公开(公告)号：US20150186582A1

公开(公告)日：2015-07-02

申请号：US14577901

申请日：2014-12-19

Applicant: ASML NETHERLANDS B.V.

Inventor： Guangqing CHEN ,  Justin GHAN ,  David Harold WHYSONG

IPC: G06F17/50

CPC classification number: G06F17/5068 ,  G03F7/70625 ,  G03F7/70633 ,  G03F7/70641 ,  G03F7/70683 ,  G03F9/7046 ,  G03F9/7076

Abstract: A method of metrology target design is described. The method includes providing a range or a plurality of values for design parameter of a metrology target and by a processor, selecting, by solving for and/or sampling within the range or the plurality of values for the design parameters, a plurality of metrology target designs having one or more design parameters meeting a constraint for a design parameter of the metrology target.

Abstract translation: 描述了一种计量目标设计方法。 该方法包括提供测量目标的设计参数的范围或多个值，并且由处理器通过在设计参数的范围或多个值内求解和/或采样来选择多个度量目标 具有满足度量目标的设计参数的约束的一个或多个设计参数的设计。