs

发明人： Barrie Brewster ,  Robert Livesey ,  Johannes Jacobs

IPC分类号： H01L21/027 ,  F16J15/04 ,  F16J15/44 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70808 ,  F16J15/04 ,  F16J15/443 ,  G03F7/70841

摘要： A sealing assembly for sealing a slit between two regions in a lithographic apparatus is disclosed. The assembly includes a vacuum pumping device that extends substantially in a longitudinal slit direction for at least partially preventing particle transmission in a transversal slit direction.

摘要翻译： 公开了一种用于在光刻设备中的两个区域之间密封狭缝的密封组件。 该组件包括基本上沿纵向狭缝方向延伸以至少部分地防止在横向狭缝方向上的颗粒传播的真空泵送装置。

公开(公告)号：US20050019709A1

公开(公告)日：2005-01-27

申请号：US10797664

申请日：2004-03-11

申请人： Pieter Van Groos ,  Jan Hoogkamp ,  Josephus Vugts ,  Robert Livesey ,  Johannes Franssen ,  Albert Klomp ,  Johannes Petrus Vermeulen ,  Erik Loopstra

发明人： Pieter Van Groos ,  Jan Hoogkamp ,  Josephus Vugts ,  Robert Livesey ,  Johannes Franssen ,  Albert Klomp ,  Johannes Petrus Vermeulen ,  Erik Loopstra

IPC分类号： H01L21/677 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H01L21/683 ,  G03F9/00

CPC分类号： G03F7/70975 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70991

摘要： A method of and apparatus for maintaining a machine part arranged in an interior space of a machine, where the interior space is kept at a first pressure and is separated from an environment having a second pressure via a load lock. The method includes transporting a machine part via the load lock out of the interior space and transporting via the load lock into the interior space one of the maintained machine part and a separate replacement machine part.

摘要翻译： 一种用于保持设置在机器的内部空间中的机器部件的方法和设备，其中内部空间保持在第一压力并且经由负载锁定与具有第二压力的环境分离。 该方法包括通过装载锁将机器部件运送出内部空间，并通过装载锁将其运送到维护的机器部件之一的内部空间和单独的替换机器部件中。

公开(公告)号：US3952442A

公开(公告)日：1976-04-27

申请号：US565186

申请日：1975-04-04

申请人： James Robert Livesey ,  Felix Griauzde

发明人： James Robert Livesey ,  Felix Griauzde

IPC分类号： A63H17/00 ,  A63H17/26

CPC分类号： A63H17/008

摘要： One end of an elongated launcher is placed on a rearwardly, downwardly sloping roof portion of a toy vehicle. The other end of the launcher is placed on the floor behind the vehicle so a child user may launch the vehicle by stepping on the launcher.

摘要翻译： 细长发射器的一端被放置在玩具车辆的向后，向下倾斜的屋顶部分上。 发射器的另一端放置在车辆后面的地板上，以便儿童用户可以通过踩下发射器来发射车辆。

公开(公告)号：US20060268246A1

公开(公告)日：2006-11-30

申请号：US11391731

申请日：2006-03-29

申请人： Johannes Jacobs ,  Vadim Banine ,  Barrie Brewster ,  Vladimir Ivanov ,  Bastiaan Mertens ,  Johannes Moors ,  Robert Livesey ,  Baastiaan Wolschrijn

发明人： Johannes Jacobs ,  Vadim Banine ,  Barrie Brewster ,  Vladimir Ivanov ,  Bastiaan Mertens ,  Johannes Moors ,  Robert Livesey ,  Baastiaan Wolschrijn

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70908

摘要： A lithographic apparatus is configured to project a pattern from a patterning device onto a substrate. The apparatus includes a gas purged sealing aperture extending between at least two different zones of the apparatus, and a gas supplier configured to supply the sealing aperture one or more gases selected from a group including hydrogen, deuterium, heavy hydrogen, deuterated hydrogen, and a mixture of argon and hydrogen.

摘要翻译： 光刻设备被配置为将图案从图案形成装置投影到基板上。 该装置包括在装置的至少两个不同区域之间延伸的气体净化密封孔，以及构造成为密封孔提供一种或多种选自包括氢，氘，重氢，氘代氢和 氩和氢的混合物。

公开(公告)号：US20060221314A1

公开(公告)日：2006-10-05

申请号：US11091926

申请日：2005-03-29

申请人： Johannes Wilhelmus Jacobs ,  Barrie Brewster ,  Robert Livesey

发明人： Johannes Wilhelmus Jacobs ,  Barrie Brewster ,  Robert Livesey

IPC分类号： G03B27/52

CPC分类号： G03F7/70933

摘要： A lithographic apparatus includes a patterning device for patterning a beam of radiation, a projection system for projecting the patterned beam of radiation onto a substrate, a gas purged sealing aperture extending between different zones of the apparatus, and a gas supply arrangement for supplying a mixture of at least argon and hydrogen to the sealing aperture.