公开(公告)号：US20070155268A1

公开(公告)日：2007-07-05

申请号：US11323651

申请日：2005-12-30

申请人： Chung-Ching Feng ,  Chen-Hsiang Chao ,  I-Peng Yao ,  Yung-Chang Hung ,  Jyh-Jen Lee

发明人： Chung-Ching Feng ,  Chen-Hsiang Chao ,  I-Peng Yao ,  Yung-Chang Hung ,  Jyh-Jen Lee

IPC分类号： B32B27/04

CPC分类号： B32B5/18 ,  B32B5/022 ,  B32B5/08 ,  B32B5/20 ,  B32B5/24 ,  B32B2262/0246 ,  B32B2262/0261 ,  B32B2262/0276 ,  B32B2262/0284 ,  B32B2262/12 ,  B32B2266/0242 ,  B32B2266/0257 ,  B32B2266/0264 ,  B32B2266/0271 ,  B32B2266/0278 ,  B32B2266/0285 ,  B32B2266/06 ,  B32B2432/00 ,  Y10T442/2361 ,  Y10T442/241 ,  Y10T442/273 ,  Y10T442/2861 ,  Y10T442/2893

摘要： A polishing pad includes a non-woven cloth and a continuous porous polymer. The non-woven cloth includes fibers. The polymer includes a plurality of holes communicated with one another. The polymer is cured in and bonded to the non-woven cloth. A surface of the polishing pad is constituted by the fibers of the non-woven cloth and the polymer.

摘要翻译： 抛光垫包括无纺布和连续多孔聚合物。 无纺布包括纤维。 聚合物包括彼此连通的多个孔。 聚合物固化并结合到无纺布上。 抛光垫的表面由无纺布和聚合物的纤维构成。