公开(公告)号：US20120177903A1

公开(公告)日：2012-07-12

申请号：US13395942

申请日：2010-09-13

申请人： Sami Sneck ,  Nora Isomäki ,  Jarmo Maula ,  Olli Jylhä ,  Matti Putkonen ,  Runar Törnqvist ,  Mikko Söderlund

发明人： Sami Sneck ,  Nora Isomäki ,  Jarmo Maula ,  Olli Jylhä ,  Matti Putkonen ,  Runar Törnqvist ,  Mikko Söderlund

IPC分类号： B32B7/02 ,  B32B9/00 ,  B05D1/36 ,  B82Y40/00

CPC分类号： C23C16/45529 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405 ,  C23C28/042 ,  C23C28/42 ,  Y10T428/24975

摘要： A multilayer coating and a method for fabricating a multilayer coating on a substrate (3). The coating is arranged to minimize diffusion of atoms through the coating, the method comprising the steps of introducing a substrate (3) to a reaction space, depositing a layer of first material (1) on the substrate (3), and depositing a layer of second material (2) on the layer of first material (1). Depositing the layer of first material (1) and the layer of second material (2) comprises alternately introducing precursors into the reaction space and subsequently purging the reaction space after each introduction of a precursor. The first material being selected from the group of titanium oxide and aluminum oxide, the second material being the other from the group of titanium oxide and aluminum oxide. An interfacial region is formed in between titanium oxide and aluminum oxide.a.

摘要翻译： 一种多层涂层和在基板（3）上制造多层涂层的方法。 布置该涂层以最小化原子通过涂层的扩散，该方法包括以下步骤：将基底（3）引入反应空间，在基底（3）上沉积第一材料层（1），并沉积层 在第一材料层（1）上的第二材料（2）。 沉积第一材料层（1）和第二材料层（2）的层包括将前体交替地引入反应空间中，并在每次引入前体之后随后清洗反应空间。 第一种材料选自氧化钛和氧化铝，第二种材料是氧化钛和氧化铝的另一种材料。 在氧化钛和氧化铝之间形成界面区域。

公开(公告)号：US20070117383A1

公开(公告)日：2007-05-24

申请号：US11564272

申请日：2006-11-28

申请人： Bradley Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Harkonen ,  Martti Sonninen ,  Tommy Turkulainen

发明人： Bradley Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Harkonen ,  Martti Sonninen ,  Tommy Turkulainen

IPC分类号： H01L21/44 ,  C23C16/00

CPC分类号： B01D45/06 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/4557 ,  C30B25/14 ,  Y10S55/14

摘要： A precursor delivery system includes a flow path from a precursor container to a reaction space of a thin film deposition system, such as an atomic layer deposition (ALD) reactor. A staging volume is preferably established between the precursor container and the reaction space for receiving at least one dose of the precursor material from the precursor container, and from which pulses are released toward the reaction space. A pulse control device is preferably interposed between the staging volume and the reaction space. A sensor may sense a physical condition in the staging volume for providing feedback to a controller of the precursor delivery system, for performance monitoring and control.

摘要翻译： 前体递送系统包括从前体容器到诸如原子层沉积（ALD）反应器的薄膜沉积系统的反应空间的流动路径。 优选地，在前体容器和反应空间之间建立分级体积，用于从前体容器接收至少一剂量的前体材料，并且从该脉冲向反应空间释放脉冲。 优选地，在分级体积和反应空间之间插入脉冲控制装置。 传感器可以感测分级体积中的物理状况，以向前体递送系统的控制器提供反馈，以进行性能监测和控制。

公开(公告)号：US20060134433A1

公开(公告)日：2006-06-22

申请号：US11305024

申请日：2005-12-19

申请人： Jarmo Maula ,  Kari Harkonen ,  Anguel Nikolov

发明人： Jarmo Maula ,  Kari Harkonen ,  Anguel Nikolov

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： G02B1/10 ,  C03C17/3417 ,  C03C17/3694 ,  C03C2217/91 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45529 ,  C23C16/45555 ,  H01L21/3141 ,  Y10T428/31504

摘要： The invention relates to a multilayer material deposited by ALD. A multi-layer structure of a high refractive index material is deposited on a substrate using ALD at a temperature below about 450° C. Advantageous results are obtained when a high refractive index material A is coated with another material B after a certain thickness of material A has been achieved. Thus, the B barrier layer stops the tendency for material A to crystallize. The amorphous structure gives rise to less optical loss. Further, the different stress nature of materials A and B may be utilized to achieve a final optical material with minimal stress. The thickness of each material B layer is less than that of the adjacent A layer(s). The total effective refractive index of the high refractive index material A+B being shall be greater than 2.20 at a wavelength of 600 nm. Titanium oxide and aluminium oxide are preferred A and B materials. The structure is useful for optical coatings.

摘要翻译： 本发明涉及由ALD沉积的多层材料。 在低于约450℃的温度下，使用ALD将高折射率材料的多层结构沉积在基板上。当高折射率材料A在一定厚度的材料之后用另一种材料B涂覆时，可获得有利的结果 A已经实现。 因此，B阻挡层阻止材料A结晶的倾向。 非晶结构导致较少的光损耗。 此外，可以利用材料A和B的不同应力性质来实现具有最小应力的最终光学材料。 每个材料B层的厚度小于相邻A层的厚度。 高折射率材料A + B的总有效折射率在600nm波长处应大于2.20。 氧化钛和氧化铝优选为A和B材料。 该结构对于光学涂层是有用的。

公开(公告)号：US09290840B2

公开(公告)日：2016-03-22

申请号：US13505640

申请日：2010-11-02

申请人： Jarmo Maula

发明人： Jarmo Maula

IPC分类号： H01B1/02 ,  C23C16/08 ,  C23C16/18 ,  C23C16/40 ,  C23C16/44 ,  C23C16/455 ,  C23C28/00 ,  C23C30/00

CPC分类号： H01B1/08 ,  C23C16/08 ,  C23C16/18 ,  C23C16/40 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405 ,  C23C16/4408 ,  C23C16/45523 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45531 ,  C23C28/00 ,  C23C28/04 ,  C23C30/00

摘要： A method for forming an electrically conductive oxide film (1) on a substrate (2), the method comprising the steps of, bringing the substrate (2) into a reaction space, forming a preliminary deposit on a deposition surface of the substrate (2) and treating the deposition surface with a chemical. The step of forming the preliminary deposit on the deposition surface of the substrate (2) comprises forming a preliminary deposit of transition metal oxide on the deposition surface and subsequently purging the reaction space. The step of treating the deposition surface with a chemical comprises treating the deposition surface with an organometallic chemical and subsequently purging the reaction space, to form oxide comprising oxygen, first metal and transition metal. The steps of forming the preliminary deposit and treating the deposition surface being alternately repeated such that a film (1) of electrically conductive oxide is formed on the substrate (2).

摘要翻译： 一种在基板（2）上形成导电氧化物膜（1）的方法，所述方法包括以下步骤：将基板（2）进入反应空间，在基板（2）的沉积表面上形成预沉积物 ）并用化学品处理沉积表面。 在基板（2）的沉积表面上形成初步沉积物的步骤包括在沉积表面上形成过渡金属氧化物的初步沉积物，随后清洗反应空间。 用化学品处理沉积表面的步骤包括用有机金属化学品处理沉积表面，随后吹扫反应空间，以形成包含氧，第一金属和过渡金属的氧化物。 交替地重复形成预沉积和处理沉积表面的步骤，使得在基板（2）上形成导电氧化物膜（1）。

公开(公告)号：US08367561B2

公开(公告)日：2013-02-05

申请号：US12663782

申请日：2008-07-02

申请人： Jarmo Maula ,  Kari Harkonen

发明人： Jarmo Maula ,  Kari Harkonen

IPC分类号： H01L21/31 ,  H01L21/00 ,  H01L21/8242 ,  H01L21/469 ,  H01L21/44

CPC分类号： C23C16/45534 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405

摘要： The present invention relates to a method for enhancing uniformity of metal oxide coatings formed by Atomic Layer Deposition (ALD) or ALD-type processes. Layers are formed using alternating pulses of metal halide and oxygen-containing precursors, preferably water, and purging when necessary. An introduction of modificator pulses following the pulses of the oxygen-containing precursor affects positively on layer uniformity, which commonly exhibits gradients, particularly in applications with closely arranged substrates. In particular, improvement in layer thickness uniformity is obtained. According to the invention, alcohols having one to three carbon atoms can be used as the modificator.

摘要翻译： 本发明涉及一种增强由原子层沉积（ALD）或ALD型工艺形成的金属氧化物涂层的均匀性的方法。 使用金属卤化物和含氧前体，优选水的交替脉冲形成层，并且在必要时进行清洗。 在含氧前体的脉冲之后引入改性脉冲对层的均匀性产生积极影响，这通常表现出梯度，特别是在具有紧密排列的衬底的应用中。 特别地，获得了层厚均匀性的改善。 根据本发明，可以使用具有一至三个碳原子的醇作为改性剂。

公开(公告)号：US07901736B2

公开(公告)日：2011-03-08

申请号：US11305024

申请日：2005-12-19

申请人： Jarmo Maula ,  Kari Härkönen ,  Anguel Nikolov

发明人： Jarmo Maula ,  Kari Härkönen ,  Anguel Nikolov

IPC分类号： C23C16/00

CPC分类号： G02B1/10 ,  C03C17/3417 ,  C03C17/3694 ,  C03C2217/91 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45529 ,  C23C16/45555 ,  H01L21/3141 ,  Y10T428/31504

摘要： The invention relates to a multilayer material deposited by ALD. A multi-layer structure of a high refractive index material is deposited on a substrate using ALD at a temperature below about 450° C. Advantageous results are obtained when a high refractive index material A is coated with another material B after a certain thickness of material A has been achieved. Thus, the B barrier layer stops the tendency for material A to crystallize. The amorphous structure gives rise to less optical loss. Further, the different stress nature of materials A and B may be utilized to achieve a final optical material with minimal stress. The thickness of each material B layer is less than that of the adjacent A layer(s). The total effective refractive index of the high refractive index material A+B being shall be greater than 2.20 at a wavelength of 600 nm. Titanium oxide and aluminium oxide are preferred A and B materials. The structure is useful for optical coatings.

摘要翻译： 本发明涉及由ALD沉积的多层材料。 在低于约450℃的温度下，使用ALD将高折射率材料的多层结构沉积在基板上。当高折射率材料A在一定厚度的材料之后用另一种材料B涂覆时，可获得有利的结果 A已经实现。 因此，B阻挡层阻止材料A结晶的倾向。 非晶结构导致较少的光损耗。 此外，可以利用材料A和B的不同应力性质来实现具有最小应力的最终光学材料。 每个材料B层的厚度小于相邻A层的厚度。 高折射率材料A + B的总有效折射率在600nm波长处应大于2.20。 氧化钛和氧化铝优选为A和B材料。 该结构对于光学涂层是有用的。

公开(公告)号：US20100167555A1

公开(公告)日：2010-07-01

申请号：US12663782

申请日：2008-07-02

申请人： Jarmo Maula ,  Kari Harkonen

发明人： Jarmo Maula ,  Kari Harkonen

IPC分类号： H01L21/473 ,  C23C16/08 ,  C23C16/40 ,  C23C16/455

CPC分类号： C23C16/45534 ,  C23C16/403 ,  C23C16/405

摘要： The present invention relates to a method for enhancing uniformity of metal oxide coatings formed by Atomic Layer Deposition (ALD) or ALD-type processes. Layers are formed using alternating pulses of metal halide and oxygen-containing precursors, preferably water, and purging when necessary. An introduction of modificator pulses following the pulses of the oxygen-containing precursor affects positively on layer uniformity, which commonly exhibits gradients, particularly in applications with closely arranged substrates. In particular, improvement in layer thickness uniformity is obtained. According to the invention, alcohols having one to three carbon atoms can be used as the modificator.

摘要翻译： 本发明涉及一种增强由原子层沉积（ALD）或ALD型工艺形成的金属氧化物涂层的均匀性的方法。 使用金属卤化物和含氧前体，优选水的交替脉冲形成层，并且在必要时进行清洗。 在含氧前体的脉冲之后引入改性脉冲对层的均匀性产生积极影响，这通常表现出梯度，特别是在具有紧密排列的衬底的应用中。 特别地，获得了层厚均匀性的改善。 根据本发明，可以使用具有一至三个碳原子的醇作为改性剂。

公开(公告)号：US08945676B2

公开(公告)日：2015-02-03

申请号：US13258152

申请日：2010-03-25

申请人： Jarmo Maula

发明人： Jarmo Maula

IPC分类号： C23C16/00 ,  B05D7/00 ,  C23C16/455 ,  B01J2/00 ,  C23C16/40

CPC分类号： C23C16/45551 ,  B01J2/006 ,  C23C16/403 ,  C23C16/4417 ,  C23C16/45519 ,  C23C16/45548 ,  Y02T50/67

摘要： The invention relates to a method and an apparatus for coating one or more objects (1) by exposing an object (1) to alternately repeating surface reactions of two or more gaseous precursors. The apparatus comprises a reaction chamber (2, 40), means for forming at least one distinct precursor region inside the reaction chamber, and means for causing translational, essentially mechanically unsupported and unsuspended, motion of an object (1) inside the reaction chamber, relative to the reaction chamber, for bringing the surface of the object (1) into contact with a gaseous precursor, the means for causing the translational motion comprising means for moving the object (1) essentially through the at least one distinct precursor region inside the reaction chamber.

摘要翻译： 本发明涉及通过使物体（1）暴露以交替重复两种或多种气体前体的表面反应来涂覆一种或多种物体（1）的方法和装置。 该装置包括反应室（2,40），用于在反应室内形成至少一个不同的前体区域的装置，以及用于使物体（1）在反应室内部的平移，基本上机械地未支撑和未悬浮的运动的装置， 相对于反应室，为了使物体（1）的表面与气体前体接触，用于引起平移运动的装置包括用于将物体（1）基本上穿过至少一个不同的前体区域的装置 反应室。

公开(公告)号：US20070089674A1

公开(公告)日：2007-04-26

申请号：US11564276

申请日：2006-11-28

申请人： Bradley Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Harkonen ,  Martti Sonninen ,  Tommy Turkulainen

发明人： Bradley Aitchison ,  Jarmo Maula ,  Hannu Leskinen ,  Teemu Lang ,  Pekka Kuosmanen ,  Kari Harkonen ,  Martti Sonninen ,  Tommy Turkulainen

IPC分类号： C23C16/00 ,  B01D46/00

CPC分类号： B01D45/06 ,  C23C16/4402 ,  C23C16/4404 ,  C23C16/4412 ,  C23C16/45525 ,  C23C16/45544 ,  C23C16/4557 ,  C30B25/14 ,  Y10S55/14

摘要： A precursor delivery system includes a flow path from a precursor container to a reaction space of a thin film deposition system, such as an atomic layer deposition (ALD) reactor. At least a portion of the flow path may be formed in one or more blocks of thermally conductive material forming an elongate thermally conductive body extending from the precursor container toward the reaction space. In some embodiments, a heater is thermally associated with the thermally conductive body to inhibit condensation of precursor vapor in the flow path. A high conductivity particle filter having inertial traps is preferably included for filtering particles from the precursor material. The particle filter preferably include a filter passage including turns and inertial traps adjacent the turns. In some embodiments, the filter passage and the inertial traps may be formed in the thermally conductive body between the precursor container and the reaction space.

摘要翻译： 前体递送系统包括从前体容器到诸如原子层沉积（ALD）反应器的薄膜沉积系统的反应空间的流动路径。 流路的至少一部分可以形成在一个或多个导热材料块中，形成从前体容器朝向反应空间延伸的细长导热体。 在一些实施例中，加热器与导热体热关联，以阻止前述流体在流路中的冷凝。 优选包括具有惯性陷阱的高电导率粒子滤波器，用于从前体材料过滤颗粒。 颗粒过滤器优选包括过滤器通道，该过滤器通道包括与匝相邻的匝和惯性掣子。 在一些实施例中，过滤器通道和惯性陷阱可以形成在前体容器和反应空间之间的导热体中。

公开(公告)号：US10167551B2

公开(公告)日：2019-01-01

申请号：US13991977

申请日：2012-01-24

申请人： Mikko Soderlund ,  Pekka Soininen ,  Jarmo Maula

发明人： Mikko Soderlund ,  Pekka Soininen ,  Jarmo Maula

IPC分类号： H01L21/67 ,  C23C16/455

摘要： The present invention relates to an apparatus, method, a reaction chamber and a use of a reaction chamber for processing a surface of a substrate by subjecting the surface of a substrate to successive surface reactions of at least a first precursor and a second precursor. The apparatus includes a vacuum chamber; a detachable reaction chamber arranged to be installed inside the vacuum chamber, and inside which the substrate is positioned during processing and a precursor system for supplying the at least first and second precursors into the action chamber and for discharging the at least first and second precursors from the reaction chamber. According to the present invention the reaction chamber is provided as a gastight vessel.