公开(公告)号：US20100029080A1

公开(公告)日：2010-02-04

申请号：US11910668

申请日：2006-03-08

申请人： Michael Kröll ,  Stefan Heberer ,  Stipan Katusic ,  Michael Krämer ,  Wolfgand Lortz

发明人： Michael Kröll ,  Stefan Heberer ,  Stipan Katusic ,  Michael Krämer ,  Wolfgand Lortz

IPC分类号： C09G1/02 ,  C09K3/14 ,  H01L21/3105 ,  C09K13/00

CPC分类号： C09K3/1463 ,  C09G1/02 ,  H01L21/31053

摘要： Aqueous cerium oxide dispersion Aqueous cerium oxide dispersion, containing 5 to 60% by weight cerium oxide. It can be used to polish SiO2 in the semiconductor industry.

摘要翻译： 二氧化铈水分散体含有5〜60重量％的氧化铈的二氧化铈水分散液。 它可用于在半导体工业中抛光SiO2。