公开(公告)号：US5985998A

公开(公告)日：1999-11-16

申请号：US248565

申请日：1999-02-11

申请人： Eugene G. Sommerfeld ,  Frank Schadt, III

发明人： Eugene G. Sommerfeld ,  Frank Schadt, III

IPC分类号： C08F255/06 ,  C08F265/04 ,  C08F265/06 ,  C08F290/04 ,  C08F291/00 ,  C08G18/42 ,  C08G18/62 ,  C08G18/67 ,  C08G18/80 ,  C08L33/00 ,  C08L101/00 ,  C09D151/00 ,  C09D167/00 ,  G03F7/033 ,  C08L35/00 ,  C08L39/04

CPC分类号： G03F7/033 ,  C08F255/06 ,  C08F265/04 ,  C08F265/06 ,  C08F290/04 ,  C08F290/046 ,  C08F291/00 ,  C08G18/4216 ,  C08G18/6229 ,  C08G18/6254 ,  C08G18/673 ,  C08G18/8077 ,  C08L101/00 ,  C09D151/003 ,  C09D167/00 ,  C08L33/00

摘要： A novel class of interpenetrating polymer networks which are dispersible in conventional coating solvents is disclosed. Such dispersions are useful in preparing protective and/or decorative film coatings and are particularly useful in photosensitive or imaging formulations such as photoresists, solder masks and the like. These polymer networks are comprised of at least two interpenetrating crosslinked polymers. At least one of the polymer networks is formed by polymerization in a solvent. In one embodiment of this invention, at least one polymer network is prepared from macromers to produce a polymer system having functionalized branch or graft linear segments. The solvent dispersible interpenetrating networks of this invention are particularly useful as binders in addition polymerizable photosensitive compositions containing crosslinking monomers such as solder masks. Upon exposure to actinic radiation and suitable thermal curing, solder mask coatings of such photosensitive compositions form multiple, e.g., triple, interpenetrating polymer networks having superior toughness and flexibility.

摘要翻译： 公开了可分散在常规涂层溶剂中的新颖的互穿聚合物网络。 这种分散体可用于制备保护性和/或装饰性膜涂层，并且特别适用于感光或成像制剂，例如光致抗蚀剂，阻焊剂等。 这些聚合物网络由至少两个互穿交联聚合物组成。 通过在溶剂中聚合形成聚合物网络中的至少一个。 在本发明的一个实施方案中，由大分子单体制备至少一种聚合物网络以产生具有官能化的支链或接枝线性链段的聚合物体系。 本发明的溶剂可分散的互穿网络特别可用作含有交联单体如焊料掩模的加成可聚合光敏组合物中的粘合剂。 在曝光于光化辐射和合适的热固化之后，这种光敏组合物的焊接掩模涂层形成具有优异韧性和柔韧性的多重例如三重互穿聚合物网络。

公开(公告)号：US20050277052A1

公开(公告)日：2005-12-15

申请号：US10523491

申请日：2003-08-08

申请人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

发明人： Andrew Feiring ,  Frank Schadt, III ,  Viacheslav Petrov ,  Bruce Smart ,  William Farnham

IPC分类号： C08F8/00 ,  C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F216/12 ,  C08F220/24 ,  C08F232/00 ,  C08F232/08 ,  G03C1/492 ,  G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

CPC分类号： C08F214/18 ,  C08F214/26 ,  C08F220/24 ,  C08F232/08 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0395 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： This invention provides novel fluorine containing polymers which comprise at least one fluorinated olefin, at least one polycyclic ethylenically unsaturated monomer with a fused 4-membered carbocyclic ring and, optionally, other components. The polymers are useful for photoimaging compositions and, in particular, photoresist compositions (positive-working and/or negative-working) for imaging in the production of semiconductor devices. The polymers are especially useful in photoresist compositions having high UV transparency (particularly at short wavelengths, e.g., 157 nm) which are useful as base resins in resists and potentially in many other applications.

摘要翻译： 本发明提供新颖的含氟聚合物，其包含至少一种氟化烯烃，至少一种具有稠合的4元碳环的多烯键式不饱和单体和任选的其它组分。 聚合物可用于光成像组合物，特别是用于制造半导体器件的成像的光致抗蚀剂组合物（正性和/或负性）。 聚合物特别适用于具有高UV透明度（特别是短波长，例如157nm）的光致抗蚀剂组合物，其可用作抗蚀剂中的基础树脂并且潜在地在许多其它应用中。