公开(公告)号：US20150050596A1

公开(公告)日：2015-02-19

申请号：US14448645

申请日：2014-07-31

申请人： CHI MEI CORPORATION

发明人： MING-JU WU ,  CHUN-AN SHIH

IPC分类号： G03F7/075 ,  G03F7/16

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/022 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/038 ,  G03F7/09 ,  G03F7/30

摘要： The invention relates to a photosensitive polysiloxane composition and a thin film formed by the aforementioned photosensitive polysiloxane composition. The thin film is a planarization film of a TFT substrate, an interlayer insulating film or an overcoat of a core material or a protective material in a waveguide. The photosensitive polysiloxane composition has excellent chemical resistance. The photosensitive polysiloxane composition comprises a polysiloxane (A), an o-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (B), a thermal base generator (C) and a solvent (D).

摘要翻译： 本发明涉及感光性聚硅氧烷组合物和由上述感光性聚硅氧烷组合物形成的薄膜。 该薄膜是TFT基板，层间绝缘膜或芯材的外涂层或波导管中的保护材料的平坦化膜。 感光性聚硅氧烷组合物具有优异的耐化学性。 光敏聚硅氧烷组合物包含聚硅氧烷（A），邻萘醌二叠氮磺酸酯（B），热碱发生剂（C）和溶剂（D）。

公开(公告)号：US20130245150A1

公开(公告)日：2013-09-19

申请号：US13780362

申请日：2013-02-28

申请人： CHI MEI CORPORATION

发明人： YU-JIE TSAI ,  MING-JU WU

IPC分类号： C09D133/06 ,  C09D183/04

CPC分类号： C09D133/068 ,  C08G77/04 ,  C09D183/04 ,  C08L83/04

摘要： The invention relates to a photosensitive resin composition, and an overcoat and/or spacer for a liquid crystal display component formed thereby has good heat-resistant transmittance, good chemical resistance and good elastic recovery rate. The invention also provides a method for forming a thin film on a substrate, a thin film on a substrate and a liquid crystal display component.

摘要翻译： 本发明涉及感光性树脂组合物，由此形成的液晶显示元件的外涂层和/或间隔物具有良好的耐热透射性，良好的耐化学性和良好的弹性回复率。 本发明还提供了在基板上形成薄膜的方法，在基板上形成薄膜和液晶显示部件。

公开(公告)号：US20130142966A1

公开(公告)日：2013-06-06

申请号：US13681864

申请日：2012-11-20

申请人： CHI MEI CORPORATION

发明人： BAR-YUAN HSIEH ,  JUNG-PIN HSU ,  BO-HSUAN LIN ,  CHUN-AN SHIH ,  MING-JU WU

IPC分类号： G02B5/23

CPC分类号： G02B5/23 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/032 ,  G03F7/033 ,  G03F7/0757 ,  G03F7/105 ,  Y10T428/1041 ,  Y10T428/24479

摘要： The invention relates to a blue photosensitive resin composition, and the smoothness of the edge profile formed thereby after development is good. Furthermore, the contrast of a liquid crystal display device manufactured with the blue photosensitive resin composition is excellent. The invention also provides a method for manufacturing a color filter, a color filter and a liquid crystal display device are also provided in the invention.

摘要翻译： 本发明涉及蓝色感光性树脂组合物，由此显影后的边缘轮廓的平滑性良好。 此外，用蓝色感光性树脂组合物制造的液晶显示装置的对比度优异。 本发明还提供了一种制造滤色器的方法，滤色器和液晶显示装置。

公开(公告)号：US20140178822A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：US14133277

申请日：2013-12-18

申请人： CHI MEI CORPORATION

发明人： MING-JU WU ,  CHUN-AN SHIH

IPC分类号： G03F7/038

CPC分类号： G03F7/038 ,  G03F7/0047 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/0757

摘要： The invention relates to a photosensitive polysiloxane composition that has good thermal transmittance, good chemical resistance and good sensitivity and good refractivity. The invention also provides a method for forming a thin film on a substrate, a thin film on a substrate and an apparatus.

摘要翻译： 本发明涉及具有良好的热透射率，良好的耐化学性和良好的灵敏度以及良好的折射率的感光性聚硅氧烷组合物。 本发明还提供了在基板上形成薄膜的方法，在基板上形成薄膜和装置。

公开(公告)号：US20150293449A1

公开(公告)日：2015-10-15

申请号：US14751705

申请日：2015-06-26

申请人： CHI MEI CORPORATION

发明人： MING-JU WU ,  CHUN-AN SHIH

IPC分类号： G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/0226 ,  G03F7/0233

摘要： The invention relates to a photosensitive polysiloxane composition and a thin film formed by the aforementioned photosensitive polysiloxane composition. The thin film is a planarization film of a TFT substrate, an interlayer insulating film or an overcoat of a core material or a protective material in a waveguide. The thin film is cured at low temperature. The photosensitive polysiloxane composition comprises a polysiloxane (A), an o-naphthoquinone diazide sulfonic acid ester (B), a thermal base generator (C) and a solvent (D).

摘要翻译： 本发明涉及感光性聚硅氧烷组合物和由上述感光性聚硅氧烷组合物形成的薄膜。 该薄膜是TFT基板，层间绝缘膜或芯材的外涂层或波导管中的保护材料的平坦化膜。 薄膜在低温下固化。 光敏聚硅氧烷组合物包含聚硅氧烷（A），邻萘醌二叠氮磺酸酯（B），热碱发生剂（C）和溶剂（D）。

公开(公告)号：US20140178819A1

公开(公告)日：2014-06-26

申请号：US14098763

申请日：2013-12-06

申请人： CHI MEI CORPORATION

发明人： MING-JU WU ,  CHUN-AN SHIH

IPC分类号： G03F7/038

CPC分类号： G03F7/0226 ,  G03F7/027 ,  G03F7/0757

摘要： A phontosensitive polysiloxane composition for forming a protective film having superior sensitivity is disclosed. A protective film formed from the phontosensitive polysiloxane composition and an element including the protective film are also disclosed. The phontosensitive polysiloxane composition includes a polysiloxane, an o-naphthoquinonediazidesulfonic acid ester, a urethane(meth)acrylate compound having at least six (meth)acryloyl groups in a molecule, and a solvent.

摘要翻译： 公开了用于形成具有优异灵敏度的保护膜的声音聚硅氧烷组合物。 还公开了由该声音聚硅氧烷组合物形成的保护膜和包括该保护膜的元件。 声音性聚硅氧烷组合物包括聚硅氧烷，邻萘醌二叠氮化物磺酸酯，分子中具有至少六个（甲基）丙烯酰基的氨基甲酸酯（甲基）丙烯酸酯化合物和溶剂。