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    Electroless nickel plating baths
    4.
    发明授权
    Electroless nickel plating baths 失效
    化学镀镍浴

    公开(公告)号：US5258061A

    公开(公告)日：1993-11-02

    申请号：US979100

    申请日：1992-11-20

    申请人： Nicholas M. Martyak ,  Bruce F. Monzyk ,  Henry H. Chien

    发明人： Nicholas M. Martyak ,  Bruce F. Monzyk ,  Henry H. Chien

    IPC分类号： C23C18/34 ,  C23C18/36

    CPC分类号： C23C18/34

    摘要： Aqueous electroless nickel plating solutions comprising a water soluble nickel salt associated with a neutral zwitterion, e.g. alanine or glycine, and/or monovalent anion, e.g. lactate, nitrate, hypophosphite, acetate, sulfamate, hydrochloride, formate, propionate, trichloroacetate, trifluoroacetate, methanesulfonate, glycolate, aspartate or pyruvate, as counterion and chelant, a neutral, e.g. borate, or monovalent, e.g. hypophosphite, reducing agent, and a non-thiourea stabilizer, e.g. protonated dimethylamine or dimethylaminopropylamine or 2-hydroxyethanesulfonic acid. Valuable components of spent baths, e.g. nickel and neutral or monovalent anion species, can be advantageously recycled by employing solvent extraction and anion filtration operations.

    摘要翻译： 包含与中性两性离子相关的水溶性镍盐的水性无电镀镍溶液，例如 丙氨酸或甘氨酸，和/或一价阴离子，例如 乳酸盐，硝酸盐，次磷酸盐，乙酸盐，氨基磺酸盐，盐酸盐，甲酸盐，丙酸盐，三氯乙酸盐，三氟乙酸盐，甲磺酸盐，乙醇酸盐，天冬氨酸盐或丙酮酸盐，作为抗衡离子和螯合剂。 硼酸盐，或单价的。 次磷酸盐，还原剂和非硫脲稳定剂，例如， 质子化二甲胺或二甲基氨基丙胺或2-羟基乙磺酸。 废浴的有价值的成分，例如 镍和中性或单价阴离子物质可以有利地通过使用溶剂萃取和阴离子过滤操作来回收。

    Sulfate-free electroless copper plating baths
    5.
    发明授权
    Sulfate-free electroless copper plating baths 失效
    无硫酸化无电镀铜浴

    公开(公告)号：US5306336A

    公开(公告)日：1994-04-26

    申请号：US979097

    申请日：1992-11-20

    申请人： Nicholas M. Martyak ,  Bruce F. Monzyk ,  Henry H. Chien

    发明人： Nicholas M. Martyak ,  Bruce F. Monzyk ,  Henry H. Chien

    IPC分类号： C23C18/40 ,  C23C18/38

    CPC分类号： C23C18/405

    摘要： Sulfate-free electroless copper baths comprising cupric ions, formaldehyde, formate ions, hydroxyl ions, a copper counterion, e g. preferably a monovalent anion such as acetate, nitrate or formate, and copper chelant such as an alkali metal salt of aminotris(methylenephosphonic acid), biscarboxymethylaspartic acid, ethylenediaminetetra(methylenephosphonic acid), diethylenetriaminepenta(methylenephosphonic acid), gluconic acid, 1-hydroxyethylidene-1,1-diphosphonic acid, mucic acid, D-saccharac acid, tartaric acid and N,N,N',N'-tetrakis(2-hydroxypropyl)ethylenediamine are amenable to the recovery of copper, e.g. from purge streams, using the methods and apparatus including solvent extraction, e.g. employing hydroxamic acid extractants, anion filtration, ion-exchange and chelant precipitation.

    摘要翻译： 含有铜离子，甲醛，甲酸根离子，羟基离子，铜抗衡离子的无硫酸盐化学镀铜浴。 优选一价阴离子如乙酸盐，硝酸盐或甲酸盐，以及铜螯合剂如氨基三（亚甲基膦酸）的碱金属盐，双羧甲基天冬氨酸，乙二胺四（亚甲基膦酸），二亚乙基三胺五（亚甲基膦酸），葡糖酸，1-羟基亚乙基 - 1,1-二膦酸，粘酸，D-糖酸，酒石酸和N，N，N'，N'-四（2-羟丙基）乙二胺可以回收铜，例如 使用包括溶剂萃取的方法和设备，例如洗涤流。 使用异羟肟酸萃取剂，阴离子过滤，离子交换和螯合沉淀。

    Apparatus and methods for treating electroless plating baths
    6.
    发明授权
    Apparatus and methods for treating electroless plating baths 失效
    化学镀浴处理设备及方法

    公开(公告)号：US5277817A

    公开(公告)日：1994-01-11

    申请号：US979514

    申请日：1992-11-20

    申请人： Nicholas M. Martyak ,  Bruce F. Monzyk ,  Henry H. Chien

    发明人： Nicholas M. Martyak ,  Bruce F. Monzyk ,  Henry H. Chien

    IPC分类号： B01D11/02 ,  B01D61/02 ,  C23C18/16 ,  B01D11/00 ,  B01D61/00

    CPC分类号： B01D61/025 ,  B01D11/0288 ,  C23C18/1617 ,  Y10S210/912

    摘要： Apparatus and methods for removing polyvalent by-product anions, e.g. borate and orthophosphate ions, from electroless metal plating baths employing borane or hypophosphite reducing agents and typically comprising monovalent anions or neutral zwitterions as metal chelant and/or counterion. The apparatus and methods of this invention employ (a) solvent extraction to remove metal species for recycle, (b) anion filtration to separate polyvalent anions from neutral zwitterions and monovalent anions and (c) ion exchange units to remove metal and metal chelant species from polyvalent anion-containing waste streams.

    摘要翻译： 用于除去多价副产物阴离子的装置和方法 硼酸盐和正磷酸盐离子，使用硼烷或次亚磷酸盐还原剂，通常包含一价阴离子或中性两性离子作为金属螯合剂和/或抗衡离子。 本发明的装置和方法使用（a）溶剂萃取以除去用于再循环的金属物质，（b）阴离子过滤以从中性两性离子和单价阴离子分离多价阴离子和（c）离子交换单元以从金属和金属螯合物物质中除去金属和金属螯合物 含多价阴离子的废物流。