公开(公告)号：US20050219481A1

公开(公告)日：2005-10-06

申请号：US10816189

申请日：2004-04-02

申请人： Henrikus Herman Cox ,  Petrus Marinus Christianus Van Den Biggelaar ,  Frits Meulen ,  Franciscus Andreas Cornelis Spanjers ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Arend-Jan Migchelbrink

发明人： Henrikus Herman Cox ,  Petrus Marinus Christianus Van Den Biggelaar ,  Frits Meulen ,  Franciscus Andreas Cornelis Spanjers ,  Jan-Gerard Van Der Toorn ,  Arend-Jan Migchelbrink

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70341

摘要： A lithographic apparatus for immersion lithography is described in which a compensation controller controls actuators to apply forces to the substrate equal in magnitude and opposite in direction to forces which are applied to the substrate by a liquid supply system which supplies liquid between the projection system and the substrate.

摘要翻译： 描述了一种用于浸没式光刻的光刻设备，其中补偿控制器控制致动器以将力施加到基板上，其尺寸相等，方向与施加到基板的力相反，该液体供应系统在投影系统和 基质。

公开(公告)号：US20080297758A1

公开(公告)日：2008-12-04

申请号：US12213930

申请日：2008-06-26

申请人： Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans ,  Edwin Johan Buis ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Jan Van Elp ,  Jan Frederik Hoogkamp ,  Aschwin Lodewijk Hendricus Van Meer ,  Patrick Johannes Cornelus Smulders ,  Franciscus Andreas Cornelis Spanjers ,  Johannes Petrus Martinus Ber Vermeulen ,  Raimond Visser ,  Henricus Gerardus Tegenbosch ,  Johannes Charles Adrianus Van Den Berg ,  Henricus Johannes Adrianus Van De Sande ,  Thijs Vervoort

发明人： Patricius Aloysius Jacobus Tinnemans ,  Edwin Johan Buis ,  Sjoerd Nicolaas Lambertus Donders ,  Jan Van Elp ,  Jan Frederik Hoogkamp ,  Aschwin Lodewijk Hendricus Van Meer ,  Patrick Johannes Cornelus Smulders ,  Franciscus Andreas Cornelis Spanjers ,  Johannes Petrus Martinus Ber Vermeulen ,  Raimond Visser ,  Henricus Gerardus Tegenbosch ,  Johannes Charles Adrianus Van Den Berg ,  Henricus Johannes Adrianus Van De Sande ,  Thijs Vervoort

IPC分类号： G03B27/58

CPC分类号： G03F7/70741 ,  B25J13/089 ,  G03F7/7075 ,  G03F7/70925 ,  H01L21/6833 ,  H02N13/00

摘要： The invention relates to a transfer apparatus for transferring an object (W). the transfer apparatus comprises a gripper (15) for at least one of gripping the object (W) at a first position and then releasing the object (W) at a second position proximate to a receiver (20) and releasing the object (W) at a first position after gripping the object at a second position proximate to the receiver (20). The transfer apparatus is further provided with a measurement device (22) arranged to measure the relative position of the gripper (15) with respect to the receiver (20) in at least one dimension. Further, a relative position error is defined with respect to a desired relative position based on the relative position measured. The relative position of the gripper (15) and the receiver (20) are adjusted for minimizing the relative position error in the second position.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于传送物体（W）的传送装置。 传送装置包括用于在第一位置处夹持物体（W）的至少一个然后在靠近接收器（20）的第二位置处释放物体（W）的至少一个并且释放物体（W）的夹持器（15） 在靠近接收器（20）的第二位置处夹持物体之后的第一位置。 传送装置还设置有测量装置（22），该测量装置设置成在至少一个维度上测量夹具（15）相对于接收器（20）的相对位置。 此外，基于测量的相对位置，相对于期望的相对位置来定义相对位置误差。 调整夹持器（15）和接收器（20）的相对位置以最小化第二位置中的相对位置误差。