公开(公告)号：US20070143032A1

公开(公告)日：2007-06-21

申请号：US11522783

申请日：2006-09-15

申请人： Fokko Wieringa ,  Norbertus Koster ,  Roland Van Vliet ,  Marco Wedowski ,  Nadyeh Shariloo ,  Thomas Stein

发明人： Fokko Wieringa ,  Norbertus Koster ,  Roland Van Vliet ,  Marco Wedowski ,  Nadyeh Shariloo ,  Thomas Stein

IPC分类号： G01N31/00

CPC分类号： G01N31/22 ,  A61B90/70 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925

摘要： There is provided an apparatus that includes a film that undergoes a chemical reaction when exposed to a species. The chemical reaction causes an alteration of a physical property of the film as an indicator of the species.

摘要翻译： 提供了一种装置，其包括当暴露于物种时经历化学反应的膜。 化学反应导致膜的物理性质的改变作为物种的指示剂。

公开(公告)号：US08961694B2

公开(公告)日：2015-02-24

申请号：US12520327

申请日：2007-12-21

申请人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

发明人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

IPC分类号： B08B6/00 ,  B08B3/00 ,  H01L21/306 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01J37/3266 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32623 ,  H01J2237/335

摘要： The invention relates to a plasma generator (1) for cleaning an object. The plasma generator (1) comprises a plasma chamber (2) and a support structure (6) arranged in the plasma chamber for supporting the object (7) to be cleaned. Further, the plasma generator comprises an electromagnetic shield (5a, 5b, 5c) counteracting a flow of charged plasma particles flowing from a plasma generating region towards the object, and a plasma source (8). In addition, the plasma generator comprises an additional plasma source (9,10) to form a composition of plasma sources that are arranged to generate in the plasma generating region plasmas, respectively, that mutually interact during operation of the plasma generator so as to force plasma particles to flow in a diffusely closed flow path.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于清洁物体的等离子体发生器（1）。 等离子体发生器（1）包括等离子体室（2）和布置在等离子体室中的支撑结构（6），用于支撑待清洁的物体（7）。 此外，等离子体发生器包括抵抗从等离子体产生区域朝向物体流动的带电等离子体粒子的流动的电磁屏蔽（5a，5b，5c）和等离子体源（8）。 此外，等离子体发生器包括附加的等离子体源（9,10），以形成等离子体源的组成，其被布置成分别在等离子体产生区等离子体中产生，这些等离子体在等离子体发生器的操作期间相互作用，从而迫使 等离子体颗粒在弥漫闭合的流动路径中流动。

公开(公告)号：US20100059085A1

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：US12520327

申请日：2007-12-21

申请人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

发明人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

IPC分类号： B08B6/00

CPC分类号： H01J37/3266 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32623 ,  H01J2237/335

摘要： The invention relates to a plasma generator (1) for cleaning an object. The plasma generator (1) comprises a plasma chamber (2) and a support structure (6) arranged in the plasma chamber for supporting the object (7) to be cleaned. Further, the plasma generator comprises an electromagnetic shield (5a, 5b, 5c) counteracting a flow of charged plasma particles flowing from a plasma generating region towards the object, and a plasma source (8). In addition, the plasma generator comprises an additional plasma source (9,10) to form a composition of plasma sources that are arranged to generate in the plasma generating region plasmas, respectively, that mutually interact during operation of the plasma generator so as to force plasma particles to flow in a diffusely closed flow path.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于清洁物体的等离子体发生器（1）。 等离子体发生器（1）包括等离子体室（2）和布置在等离子体室中的支撑结构（6），用于支撑待清洁的物体（7）。 此外，等离子体发生器包括抵抗从等离子体产生区域朝向物体流动的带电等离子体粒子的流动的电磁屏蔽（5a，5b，5c）和等离子体源（8）。 此外，等离子体发生器包括附加的等离子体源（9,10），以形成等离子体源的组成，其被布置成分别在等离子体产生区等离子体中产生，这些等离子体在等离子体发生器的操作期间相互作用，从而迫使 等离子体颗粒在弥漫闭合的流动路径中流动。