公开(公告)号：US08983644B2

公开(公告)日：2015-03-17

申请号：US12784428

申请日：2010-05-20

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Chi-An Kao ,  Hsien-Cheng Huang ,  Yung-Cheng Chang

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Chi-An Kao ,  Hsien-Cheng Huang ,  Yung-Cheng Chang

IPC分类号： G06F19/00 ,  G06E1/00 ,  G06F3/00 ,  G06F15/18 ,  G05B19/418

CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/31459 ,  G05B2219/32191 ,  G05B2219/35346 ,  G05B2219/45031 ,  Y02P90/12 ,  Y02P90/20 ,  Y02P90/22

摘要： A manufacturing execution system (MES) with virtual-metrology capabilities and a manufacturing system including the MES are provided. The MES is built on a middleware architecture (such as an object request broker architecture), and includes an equipment manager, a virtual metrology system (VMS), a statistical process control (SPC) system, an alarm manager and a scheduler. The manufacturing system includes a first process tool, a second process tool, a metrology tool, the aforementioned MES, a first R2R (Run-to-Run) controller and a second R2R controller.

摘要翻译： 提供了具有虚拟计量能力的制造执行系统（MES）和包括MES的制造系统。 MES建立在中间件架构（例如对象请求代理体系结构）上，并且包括设备管理器，虚拟测量系统（VMS），统计过程控制（SPC）系统，报警管理器和调度器。 制造系统包括第一处理工具，第二处理工具，计量工具，上述MES，第一R2R（运行到运行）控制器和第二R2R控制器。

公开(公告)号：US07603328B2

公开(公告)日：2009-10-13

申请号：US11879562

申请日：2007-07-18

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Chi-An Kao

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Chi-An Kao

IPC分类号： G06E1/00 ,  G06E3/00 ,  G06F15/18 ,  G06G7/00 ,  G06N3/02

CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/32191 ,  G05B2219/32195 ,  G05B2219/32206 ,  G05B2219/37224 ,  Y02P90/22

摘要： A dual-phase virtual metrology method is disclosed for considering both promptness and accuracy by generating dual-phase virtual metrology (VM) values, wherein a Phase-I conjecture step emphasizes promptness by immediately calculating the Phase-I virtual metrology value (VMI) of a workpiece once the entire process data of the workpiece are completely collected; and a Phase-II conjecture step intensifies accuracy, which does not re-calculate the Phase-II virtual metrology values (VMII) of all the workpieces in the cassette until an actual metrology value (required for tuning or re-training purposes) of a selected workpiece in the same cassette is collected. Besides, the accompanying reliance index (RI) and global similarity index (GSI) of each VMI and VMII are also generated.

摘要翻译： 公开了一种双相虚拟测量方法，用于通过产生双相虚拟测量（VM）值来及时和准确地考虑其中，其中，阶段I推测步骤通过立即计算第I阶虚拟测量值（VMI） 一旦工件的整个工艺数据被完全收集， 并且阶段II推测步骤增强精度，其不会重新计算盒中所有工件的阶段II虚拟测量值（VMII），直到实际测量值（调谐或重新训练目的所需）为止 在同一盒中选择的工件被收集。 此外，还产生了每个VMI和VMII的伴随依赖指数（RI）和全局相似性指数（GSI）。

公开(公告)号：US20080306625A1

公开(公告)日：2008-12-11

申请号：US11879562

申请日：2007-07-18

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Chi-An Kao

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Chi-An Kao

IPC分类号： G06F17/10 ,  G06F19/00

CPC分类号： G05B19/41875 ,  G05B2219/32191 ,  G05B2219/32195 ,  G05B2219/32206 ,  G05B2219/37224 ,  Y02P90/22

摘要： A dual-phase virtual metrology method is disclosed for considering both promptness and accuracy by generating dual-phase virtual metrology (VM) values, wherein a Phase-I conjecture step emphasizes promptness by immediately calculating the Phase-I virtual metrology value (VMI) of a workpiece once the entire process data of the workpiece are completely collected; and a Phase-II conjecture step intensifies accuracy, which does not re-calculate the Phase-II virtual metrology values (VMII) of all the workpieces in the cassette until an actual metrology value (required for tuning or re-training purposes) of a selected workpiece in the same cassette is collected. Besides, the accompanying reliance index (RI) and global similarity index (GSI) of each VMI and VMII are also generated.

摘要翻译： 公开了一种双相虚拟测量方法，用于通过产生双相虚拟测量（VM）值来及时和准确地考虑其中，其中，阶段I推测步骤通过立即计算第I阶虚拟测量值（VMI） 一旦工件的整个工艺数据被完全收集， 并且阶段II推测步骤增强精度，其不会重新计算盒中所有工件的阶段II虚拟测量值（VMII），直到实际测量值（调谐或重新训练目的所需）为止 在同一盒中选择的工件被收集。 此外，还产生了每个VMI和VMII的伴随依赖指数（RI）和全局相似性指数（GSI）。

公开(公告)号：US08688256B2

公开(公告)日：2014-04-01

申请号：US13193607

申请日：2011-07-29

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Chi-An Kao ,  Wei-Ming Wu

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Chi-An Kao ,  Wei-Ming Wu

IPC分类号： G05B13/02 ,  G06F19/00

CPC分类号： G05B13/042 ,  G05B19/41835 ,  G05B2219/32135 ,  Y02P90/12 ,  Y02P90/22

摘要： An advanced process control (APC) system, an APC method, and a computer program product, which, when executed, performs an APC method are provided for incorporating virtual metrology (VM) into APC. The present inventions uses a reliance index (RI) and a global similarity index (GSI) to adjust at least one controller gain of a run-to-run (R2R) controller when the VM value of a workpiece is adopted to replace the actual measurement value of the workpiece. The RI is used for gauging the reliability of the VM value, and the GSI is used for assessing the degree of similarity between the set of process data for generating the VM value and all the sets of historical process data used for building the conjecturing model.

摘要翻译： 提供了一种先进的过程控制（APC）系统，APC方法和计算机程序产品，其在执行时执行APC方法，用于将虚拟测量（VM）并入APC中。 当采用工件的VM值代替实际测量值时，本发明使用依赖指数（RI）和全局相似度指数（GSI）来调整运行中（R2R）控制器的至少一个控制器增益 工件的值。 RI用于测量VM值的可靠性，GSI用于评估用于生成VM值的一组过程数据与用于构建推测模型的所有历史过程数据集之间的相似度。

公开(公告)号：US08095484B2

公开(公告)日：2012-01-10

申请号：US12207706

申请日：2008-09-10

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Yi-Ting Huang ,  Jia-Mau Jian

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Yi-Ting Huang ,  Jia-Mau Jian

IPC分类号： G06F15/18

CPC分类号： G05B19/41875 ,  Y02P90/18 ,  Y02P90/22

摘要： A server, a system and a method for automatic virtual metrology (AVM) are disclosed. The AVM system comprises a model-creation server and a plurality of AVM servers. The model-creation server is used to construct the first set of virtual metrology (VM) models (of a certain equipment type) including a VM conjecture model, a RI (Reliance Index) model, a GSI (Global Similarity Index) model, a DQIx (Process Data Quality Index) model, and a DQIy (Metrology Data Quality Index) model. In the AVM method, the model-creation server also can fan out or port the first set of VM models generated to other AVM servers of the same process apparatus (equipment) type, and each individual fan-out-acceptor's AVM server can perform automatic model refreshing processes so as to gain and maintain its VM models' accuracy.

摘要翻译： 公开了一种用于自动虚拟计量（AVM）的服务器，系统和方法。 AVM系统包括模型创建服务器和多个AVM服务器。 模型创建服务器用于构建第一组虚拟计量（VM）模型（某种设备类型），包括VM推测模型，RI（Reliance Index）模型，GSI（全球相似度指数）模型， DQIx（过程数据质量指数）模型和DQIy（计量数据质量指数）模型。 在AVM方法中，模型创建服务器还可以扇出或移植生成给相同处理设备（设备）类型的其他AVM服务器的第一组VM模型，并且每个独立的扇出接收器的AVM服务器可以执行自动 模型刷新过程，以获得和维护其VM模型的准确性。

公开(公告)号：US20090292386A1

公开(公告)日：2009-11-26

申请号：US12207706

申请日：2008-09-10

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Yi-Ting Huang ,  Jia-Mau Jian

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Hsien-Cheng Huang ,  Yi-Ting Huang ,  Jia-Mau Jian

IPC分类号： G06F19/00 ,  G06F17/50

CPC分类号： G05B19/41875 ,  Y02P90/18 ,  Y02P90/22

摘要： A server, a system and a method for automatic virtual metrology (AVM) are disclosed. The AVM system comprises a model-creation server and a plurality of AVM servers. The model-creation server is used to construct the first set of virtual metrology (VM) models (of a certain equipment type) including a VM conjecture model, a RI (Reliance Index) model, a GSI (Global Similarity Index) model, a DQIx (Process Data Quality Index) model, and a DQIy (Metrology Data Quality Index) model. In the AVM method, the model-creation server also can fan out or port the first set of VM models generated to other AVM servers of the same process apparatus (equipment) type, and each individual fan-out-acceptor's AVM server can perform automatic model refreshing processes so as to gain and maintain its VM models' accuracy.

摘要翻译： 公开了一种用于自动虚拟计量（AVM）的服务器，系统和方法。 AVM系统包括模型创建服务器和多个AVM服务器。 模型创建服务器用于构建第一组虚拟计量（VM）模型（某种设备类型），包括VM推测模型，RI（Reliance Index）模型，GSI（全球相似度指数）模型， DQIx（过程数据质量指数）模型和DQIy（计量数据质量指数）模型。 在AVM方法中，模型创建服务器还可以扇出或移植生成给相同处理设备（设备）类型的其他AVM服务器的第一组VM模型，并且每个独立的扇出接收器的AVM服务器可以执行自动 模型刷新过程，以获得和维护其VM模型的准确性。

公开(公告)号：US07593912B2

公开(公告)日：2009-09-22

申请号：US11617957

申请日：2006-12-29

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Yeh-Tung Chen ,  Yu-Chuan Su

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Yeh-Tung Chen ,  Yu-Chuan Su

IPC分类号： G06F15/00 ,  G06F15/18

CPC分类号： G05B23/024

摘要： A method for evaluating reliance level of a virtual metrology system is disclosed. In this method, a reliance index (RI) and a RI threshold value are calculated by analyzing the process data of production equipment, thereby determining if the virtual metrology result is reliable. Besides, in this method, a global similarity index (GSI) and individual similarity indexes (ISI) are also provided for defining the degree of similarity between the current set of process data and all of the sets of historical process data used for establishing the conjecture model, thereby assisting the RI in gauging the degree of reliance and locating the key parameter(s) that cause major deviation.

摘要翻译： 公开了一种用于评估虚拟测量系统的可靠性水平的方法。 在该方法中，通过分析生产设备的过程数据来计算依赖指数（RI）和RI阈值，从而确定虚拟测量结果是否可靠。 此外，在该方法中，还提供了全局相似性指数（GSI）和个体相似性指数（ISI），用于定义当前流程数据集与用于建立猜想的所有历史过程数据集合之间的相似度 模型，从而帮助RI衡量依赖程度，定位导致重大偏差的关键参数。

公开(公告)号：US08515793B2

公开(公告)日：2013-08-20

申请号：US12724553

申请日：2010-03-16

申请人： Ying-Liang Chen ,  Haw-Ching Yang ,  Fan-Tien Cheng

发明人： Ying-Liang Chen ,  Haw-Ching Yang ,  Fan-Tien Cheng

IPC分类号： G06Q10/00

CPC分类号： G06Q10/087 ,  G06Q10/04 ,  G06Q50/04 ,  Y02P90/30

摘要： A virtual production control system (VPCS), and a virtual production control method and a computer program product thereof are provided. At first, the VPCS processes historical work-in-process (WIP) information and a current shipping plan sent from a supplier side, thereby obtaining a plurality of sets of WIP input/output historical data and a goods output schedule. Then, the VPCS performs an integer programming (IP) method to find the latest output schedule in accordance to the current shipping plan; uses a genetic algorithm (GA) to fit the historical distributed-parameters; adopts a neural network (NN) method to predict the future distributed-parameters of production; and finally utilizes a Petri Nets to simulate and obtain a latest feasible input schedule and a latest feasible output schedule.

摘要翻译： 提供虚拟生产控制系统（VPCS）以及虚拟生产控制方法及其计算机程序产品。 首先，VPCS处理从供应商侧发送的历史工作在线（WIP）信息和当前运送计划，从而获得多组WIP输入/输出历史数据和货物输出计划。 然后，VPCS执行整数规划（IP）方法，以根据当前运输计划查找最新的输出计划; 使用遗传算法（GA）来适应历史分布参数; 采用神经网络（NN）方法预测未来生产分布参数; 最后利用Petri网来模拟并获得最新的可行输入计划和最新可行的输出计划。

公开(公告)号：US07386751B2

公开(公告)日：2008-06-10

申请号：US10272057

申请日：2002-10-16

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Haw-Ching Yang ,  Chia-Ying Tsai

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Haw-Ching Yang ,  Chia-Ying Tsai

IPC分类号： G06F11/00

CPC分类号： G06Q10/10 ,  G06Q10/0631 ,  G06Q10/101

摘要： A generic service management system is disclosed. The generic service management system comprises a registration scheme; a search-and-execution scheme; and a detection-and-replacement scheme, used for detecting and replacing the invalid service provider, such as a semiconductor equipment manager. The present invention provides a GEV (Generic Evaluator) having the capabilities of error-detecting and data backup, and further combines Jini infrastructure and the programming technology of design by contract. The GEV archives the credit values of all the service providers for letting a client (such as a factory manager) to select a service provider having a higher credit value. The GEV periodically backups the execution status and parameters of service providers, so that, in case a service provider has errors, its backup information of execution status and parameters can be assigned to another service provider for continuously executing the unfinished job, thereby enhancing the reliability of distributed object-oriented systems. The present invention can detect abnormal behaviors, such as system crash, errors in transmitting information and degradation of performance, etc., and is suitable for use in production systems that are connected by networks, such as semiconductor manufacturing systems, optical telecommunication production systems, etc.

摘要翻译： 公开了通用业务管理系统。 通用业务管理系统包括注册方案; 搜索和执行计划; 以及用于检测和替换诸如半导体设备管理器的无效服务提供商的检测和替换方案。 本发明提供具有错误检测和数据备份功能的GEV（通用评估器），并且通过合同进一步结合了Jini基础设施和设计编程技术。 GEV归档所有服务提供商的信用值，让客户（如工厂经理）选择具有较高信用额度的服务提供商。 GEV定期备份服务提供商的执行状态和参数，以便在服务提供商出现错误的情况下，其执行状态和参数的备份信息可以分配给另一个服务提供商，以连续执行未完成的作业，从而提高可靠性 的分布式面向对象系统。 本发明可以检测系统崩溃，传输信息错误和性能劣化等异常行为，适用于通过网络连接的生产系统，如半导体制造系统，光通信生产系统， 等等

公开(公告)号：US07003367B2

公开(公告)日：2006-02-21

申请号：US10254139

申请日：2002-09-24

申请人： Fan-Tien Cheng ,  Chun-Yen Teng

发明人： Fan-Tien Cheng ,  Chun-Yen Teng

IPC分类号： G06F19/00 ,  G06F3/00

CPC分类号： G05B19/41865 ,  G05B2219/31426 ,  Y02P90/12 ,  Y02P90/20

摘要： An equipment management method for managing semiconductor equipment via an equipment manager. In the equipment management method, production scenario rules and equipment behavior rules are first defined respectively in a production scenario database of a configuration controller and an equipment behavior database of an equipment driver. Them, a command is received from a manufacturing execution system (MES), and is converted into a production process scenario by looking up the corresponding production scenario rule in the production scenario database. Thereafter, the production process scenario is converted into a GEI (generic equipment interface) message with a GEI message specification, and the GEI message is transmitted to the equipment driver. Then, the GEI message is converted into equipment communication messages regulated by an equipment communication protocol by looking up the corresponding equipment behavior rule in the equipment behavior database. Then, the equipment communication messages are transmitted to equipment.

摘要翻译： 一种用于通过设备管理器管理半导体设备的设备管理方法。 在设备管理方法中，首先在配置控制器的生产场景数据库和设备驱动程序的设备行为数据库中分别定义生产场景规则和设备行为规则。 他们从制造执行系统（MES）接收到一条命令，并通过在生产场景数据库中查找相应的生产场景规则将其转换为生产过程场景。 此后，将生产流程场景转换为具有GEI消息规范的GEI（通用设备接口）消息，并将GEI消息传送给设备驱动程序。 然后，通过查找设备行为数据库中的相应设备行为规则，将GEI消息转换为由设备通信协议规定的设备通信消息。 然后，设备通信消息被传送到设备。