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    PRECURSOR MATERIAL DELIVERY SYSTEM WITH THERMAL ENHANCEMENTS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION
    2.
    发明申请
    PRECURSOR MATERIAL DELIVERY SYSTEM WITH THERMAL ENHANCEMENTS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION 审中-公开
    用于原子层沉积的热增强的前体材料输送系统

    公开(公告)号：US20070089674A1

    公开(公告)日：2007-04-26

    申请号：US11564276

    申请日：2006-11-28

    申请人： Bradley Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Harkonen ,  Martti Sonninen ,  Tommy Turkulainen

    发明人： Bradley Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Harkonen ,  Martti Sonninen ,  Tommy Turkulainen

    IPC分类号： C23C16/00 ,  B01D46/00

    CPC分类号： B01D45/06 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/4557 ,  C30B25/14 ,  Y10S55/14

    摘要： A precursor delivery system includes a flow path from a precursor container to a reaction space of a thin film deposition system, such as an atomic layer deposition (ALD) reactor. At least a portion of the flow path may be formed in one or more blocks of thermally conductive material forming an elongate thermally conductive body extending from the precursor container toward the reaction space. In some embodiments, a heater is thermally associated with the thermally conductive body to inhibit condensation of precursor vapor in the flow path. A high conductivity particle filter having inertial traps is preferably included for filtering particles from the precursor material. The particle filter preferably include a filter passage including turns and inertial traps adjacent the turns. In some embodiments, the filter passage and the inertial traps may be formed in the thermally conductive body between the precursor container and the reaction space.

    摘要翻译： 前体递送系统包括从前体容器到诸如原子层沉积（ALD）反应器的薄膜沉积系统的反应空间的流动路径。 流路的至少一部分可以形成在一个或多个导热材料块中，形成从前体容器朝向反应空间延伸的细长导热体。 在一些实施例中，加热器与导热体热关联，以阻止前述流体在流路中的冷凝。 优选包括具有惯性陷阱的高电导率粒子滤波器，用于从前体材料过滤颗粒。 颗粒过滤器优选包括过滤器通道，该过滤器通道包括与匝相邻的匝和惯性掣子。 在一些实施例中，过滤器通道和惯性陷阱可以形成在前体容器和反应空间之间的导热体中。

    Precursor material delivery system for atomic layer deposition
    3.
    发明授权
    Precursor material delivery system for atomic layer deposition 有权
    用于原子层沉积的前体材料输送系统

    公开(公告)号：US07141095B2

    公开(公告)日：2006-11-28

    申请号：US10660365

    申请日：2003-09-10

    申请人： Bradley J. Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Härkönen ,  Martti Sonninen

    发明人： Bradley J. Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Härkönen ,  Martti Sonninen

    IPC分类号： B01D45/04 ,  C23C16/00

    CPC分类号： B01D45/06 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/4557 ,  C30B25/14 ,  Y10S55/14

    摘要： A precursor delivery system includes a flow path from a precursor container to a reaction space of a thin film deposition system, such as an atomic layer deposition (ALD) reactor. A staging volume is preferably established between the precursor container and the reaction space for receiving at least one dose of the precursor material from the precursor container, from which a series of pulses is released toward the reaction space. The precursor material is typically vaporized after loading it in the precursor container by heating or reducing the pressure inside the precursor container. A vacuum line is preferably coupled to the precursor container and bypasses the reaction space for reducing pressure inside the precursor container without drawing particles into the reaction space. A high conductivity particle filter having inertial traps may be included, preferably between the precursor container and a staging volume, for filtering particles from the precursor material.

    摘要翻译： 前体递送系统包括从前体容器到诸如原子层沉积（ALD）反应器的薄膜沉积系统的反应空间的流动路径。 优选地，在前体容器和反应空间之间建立分级体积，用于从前体容器接收至少一个剂量的前体材料，从该容器中向反应空间释放一系列脉冲。 通过加热或降低前体容器内的压力，将前体材料通常在将其加载到前体容器中之后进行蒸发。 真空管线优选地连接到前体容器并绕过反应空间，用于减小前体容器内部的压力，而不会将颗粒吸入反应空间。 可以包括具有惯性陷阱的高导电性粒子过滤器，优选在前体容器和分级体积之间，用于从前体材料过滤粒子。