公开(公告)号：US20100243970A1

公开(公告)日：2010-09-30

申请号：US12674170

申请日：2008-08-20

申请人： Eriko Toshimitsu ,  Takao Hirota ,  Masami Kadowaki

发明人： Eriko Toshimitsu ,  Takao Hirota ,  Masami Kadowaki

IPC分类号： G02F1/361

CPC分类号： G03F7/0007 ,  G02B5/223 ,  G02F1/136209 ,  G02F2202/02 ,  G02F2202/04 ,  G03F7/031

摘要： Provided is a highly reliable resin black matrix, which has sufficient light-blocking characteristics, suppresses temperature increase due to heat generated by a TFT element and does not have failures of a TFT element substrate and fluctuation in liquid crystal drive. The maximum light transmittance of the resin black matrix in a wavelength range of 400 nm-700 nm is permitted to be 1% or less and the average light transmittance in a wavelength range of 850 nm-3,000 nm to be 60% or higher. Alternatively, the minimum light transmittance is permitted to be 50% or more.

摘要翻译： 提供了一种高度可靠的树脂黑矩阵，其具有足够的阻光特性，抑制由TFT元件产生的热量引起的温度升高，并且不会导致TFT元件基板的故障和液晶驱动的波动。 在400nm-700nm的波长范围内的树脂黑矩阵的最大透光率允许为1％以下，在850nm-3000nm的波长范围内的平均透光率为60％以上。 或者，允许最小透光率为50％以上。

公开(公告)号：US06861202B2

公开(公告)日：2005-03-01

申请号：US10378915

申请日：2003-03-05

申请人： Eriko Toshimitsu ,  Hideaki Okamoto

发明人： Eriko Toshimitsu ,  Hideaki Okamoto

IPC分类号： B41C1/10 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/033 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40

CPC分类号： B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/033 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146 ,  Y10S430/165

摘要： A method for treating a photosensitive lithographic printing plate, which comprises exposing the photosensitive lithographic printing plate to laser light, developing with a developer containing an alkali metal silicate and then carrying out post-exposure treatment, said photosensitive lithographic printing plate being prepared by forming a photopolymerizable photosensitive layer having a film thickness of from 1.2 to 4 g/m2 and further forming a protective layer having a film thickness of from 2 to 8 g/m2 on a support having a centerline average height (Ra) of at least 0.35 μm.

摘要翻译： 一种用于处理感光平版印刷版的方法，其包括将感光性平版印刷版曝光于激光上，用含有碱金属硅酸盐的显影剂显影，然后进行曝光后处理，所述光敏平版印刷版通过形成 在具有中心线平均高度（Ra）的支撑体上进一步形成膜厚度为2〜8g / m 2的保护层的膜厚为1.2〜4g / m 2的光聚合感光层， 至少0.35毫米。

公开(公告)号：US06558875B1

公开(公告)日：2003-05-06

申请号：US09625362

申请日：2000-07-25

申请人： Eriko Toshimitsu ,  Hideaki Okamoto

发明人： Eriko Toshimitsu ,  Hideaki Okamoto

IPC分类号： G03F709

CPC分类号： B41C1/1008 ,  B41C1/1016 ,  B41C2201/02 ,  B41C2201/14 ,  B41C2210/04 ,  B41C2210/06 ,  B41C2210/22 ,  B41C2210/24 ,  G03F7/027 ,  G03F7/029 ,  G03F7/033 ,  Y10S430/145 ,  Y10S430/146 ,  Y10S430/165

摘要： A method for treating a photosensitive lithographic printing plate, which comprises exposing the photosensitive lithographic printing plate to laser light, developing with a developer containing an alkali metal silicate and then carrying out post-exposure treatment, said photosensitive lithographic printing plate being prepared by forming a photopolymerizable photosensitive layer having a film thickness of from 1.2 to 4 g/m2 and further forming a protective layer having a film thickness of from 2 to 8 g/m2 on a support having a centerline average height (Ra) of at least 0.35 &mgr;m.

摘要翻译： 一种用于处理感光平版印刷版的方法，其包括将感光性平版印刷版曝光于激光上，用含有碱金属硅酸盐的显影剂显影，然后进行曝光后处理，所述光敏平版印刷版通过形成 光致聚合感光层的膜厚为1.2〜4g / m 2，并且在中心线平均高度（Ra）为0.35μm以上的支持体上进一步形成膜厚为2〜8g / m 2的保护层。