公开(公告)号：US09671688B2

公开(公告)日：2017-06-06

申请号：US14441338

申请日：2013-10-02

申请人： CHEIL INDUSTRIES INC.

发明人： Seung-Wook Shin ,  Yun-Jun Kim ,  Hea-Jung Kim ,  Youn-Jin Cho ,  Yoo-Jeong Choi

IPC分类号： G03F7/004 ,  G03F7/09 ,  G03F7/11 ,  G03F7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/40 ,  G03F7/16 ,  G03F7/36 ,  C07C65/34 ,  C07C65/32 ,  C07C65/40 ,  C07C63/15 ,  C07C63/26 ,  G03F1/00

CPC分类号： G03F7/004 ,  C07C63/15 ,  C07C63/26 ,  C07C65/32 ,  C07C65/34 ,  C07C65/40 ,  G03F1/00 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/09 ,  G03F7/091 ,  G03F7/094 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/26 ,  G03F7/30 ,  G03F7/36 ,  G03F7/40

摘要： Disclosed are a monomer represented by the following Chemical Formula 1 for a hardmask composition, a hardmask composition including the monomer, and a method of forming patterns using the same. In the above Chemical Formula 1, A, A′, L, L′, X and n are the same as defined in the specification.