公开(公告)号：USD570651S1

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：US29299143

申请日：2007-12-20

Applicant: Yu Peng Lin

Designer： Yu Peng Lin

公开(公告)号：US20100176306A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：US12416725

申请日：2009-04-01

Applicant: Yu-Peng LIN ,  Wei-Ming YOU ,  Ruey-Yong DENG ,  Jiunn-Nan LIN ,  Sheng-Chien TUNG ,  Pin Chia SU

Inventor： Yu-Peng LIN ,  Wei-Ming YOU ,  Ruey-Yong DENG ,  Jiunn-Nan LIN ,  Sheng-Chien TUNG ,  Pin Chia SU

IPC: H01J27/00 ,  H01J37/08

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/006 ,  H01L21/26513

Abstract: A method comprises supplying a dopant gas in an arc chamber of an ion source. A dilutant is supplied to dilute the dopant gas. The dilutant comprises about 98.5 wt. % xenon and about 1.5 wt. % hydrogen. An ion beam is generated from the diluted dopant gas using the ion source.

Abstract translation: 一种方法包括在离子源的电弧室中提供掺杂气体。 供给稀释剂以稀释掺杂气体。 稀释剂包含约98.5wt。 ％氙和约1.5wt。 ％氢。 使用离子源从稀释的掺杂气体产生离子束。

公开(公告)号：US07973293B2

公开(公告)日：2011-07-05

申请号：US12416725

申请日：2009-04-01

Applicant: Yu-Peng Lin ,  Wei-Ming You ,  Ruey-Yong Deng ,  Jiunn-Nan Lin ,  Sheng-Chien Tung ,  Pin Chia Su

Inventor： Yu-Peng Lin ,  Wei-Ming You ,  Ruey-Yong Deng ,  Jiunn-Nan Lin ,  Sheng-Chien Tung ,  Pin Chia Su

IPC: H01J37/317

CPC classification number: H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/006 ,  H01L21/26513

Abstract: A method comprises supplying a dopant gas in an arc chamber of an ion source. A dilutant is supplied to dilute the dopant gas. The dilutant comprises about 98.5 wt. % xenon and about 1.5 wt. % hydrogen. An ion beam is generated from the diluted dopant gas using the ion source.

Abstract translation: 一种方法包括在离子源的电弧室中提供掺杂气体。 供给稀释剂以稀释掺杂气体。 稀释剂包含约98.5wt。 ％氙和约1.5wt。 ％氢。 使用离子源从稀释的掺杂气体产生离子束。