MAGNETIC MEMORY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
    3.
    发明申请
    MAGNETIC MEMORY AND MANUFACTURING METHOD THEREOF 有权
    磁记忆及其制造方法

    公开(公告)号:US20150069480A1

    公开(公告)日:2015-03-12

    申请号:US14203400

    申请日:2014-03-10

    IPC分类号: H01L27/22 H01L43/12

    摘要: According to one embodiment, a magnetic memory includes a cell transistor including a first source/drain diffusion layer and a second source/drain diffusion layer, a first contact on the first source/drain diffusion layer, a memory element on the first contact, and a second contact on the second source/drain diffusion layer, the second contact including a first plug on the second source/drain diffusion layer, and a second plug on the first plug.

    摘要翻译: 根据一个实施例,磁存储器包括单元晶体管,其包括第一源极/漏极扩散层和第二源极/漏极扩散层,第一源极/漏极扩散层上的第一触点,第一触点上的存储元件,以及 在第二源/漏扩散层上的第二触点,第二触点包括在第二源极/漏极扩散层上的第一插头和第一插头上的第二插头。