公开(公告)号：US20100141909A1

公开(公告)日：2010-06-10

申请号：US12519077

申请日：2007-11-27

申请人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailòvitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer ,  Denis Alexandrovich Glushkov

发明人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailòvitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer ,  Denis Alexandrovich Glushkov

IPC分类号： G03B27/54 ,  G21K5/04

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70983 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005

摘要： A radiation system for generating a beam of radiation that defines an optical axis is provided. The radiation system includes a plasma produced discharge source for generating EUV radiation. The discharge source includes a pair of electrodes constructed and arranged to be provided with a voltage difference, and a system for producing a plasma between the pair of electrodes so as to provide a discharge in the plasma between the electrodes. The radiation system also includes a debris catching shield for catching debris from the electrodes. The debris catching shield is constructed and arranged to shield the electrodes from a line of sight provided in a predetermined spherical angle relative the optical axis, and to provide an aperture to a central area between the electrodes in the line of sight.

摘要翻译： 提供了一种用于产生限定光轴的辐射束的辐射系统。 辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。 放电源包括一对构造和布置成具有电压差的电极，以及用于在一对电极之间产生等离子体的系统，以便在电极之间的等离子体中提供放电。 辐射系统还包括用于从电极捕获碎屑的碎片捕获屏蔽。 碎片捕捉屏蔽被构造和布置成屏蔽电极与相对于光轴以预定球面角度提供的视线，并为视线中的电极之间的中心区域提供孔。

公开(公告)号：US07696492B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US11637936

申请日：2006-12-13

申请人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer

发明人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer

IPC分类号： A61N5/00 ,  G21G5/00

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70983 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005

摘要： A radiation system for generating a beam of radiation that defines an optical axis is provided. The radiation system includes a plasma produced discharge source for generating EUV radiation. The discharge source includes a pair of electrodes constructed and arranged to be provided with a voltage difference, and a system for producing a plasma between the pair of electrodes so as to provide a discharge in the plasma between the electrodes. The radiation system also includes a debris catching shield for catching debris from the electrodes. The debris catching shield is constructed and arranged to shield the electrodes from a line of sight provided in a predetermined spherical angle relative the optical axis, and to provide an aperture to a central area between the electrodes in the line of sight.

摘要翻译： 提供了一种用于产生限定光轴的辐射束的辐射系统。 辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。 放电源包括一对构造和布置成具有电压差的电极，以及用于在一对电极之间产生等离子体的系统，以便在电极之间的等离子体中提供放电。 辐射系统还包括用于从电极捕获碎屑的碎片捕获屏蔽。 碎片捕捉屏蔽被构造和布置成屏蔽电极与相对于光轴以预定球面角度提供的视线，并为视线中的电极之间的中心区域提供孔。

公开(公告)号：US20080142736A1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：US11637936

申请日：2006-12-13

申请人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer

发明人： Arnoud Cornelis Wassink ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Theodorus Petrus Maria Cadee ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun ,  Derk Jan Wilfred Klunder ,  Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Paul Peter Anna Antonius Brom ,  Wouter Anthon Soer

IPC分类号： G21K5/00 ,  H05G2/00

CPC分类号： G03F7/70933 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70883 ,  G03F7/70916 ,  G03F7/70925 ,  G03F7/70983 ,  H05G2/003 ,  H05G2/005

摘要： A radiation system for generating a beam of radiation that defines an optical axis is provided. The radiation system includes a plasma produced discharge source for generating EUV radiation. The discharge source includes a pair of electrodes constructed and arranged to be provided with a voltage difference, and a system for producing a plasma between the pair of electrodes so as to provide a discharge in the plasma between the electrodes. The radiation system also includes a debris catching shield for catching debris from the electrodes. The debris catching shield is constructed and arranged to shield the electrodes from a line of sight provided in a predetermined spherical angle relative the optical axis, and to provide an aperture to a central area between the electrodes in the line of sight.

摘要翻译： 提供了一种用于产生限定光轴的辐射束的辐射系统。 辐射系统包括用于产生EUV辐射的等离子体产生的放电源。 放电源包括一对构造和布置成具有电压差的电极，以及用于在一对电极之间产生等离子体的系统，以便在电极之间的等离子体中提供放电。 辐射系统还包括用于从电极捕获碎屑的碎片捕获屏蔽。 碎片捕捉屏蔽被构造和布置成屏蔽电极与相对于光轴以预定球面角度提供的视线，并为视线中的电极之间的中心区域提供孔。

公开(公告)号：US20080142741A1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：US11637937

申请日：2006-12-13

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Derk Jan Wilfred Klunder

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Derk Jan Wilfred Klunder

IPC分类号： G21K5/00 ,  H05G2/00

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005

摘要： The invention relates to a radiation system for generating electromagnetic radiation. The radiation system includes a pair of electrodes constructed and arranged to generate plasma of a first substance and a pinch in the plasma. The radiation system also includes a plasma recombination surface that is arranged proximate to the pinch, and is configured to neutralize a plurality of plasma particles.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于产生电磁辐射的辐射系统。 辐射系统包括一对电极，其构造和布置成产生等离子体中的第一物质的等离子体和夹持物。 辐射系统还包括等离子体复合表面，该等离子体复合表面被布置成接近于夹紧，并且被配置为中和多个等离子体颗粒。

公开(公告)号：US07696493B2

公开(公告)日：2010-04-13

申请号：US11637937

申请日：2006-12-13

申请人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Derk Jan Wilfred Klunder

发明人： Maarten Marinus Johannes Wilhelmus Van Herpen ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Derk Jan Wilfred Klunder

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/005

摘要： The invention relates to a radiation system for generating electromagnetic radiation. The radiation system includes a pair of electrodes constructed and arranged to generate plasma of a first substance and a pinch in the plasma. The radiation system also includes a plasma recombination surface that is arranged proximate to the pinch, and is configured to neutralize a plurality of plasma particles.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于产生电磁辐射的辐射系统。 辐射系统包括一对电极，其构造和布置成产生等离子体中的第一物质的等离子体和夹持物。 辐射系统还包括等离子体复合表面，该等离子体复合表面被布置成接近于夹紧，并且被配置为中和多个等离子体颗粒。

公开(公告)号：US08018574B2

公开(公告)日：2011-09-13

申请号：US11170788

申请日：2005-06-30

申请人： Robert Rafilevitch Gayazov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Evgenii Dmitreevitch Korob ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Givi Georgievitch Zukavishvili ,  Yurii Victorovitch Sidelnikov

发明人： Robert Rafilevitch Gayazov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Evgenii Dmitreevitch Korob ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Givi Georgievitch Zukavishvili ,  Yurii Victorovitch Sidelnikov

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/70916

摘要： A foil trap is located in a path of a radiation beam. The foil trap includes an array of conductive strips. A voltage application circuit is coupled to the strips to apply voltage differences between pairs of adjacent ones of the strips. The voltage application circuit includes a current limiting circuit arranged to limit currents to the strips to values below a threshold value above which self-sustained arc discharge may arise in the foil trap.

摘要翻译： 箔陷阱位于辐射束的路径中。 箔阱包括导电条的阵列。 电压施加电路耦合到条带以在相邻条带之间施加电压差。 电压施加电路包括限流电路，其被布置为将电流限制到条带以下的值到低于阈值的值，在该阈值以上可能在箔阱中产生自持电弧放电。

公开(公告)号：US07061574B2

公开(公告)日：2006-06-13

申请号：US10985037

申请日：2004-11-10

申请人： Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun

发明人： Levinus Pieter Bakker ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun

IPC分类号： G03B27/52 ,  G03B27/42

CPC分类号： B82Y10/00 ,  G03F7/70166 ,  G03F7/70908 ,  G03F7/70916

摘要： A lithographic projection apparatus is provided. The apparatus includes a radiation system for providing a beam of radiation, and a support for supporting a patterning device. The patterning device serves to pattern the beam of radiation according to a desired pattern. The apparatus also includes a substrate table for holding a substrate, a projection system for projecting the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a particle supply unit for supplying getter particles into the beam of radiation in order to act as a getter for contamination particles in the beam of radiation. The getter particles have a diameter of at least about 1 nm.

摘要翻译： 提供光刻投影装置。 该装置包括用于提供辐射束的辐射系统和用于支撑图案形成装置的支撑件。 图案形成装置用于根据期望的图案对辐射束进行图案化。 该装置还包括用于保持基板的基板台，用于将图案化的辐射束投射到基板的目标部分上的投影系统，以及用于将吸气剂颗粒供应到辐射束中的颗粒供应单元，以用作 吸收剂用于辐射束中的污染颗粒。 吸气剂颗粒具有至少约1nm的直径。

公开(公告)号：US07462851B2

公开(公告)日：2008-12-09

申请号：US11525224

申请日：2006-09-22

申请人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Robert Rafilevitch Gayazov ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun

发明人： Vadim Yevgenyevich Banine ,  Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev ,  Robert Rafilevitch Gayazov ,  Vladimir Mihailovitch Krivtsun

IPC分类号： H01J65/04

CPC分类号： H05G2/003 ,  H05G2/005

摘要： A device for generating radiation source based on a discharge includes a cathode and an anode. A discharge is created in a material comprising an alloy of two or more substances.

摘要翻译： 基于放电产生辐射源的装置包括阴极和阳极。 在包含两种或更多种物质的合金的材料中产生放电。

公开(公告)号：US20080142740A1

公开(公告)日：2008-06-19

申请号：US11638670

申请日：2006-12-14

申请人： Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev

发明人： Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev

IPC分类号： G21K5/04 ,  G21K5/00

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005

摘要： A patterned beam of radiation is projected onto a substrate. A reflective optical element is used to help form the radiation beam from radiation emitted from a plasma region of a plasma source. In the plasma source, a plasma current is generated in the plasma region. To reduce damage to the reflective optical element, a magnetic field is applied in the plasma region with at least a component directed along a direction of the plasma current. This axial magnetic field helps limit the collapse of the Z-pinch region of the plasma. By limiting the collapse, the number of fast ions emitted may be reduced.

摘要翻译： 将图案化的辐射束投影到基底上。 反射光学元件用于帮助从等离子体源的等离子体区域发射的辐射形成辐射束。 在等离子体源中，在等离子体区域中产生等离子体电流。 为了减少对反射光学元件的损伤，在等离子体区域中施加至少一个沿着等离子体电流的方向指向的分量的磁场。 该轴向磁场有助于限制等离子体的Z夹点区域的塌陷。 通过限制塌陷，可以减少发射的快速离子的数量。

公开(公告)号：US08362444B2

公开(公告)日：2013-01-29

申请号：US12907135

申请日：2010-10-19

申请人： Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev

发明人： Vladimir Vitalevitch Ivanov ,  Vadim Yevgenyevich Banine ,  Konstantin Nikolaevitch Koshelev

IPC分类号： G21K5/00

CPC分类号： H05G2/003 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70916 ,  H05G2/005

摘要： A patterned beam of radiation is projected onto a substrate. A reflective optical element is used to help form the radiation beam from radiation emitted from a plasma region of a plasma source. In the plasma source, a plasma current is generated in the plasma region. To reduce damage to the reflective optical element, a magnetic field is applied in the plasma region with at least a component directed along a direction of the plasma current. This axial magnetic field helps limit the collapse of the Z-pinch region of the plasma. By limiting the collapse, the number of fast ions emitted may be reduced.

摘要翻译： 将图案化的辐射束投影到基底上。 反射光学元件用于帮助从等离子体源的等离子体区域发射的辐射形成辐射束。 在等离子体源中，在等离子体区域中产生等离子体电流。 为了减少对反射光学元件的损伤，在等离子体区域中施加至少一个沿着等离子体电流的方向指向的分量的磁场。 该轴向磁场有助于限制等离子体的Z夹点区域的塌陷。 通过限制塌陷，可以减少发射的快速离子的数量。