公开(公告)号：US20130055952A1

公开(公告)日：2013-03-07

申请号：US13598828

申请日：2012-08-30

申请人： ANANTHA K. SUBRAMANI ,  JOSEPH M. RANISH ,  XIAOXIONG YUAN ,  ASHISH GOEL ,  JOUNG JOO LEE

发明人： ANANTHA K. SUBRAMANI ,  JOSEPH M. RANISH ,  XIAOXIONG YUAN ,  ASHISH GOEL ,  JOUNG JOO LEE

IPC分类号： H01L21/461 ,  B23Q3/00

CPC分类号： H01L21/67115 ,  C23C14/541 ,  C23C16/481 ,  H01L21/67248 ,  H01L21/68735 ,  H01L21/68742

摘要： Apparatus for improving temperature uniformity across a substrate are provided herein. In some embodiments, a deposition ring for use in a substrate processing system to process a substrate may include an annular body having a first surface, an opposing second surface, and a central opening passing through the first and second surfaces, wherein the second surface is configured to be disposed over a substrate support having a support surface to support a substrate having a given width, and wherein the opening is sized to expose a predominant portion of the support surface; and wherein the first surface includes at least one reflective portion configured to reflect heat energy toward a central axis of the annular body, wherein the at least one reflective portion has a surface area that is about 5 to about 50 percent of a total surface area of the first surface.

摘要翻译： 本文提供了用于提高基板上的温度均匀性的装置。 在一些实施例中，用于处理衬底的衬底处理系统中的沉积环可以包括具有第一表面，相对的第二表面和穿过第一表面和第二表面的中心开口的环形体，其中第二表面是 被配置为设置在具有支撑表面的基板支撑件上，以支撑具有给定宽度的基板，并且其中所述开口的尺寸设定成暴露所述支撑表面的主要部分; 并且其中所述第一表面包括至少一个反射部分，所述至少一个反射部分构造成朝向所述环形体的中心轴线反射热能，其中所述至少一个反射部分的表面积为所述环形体的总表面积的约5至约50％ 第一个表面。