公开(公告)号：US07973293B2

公开(公告)日：2011-07-05

申请号：US12416725

申请日：2009-04-01

申请人： Yu-Peng Lin ,  Wei-Ming You ,  Ruey-Yong Deng ,  Jiunn-Nan Lin ,  Sheng-Chien Tung ,  Pin Chia Su

发明人： Yu-Peng Lin ,  Wei-Ming You ,  Ruey-Yong Deng ,  Jiunn-Nan Lin ,  Sheng-Chien Tung ,  Pin Chia Su

IPC分类号： H01J37/317

CPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/006 ,  H01L21/26513

摘要： A method comprises supplying a dopant gas in an arc chamber of an ion source. A dilutant is supplied to dilute the dopant gas. The dilutant comprises about 98.5 wt. % xenon and about 1.5 wt. % hydrogen. An ion beam is generated from the diluted dopant gas using the ion source.

摘要翻译： 一种方法包括在离子源的电弧室中提供掺杂气体。 供给稀释剂以稀释掺杂气体。 稀释剂包含约98.5wt。 ％氙和约1.5wt。 ％氢。 使用离子源从稀释的掺杂气体产生离子束。

公开(公告)号：US20070161320A1

公开(公告)日：2007-07-12

申请号：US11330225

申请日：2006-01-12

申请人： Jiunn-Nan Lin ,  Ruey-Yong Deng

发明人： Jiunn-Nan Lin ,  Ruey-Yong Deng

IPC分类号： H01J9/00 ,  H01J9/46 ,  H01J9/18

CPC分类号： H01J9/18 ,  H01J27/024 ,  Y10T403/32229 ,  Y10T403/32581 ,  Y10T403/335 ,  Y10T403/75

摘要： An alignment device for aligning a second aperture in a second plate with a first aperture in a first plate and an alignment method of utilizing the same. The alignment device includes a main body, a first part extending from the main body, and a second part extending from the first part. The main body comprises a first linear dimension exceeding a width of the second aperture for disposing overlying the second plate. The first part comprises a second linear dimension for extending and fitting into the second aperture. The second part comprises a third linear dimension for extending and fitting into the first aperture.

摘要翻译： 用于将第二板中的第二孔与第一板中的第一孔对准的对准装置和利用其的对准方法。 对准装置包括主体，从主体延伸的第一部分和从第一部分延伸的第二部分。 主体包括超过第二孔的宽度的第一线性尺寸，用于布置在第二板上。 第一部分包括用于延伸和装配到第二孔中的第二直线尺寸。 第二部分包括用于延伸和装配到第一孔中的第三线性尺寸。

公开(公告)号：US08172635B2

公开(公告)日：2012-05-08

申请号：US11330225

申请日：2006-01-12

申请人： Jiunn-Nan Lin ,  Ruey-Yong Deng

发明人： Jiunn-Nan Lin ,  Ruey-Yong Deng

IPC分类号： H01J9/00

CPC分类号： H01J9/18 ,  H01J27/024 ,  Y10T403/32229 ,  Y10T403/32581 ,  Y10T403/335 ,  Y10T403/75

摘要： An alignment device for aligning a second aperture in a second plate with a first aperture in a first plate and an alignment method of utilizing the same. The alignment device includes a main body, a first part extending from the main body, and a second part extending from the first part. The main body comprises a first linear dimension exceeding a width of the second aperture for disposing overlying the second plate. The first part comprises a second linear dimension for extending and fitting into the second aperture. The second part comprises a third linear dimension for extending and fitting into the first aperture.

摘要翻译： 用于将第二板中的第二孔与第一板中的第一孔对准的对准装置和利用其的对准方法。 对准装置包括主体，从主体延伸的第一部分和从第一部分延伸的第二部分。 主体包括超过第二孔的宽度的第一线性尺寸，用于布置在第二板上。 第一部分包括用于延伸和装配到第二孔中的第二直线尺寸。 第二部分包括用于延伸和装配到第一孔中的第三线性尺寸。

公开(公告)号：US20100176306A1

公开(公告)日：2010-07-15

申请号：US12416725

申请日：2009-04-01

申请人： Yu-Peng LIN ,  Wei-Ming YOU ,  Ruey-Yong DENG ,  Jiunn-Nan LIN ,  Sheng-Chien TUNG ,  Pin Chia SU

发明人： Yu-Peng LIN ,  Wei-Ming YOU ,  Ruey-Yong DENG ,  Jiunn-Nan LIN ,  Sheng-Chien TUNG ,  Pin Chia SU

IPC分类号： H01J27/00 ,  H01J37/08

CPC分类号： H01J37/08 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/006 ,  H01L21/26513

摘要： A method comprises supplying a dopant gas in an arc chamber of an ion source. A dilutant is supplied to dilute the dopant gas. The dilutant comprises about 98.5 wt. % xenon and about 1.5 wt. % hydrogen. An ion beam is generated from the diluted dopant gas using the ion source.

摘要翻译： 一种方法包括在离子源的电弧室中提供掺杂气体。 供给稀释剂以稀释掺杂气体。 稀释剂包含约98.5wt。 ％氙和约1.5wt。 ％氢。 使用离子源从稀释的掺杂气体产生离子束。