公开(公告)号：US07338275B2

公开(公告)日：2008-03-04

申请号：US11126946

申请日：2005-05-11

申请人： Byung Jin Choi ,  Mario J. Meissl ,  Sidlagata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

发明人： Byung Jin Choi ,  Mario J. Meissl ,  Sidlagata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

IPC分类号： B29C59/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C35/0888 ,  B29C59/022 ,  B29C59/026 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B81C1/0046 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  H01L21/0271

摘要： The present invention is directed to a template having a body including a surface with first and second regions. The first region has first wetting characteristics for a given material and the second region has second wetting characteristics for the given material. The first wetting characteristics differ from the second wetting characteristics. Specifically, the first region is formed from a surface treatment layer with a first surface energy to provide the first wetting characteristics. The second region is exposed portions of the body, typically quartz of fused silica, having a second surface energy associated therewith. The second surface energy is greater than the first surface energy to provide the second region with the second wetting characteristics.

摘要翻译： 本发明涉及具有主体的模板，该主体包括具有第一和第二区域的表面。 第一区域对于给定材料具有第一润湿特性，并且第二区域对于给定材料具有第二润湿特性。 第一润湿特性与第二润湿特性不同。 具体地说，第一区域由具有第一表面能的表面处理层形成以提供第一润湿特性。 第二区域是具有与其相关联的第二表面能的身体的暴露部分，通常为熔融石英的石英。 第二表面能大于第一表面能量，以向第二区域提供第二润湿特性。

公开(公告)号：US06932934B2

公开(公告)日：2005-08-23

申请号：US10194411

申请日：2002-07-11

申请人： Byung Jin Choi ,  Mario J. Meissl ,  Sidlagata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

发明人： Byung Jin Choi ,  Mario J. Meissl ,  Sidlagata V. Sreenivasan ,  Michael P. C. Watts

IPC分类号： B29C35/08 ,  B29C59/02 ,  H01L21/027 ,  B29C33/42 ,  B29C33/60 ,  B29C35/12 ,  B29C41/02 ,  B29C41/20 ,  B29C59/16

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C35/0888 ,  B29C59/022 ,  B29C59/026 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B81C1/0046 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  H01L21/0271

摘要： The present invention is directed to methods for patterning a substrate by imprint lithography. An imprint lithography method includes placing a curable liquid on a substrate. A template may be contacted with the curable liquid. Surface forces at the interface of the curable liquid and the template cause the curable liquid to gather in an area defined by a lower surface of the template. Alternately, the curable liquid may fill one or more relatively shallow recesses in the template and the area under the template lower surface. Activating light is applied to the curable liquid to form a patterned layer on the substrate.

摘要翻译： 本发明涉及通过压印光刻图案化衬底的方法。 压印光刻方法包括将可固化液体放置在基底上。 模板可以与可固化液体接触。 在可固化液体和模板的界面处的表面力使得可固化液体聚集在由模板的下表面限定的区域中。 或者，可固化液体可以填充模板中的一个或多个较浅的凹部和模板下表面下的区域。 将活化光施加到可固化液体上以在基底上形成图案化层。