公开(公告)号：US20070177122A1

公开(公告)日：2007-08-02

申请号：US11341894

申请日：2006-01-30

申请人： Erik Loopstra ,  Adrianus Engelen ,  Bernardus Luttikhuis ,  Maria Rubingh ,  Johannes Hazenberg ,  Laurentius Jorritsma ,  Johannes Klerk ,  Bernhard Geuppert ,  Aart Van Beuzekom ,  Petrus Franciscus Mandigers ,  Franz Sorg ,  Peter Deufel

发明人： Erik Loopstra ,  Adrianus Engelen ,  Bernardus Luttikhuis ,  Maria Rubingh ,  Johannes Hazenberg ,  Laurentius Jorritsma ,  Johannes Klerk ,  Bernhard Geuppert ,  Aart Van Beuzekom ,  Petrus Franciscus Mandigers ,  Franz Sorg ,  Peter Deufel

IPC分类号： G03B27/54

CPC分类号： G03F7/70308 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70933

摘要： A lithographic apparatus has an assembly to exchange optical elements in a pupil plane of its projection system. The optical elements may be pupil filters and may conform to the physical dimensions specified for a reticle standard, e.g. having sides substantially equal to 5, 6 or 9 inches.

摘要翻译： 光刻设备具有在其投影系统的光瞳平面中交换光学元件的组件。 光学元件可以是光瞳滤光器，并且可以符合对于掩模版标准规定的物理尺寸，例如。 侧面基本上等于5,6或9英寸。

公开(公告)号：US20060066828A1

公开(公告)日：2006-03-30

申请号：US10951028

申请日：2004-09-28

申请人： Johannes Klerk

发明人： Johannes Klerk

IPC分类号： G03B27/42

CPC分类号： G03F7/709

摘要： Additional vibrations are added during the exposure of a substrate so that vibrations occurring during exposure of a plurality of areas on the substrate are substantially uniform. This may improve CD uniformity.

摘要翻译： 在基板曝光期间增加额外的振动，使得在基板上的多个区域的曝光期间发生的振动基本上是均匀的。 这可能会提高CD的均匀性。

公开(公告)号：US20050100831A1

公开(公告)日：2005-05-12

申请号：US10936727

申请日：2004-09-09

申请人： Jozef Finders ,  Judocus Stoeldraijer ,  Johannes Klerk

发明人： Jozef Finders ,  Judocus Stoeldraijer ,  Johannes Klerk

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20 ,  G03B27/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/70333 ,  G03F7/70425

摘要： A method for exposing a resist layer on a substrate to an image of a pattern on a mask is disclosed whereby, after starting exposure and before completing exposure, a controlled amount of contrast loss is introduced by a controller in the image at the resist layer by changing during exposure the position of the substrate holder. The contrast loss affects the pitch dependency of the resolution of a lithographic projection apparatus, and its control is used to match pitch dependency of resolution between different lithographic projection apparatus.

摘要翻译： 公开了一种用于将基板上的抗蚀剂层暴露于掩模上的图案的图像的方法，其中，在开始曝光之后并且在完成曝光之前，控制器通过控制器在抗蚀剂层的图像中引入受控量的对比度损失 在曝光期间改变衬底保持器的位置。 对比度损耗影响光刻投影设备的分辨率的音调依赖性，并且其控制用于匹配不同光刻投影设备之间的分辨率的音调依赖性。