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    Holder assembly system and method in an emitted energy system for photolithography
    1.
    发明授权
    Holder assembly system and method in an emitted energy system for photolithography 失效
    用于光刻的发射能量系统中的支架组装系统和方法

    公开(公告)号：US06353232B2

    公开(公告)日：2002-03-05

    申请号：US09772447

    申请日：2001-01-29

    申请人： Edwin G. Haas ,  Michael A. Peacock ,  Robert M. Gutowski

    发明人： Edwin G. Haas ,  Michael A. Peacock ,  Robert M. Gutowski

    IPC分类号： H05H134

    CPC分类号： H05G2/003 ,  G03F7/70033 ,  H05G2/008

    摘要： An emitted energy system for use in photolithography may include a holder assembly operable to precisely align a diffuser and a nozzle. In accordance with one embodiment of the present invention, a holder assembly (30) may comprise a nozzle mounting system (414) coupled to a housing assembly (400) to secure a nozzle (22). A diffuser mounting system (430) may be coupled to the housing assembly (400) to secure a diffuser (28). An alignment system (450) may operate to align the nozzle (22) and the diffuser (28) in a spatial relationship with each other to optimize operation of the diffuser (28) in relation to the nozzle (22).

    摘要翻译： 用于光刻的发射能量系统可以包括可操作以精确对准漫射器和喷嘴的保持器组件。 根据本发明的一个实施例，保持器组件（30）可以包括联接到壳体组件（400）以固定喷嘴（22）的喷嘴安装系统（414）。 扩散器安装系统（430）可以联接到壳体组件（400）以固定扩散器（28）。 对准系统（450）可以操作以使喷嘴（22）和扩散器（28）彼此空间关系对准，以优化扩散器（28）相对于喷嘴（22）的操作。

    Method of manufacturing very small diameter deep passages
    4.
    发明授权
    Method of manufacturing very small diameter deep passages 失效
    制造非常小直径的深通道的方法

    公开(公告)号：US6065203A

    公开(公告)日：2000-05-23

    申请号：US54987

    申请日：1998-04-03

    申请人： Edwin G. Haas ,  Robert M. Gutowski ,  Vincent S. Calia

    发明人： Edwin G. Haas ,  Robert M. Gutowski ,  Vincent S. Calia

    IPC分类号： B05B1/00 ,  G03F7/20 ,  H05G2/00 ,  B21D39/00

    CPC分类号： H05G2/003 ,  B05B1/005 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70858 ,  Y10T29/49908

    摘要： A method of fabricating very small diameter deep passages is provided. The method of fabricating very small diameter deep passages may include fabricating a recess (206) in a first side (202) of an article (200). An article passage (216) may be fabricated between a second side (204) of the article (200) and the recess (206). An insert (220) may be provided sized to fit the recess (206). An insert passage (230) may be fabricated in the insert (220). The insert (220) may then be secured in the recess (206), with the insert passage (230) and the article passage (216) aligned.

    摘要翻译： 提供了制造非常小直径的深通道的方法。 制造非常小直径的深通道的方法可以包括在物品（200）的第一侧（202）中制造凹部（206）。 物品通道（216）可以在制品（200）的第二侧（204）和凹部（206）之间制造。 可以提供尺寸设计成适合凹部（206）的插入件（220）。 可以在插入件（220）中制造插入通道（230）。 插入件（220）然后可以被固定在凹槽（206）中，插入通道（230）和制品通道（216）对齐。

    Fluid nozzle system and method in an emitted energy system for photolithography
    5.
    发明授权
    Fluid nozzle system and method in an emitted energy system for photolithography 失效
    用于光刻的发射能量系统中的流体喷嘴系统和方法

    公开(公告)号：US06437349B1

    公开(公告)日：2002-08-20

    申请号：US09598664

    申请日：2000-06-20

    申请人： Edwin G. Haas ,  Robert M. Gutowski ,  Vincent S. Calia

    发明人： Edwin G. Haas ,  Robert M. Gutowski ,  Vincent S. Calia

    IPC分类号： H05H134

    CPC分类号： H05G2/003 ,  B05B1/005 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70858 ,  H05G2/006

    摘要： An emitted energy system for use in photolithography may include a fluid nozzle. A nozzle and its method of manufacture are provided. A nozzle (22) may include a nozzle cavity (110) disposed within a nozzle body (100) between an up-stream end (102) and a down-stream end (104). A nozzle passage (118) may be defined within the nozzle cavity (110) and extend a longitudinal length (120) from the down-stream end (104) of the nozzle body (100) into the nozzle cavity (110). A discharge orifice (124) may also be defined at the down-stream end (104) of the nozzle cavity (110) and have an associated width (126). The width (126) of the discharge orifice (124) may be substantially less than the longitudinal length (120) of the nozzle passage (118).

    摘要翻译： 用于光刻的发射能量系统可以包括流体喷嘴。 提供喷嘴及其制造方法。 喷嘴（22）可以包括设置在上游端（102）和下游端（104）之间的喷嘴体（100）内的喷嘴腔（110）。 喷嘴通道（118）可以限定在喷嘴空腔（110）内并且将纵向长度（120）从喷嘴体（100）的下游端（104）延伸到喷嘴腔（110）中。 排出口（124）也可以限定在喷嘴腔（110）的下游端（104）处，并且具有相关联的宽度（126）。 排出孔（124）的宽度（126）可以基本上小于喷嘴通道（118）的纵向长度（120）。

    Adjustable form die
    8.
    发明授权
    Adjustable form die 失效
    可调式模具

    公开(公告)号：US5546784A

    公开(公告)日：1996-08-20

    申请号：US349434

    申请日：1994-12-05

    申请人： Edwin G. Haas ,  Martin Kesselman

    发明人： Edwin G. Haas ,  Martin Kesselman

    IPC分类号： B21D37/02 ,  B21J13/02 ,  B30B15/02 ,  B21D37/14

    CPC分类号： B30B15/02 ,  B21D37/02 ,  B21J13/02 ,  G05B2219/49025

    摘要： This invention details a computer controlled self adjusting sheet metal forming die which can provide rapid contour changes. It eliminates the need to manufacture, store, and change individual forming dies for forming different contours, and comprises a computer control device which sends appropriately timed signals to translate each contour element so that a three dimension surface is formed by a discrete matrix of individual pins. This self adjusting sheet metal forming die is used on a sheet metal press wherein sheet metal can be formed by pressing or stretch forming the metal against the contoured surface.

    摘要翻译： 本发明详细描述了可以提供快速轮廓变化的计算机控制的自调整钣金成型模具。 它消除了制造，存储和更换用于形成不同轮廓的各个成型模具的需要，并且包括计算机控制装置，该计算机控制装置发送适当的定时信号以平移每个轮廓元件，使得三维表面由各个销的离散矩阵形成 。 这种自调整金属板成形模被用于金属板上，其中可以通过将金属压制或拉伸成形成轮廓表面而形成金属板。

    Two-Axis Sagittal Focusing Monochromator
    10.
    发明申请
    Two-Axis Sagittal Focusing Monochromator 失效
    双轴矢状聚焦单色器

    公开(公告)号：US20120063569A1

    公开(公告)日：2012-03-15

    申请号：US13227517

    申请日：2011-09-08

    申请人： Edwin G. Haas ,  Christopher Stelmach ,  Zhong Zhong

    发明人： Edwin G. Haas ,  Christopher Stelmach ,  Zhong Zhong

    IPC分类号： G21K1/06

    CPC分类号： G21K1/06 ,  G21K2201/062 ,  G21K2201/064

    摘要： An x-ray focusing device and method for adjustably focusing x-rays in two orthogonal directions simultaneously. The device and method can be operated remotely using two pairs of orthogonal benders mounted on a rigid, open frame such that x-rays may pass through the opening in the frame. The added x-ray flux allows significantly higher brightness from the same x-ray source.

    摘要翻译： 一种用于可同时在两个正交方向上可调整地聚焦X射线的X射线聚焦装置和方法。 该装置和方法可以使用安装在刚性开放框架上的两对正交弯曲器远程操作，使得X射线可以穿过框架中的开口。 添加的X射线通量允许来自相同x射线源的明显更高的亮度。