公开(公告)号：US09323149B2

公开(公告)日：2016-04-26

申请号：US14187649

申请日：2014-02-24

申请人： Alex Philip Graham Robinson ,  Jon Andrew Preece ,  Richard Edward Palmer ,  Andreas Frommhold ,  Dongxu Yang ,  Alexandra McClelland ,  Drew Athans ,  Xiang Xue

发明人： Alex Philip Graham Robinson ,  Jon Andrew Preece ,  Richard Edward Palmer ,  Andreas Frommhold ,  Dongxu Yang ,  Alexandra McClelland ,  Drew Athans ,  Xiang Xue

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  G03F7/38

CPC分类号： G03F7/0384 ,  A61B5/042 ,  A61B5/065 ,  A61B5/6852 ,  A61B5/7221 ,  A61B34/20 ,  A61B2505/03 ,  A61B2505/05 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/38 ,  Y02P70/521

摘要： The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative-type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays. Negative photosensitive compositions are also disclosed.

摘要翻译： 本公开内容涉及新型甲基富勒烯衍生物，由其制备的负型光致抗蚀剂组合物及其使用方法。 衍生物，它们的光致抗蚀剂组合物和方法对于使用例如紫外线辐射，超出极紫外辐射，极紫外辐射，X射线和带电粒子射线的精细图案处理是理想的。 还公开了负光敏组合物。

公开(公告)号：US20140255849A1

公开(公告)日：2014-09-11

申请号：US14187649

申请日：2014-02-24

申请人： Alex Philip Graham Robinson ,  Jon Andrew Preece ,  Richard Edward Palmer ,  Andreas Frommhold ,  Dongxu Yang ,  Alexandra McClelland ,  Drew Athans ,  Xiang Xue

发明人： Alex Philip Graham Robinson ,  Jon Andrew Preece ,  Richard Edward Palmer ,  Andreas Frommhold ,  Dongxu Yang ,  Alexandra McClelland ,  Drew Athans ,  Xiang Xue

IPC分类号： G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0384 ,  A61B5/042 ,  A61B5/065 ,  A61B5/6852 ,  A61B5/7221 ,  A61B34/20 ,  A61B2505/03 ,  A61B2505/05 ,  G03F7/038 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/2024 ,  G03F7/38 ,  Y02P70/521

摘要： The present disclosure relates to novel methanofullerene derivatives, negative-type photoresist compositions prepared therefrom and methods of using them. The derivatives, their photoresist compositions and the methods are ideal for fine pattern processing using, for example, ultraviolet radiation, beyond extreme ultraviolet radiation, extreme ultraviolet radiation, X-rays and charged particle rays. Negative photosensitive compositions are also disclosed.

摘要翻译： 本公开内容涉及新型甲基富勒烯衍生物，由其制备的负型光致抗蚀剂组合物及其使用方法。 衍生物，它们的光致抗蚀剂组合物和方法对于使用例如紫外线辐射，超出极紫外辐射，极紫外辐射，X射线和带电粒子射线的精细图案处理是理想的。 还公开了负光敏组合物。