公开(公告)号：US5703712A

公开(公告)日：1997-12-30

申请号：US509223

申请日：1995-07-31

申请人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  G02B6/00 ,  C03C3/04 ,  C03C4/08 ,  C03C13/00

CPC分类号： C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

摘要： Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also, there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of the using a secondary treatment for hydrogen introduction.

摘要翻译： 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，通过在二氧化硅玻璃的合成时，通过引入氢分子，可以提供对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃构件，而不是使用二次氢气导入处理。

公开(公告)号：US5696624A

公开(公告)日：1997-12-09

申请号：US648867

申请日：1996-05-16

申请人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Norio Komine ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20

CPC分类号： C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

摘要： Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of silica glass, instead of the secondary treatment for hydrogen introduction.

摘要翻译： 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，在二氧化硅玻璃的合成中，通过引入氢分子，而不是进行氢的二次处理，提供了对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US06518210B1

公开(公告)日：2003-02-11

申请号：US09593441

申请日：2000-06-14

申请人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  G03F7/70241 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and an OH group concentration of at least 1,000 ppm. The silica glass is used for photolithography together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

摘要翻译： 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，OH基浓度为1,000ppm以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起用于光刻。

公开(公告)号：US5958809A

公开(公告)日：1999-09-28

申请号：US915562

申请日：1997-08-21

申请人： Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Shouji Yajima ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

发明人： Seishi Fujiwara ,  Hiroyuki Hiraiwa ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Shouji Yajima ,  Norio Komine ,  Hiroki Jinbo

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20 ,  C03C13/04

CPC分类号： C03B19/14 ,  C03B37/014 ,  C03B37/0142 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G03F7/2004 ,  C03B2201/07 ,  C03B2207/66 ,  C03C2201/12 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/46 ,  Y02P40/57 ,  Y10S501/905

摘要： The invention relates to fluorine-containing silica glasses, and methods of their production. The silica glass may be used for an ultraviolet light optical system in which light in a wavelength region of 200 nm or less, such as an ArF (193 nm) excimer laser, is used. The invention also relates to a projection exposure apparatus containing fluorine-containing glass of the invention.

摘要翻译： 本发明涉及含氟二氧化硅玻璃及其制造方法。 石英玻璃可以用于其中使用200nm以下的波长区域的光，例如ArF（193nm）准分子激光器的紫外线光学系统。 本发明还涉及包含本发明的含氟玻璃的投影曝光装置。

公开(公告)号：US6087283A

公开(公告)日：2000-07-11

申请号：US581017

申请日：1996-01-03

申请人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

发明人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Hiroyuki Hiraiwa

IPC分类号： C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70958 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/42 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass has a structure determination temperature of 1200 K or lower and an OH group concentration of at least 1,000 ppm. The silica glass is used for photolithography together with light in a wavelength region of 400 nm or shorter.

摘要翻译： 石英玻璃的结构测定温度为1200K以下，OH基浓度为1000ppm以上。 石英玻璃与波长400nm以下的光一起用于光刻。

公开(公告)号：US5699183A

公开(公告)日：1997-12-16

申请号：US484863

申请日：1995-06-07

申请人： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Norio Komine ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Issey Tanaka

发明人： Hiroyuki Hiraiwa ,  Seishi Fujiwara ,  Hiroki Jinbo ,  Jun Takano ,  Norio Komine ,  Kazuhiro Nakagawa ,  Issey Tanaka

IPC分类号： C03B8/04 ,  C03B19/14 ,  C03C3/06 ,  C03C4/00 ,  G02B1/00 ,  G02B13/14 ,  G03F7/20 ,  G03B27/42

CPC分类号： C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03C3/06 ,  C03C4/0085 ,  G02B1/00 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2203/22 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/12 ,  C03B2207/20 ,  C03B2207/36 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/52 ,  Y10S359/90 ,  Y10S501/905

摘要： Recent UV-lithography is required to provide a fine and sharp pattern with a line width of 0.5 .mu.m or less. The present invention provides a silica glass member adapted for use as an optical element for UV-lithography, by giving consideration to the RMS value of wave front aberration and the slant element of refractive index, which have not been considered in the art. Also, there is provided a silica glass member excellent in durability to the ultraviolet irradiation, by introduction of hydrogen molecules at the synthesis of the silica glass, instead of using a secondary treatment for hydrogen introduction.

摘要翻译： 需要最近的UV光刻来提供线宽为0.5μm或更小的精细且清晰的图案。 本发明提供一种二氧化硅玻璃构件，其通过考虑本领域中尚未考虑的波面像差的RMS值和折射率的倾斜元素，用作用于UV光刻的光学元件。 另外，在二氧化硅玻璃的合成中，通过引入氢分子，而不是使用二次氢气导入来提供对紫外线照射的耐久性优异的二氧化硅玻璃。

公开(公告)号：US6075607A

公开(公告)日：2000-06-13

申请号：US166528

申请日：1998-10-06

申请人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Seishi Fujiwara

发明人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Seishi Fujiwara

IPC分类号： G01N21/88 ,  G01N17/00 ,  G01N21/59 ,  G01N21/958 ,  G01B11/00

CPC分类号： G01N17/004

摘要： A method is provided for estimating durability of an optical member against pulsed excimer laser beam irradiation. The method includes the steps of (a) irradiating a test sample for the optical member with a pulsed excimer laser beam to induce changes in transparency of the test sample with respect to the pulsed excimer laser beam, the irradiation being performed for such a time period as to cover not only a linear region and a saturation region and (b) measuring changes in the transparency of the test sample with respect to the pulsed excimer laser beam as a function of the cumulative number of the excimer laser pulses that have irradiated the test sample in step (a). The method further includes the step of (c) repeating steps (a) and (b) with a plurality of different first predetermined energy densities of the pulsed excimer laser beam to derive a correlation equation representing the changes in the transparency of the test sample in the linear region and the saturated region in terms of the energy density of the pulsed excimer laser beam and the cumulative number of the excimer laser pulses and (d) estimating the durability of the optical member under actual usage conditions using the derived correlation equation.

摘要翻译： 提供了一种用于估计光学构件对脉冲准分子激光束照射的耐久性的方法。 该方法包括以下步骤：（a）用脉冲准分子激光束照射光学部件的测试样品，以引起测试样品相对于脉冲准分子激光束的透明度变化，照射进行这样一段时间 不仅覆盖线性区域和饱和区域，并且（b）测量相对于脉冲准分子激光束的测试样品的透明度的变化，作为照射测试的准分子激光脉冲的累积数量的函数 步骤（a）中的样品。 该方法还包括以下步骤：（c）用脉冲准分子激光束的多个不同的第一预定能量密度重复步骤（a）和（b），以得出表示测试样品透明度变化的相关方程式 根据脉冲准分子激光束的能量密度和准分子激光脉冲的累积数量的线性区域和饱和区域，以及（d）使用导出的相关方程估计实际使用条件下的光学构件的耐久性。

公开(公告)号：US06835683B2

公开(公告)日：2004-12-28

申请号：US10311233

申请日：2002-12-17

申请人： Norio Komine ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara

发明人： Norio Komine ,  Akiko Yoshida ,  Hiroki Jinbo ,  Seishi Fujiwara

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03C4/0071 ,  C03B19/1423 ,  C03B19/1453 ,  C03B19/1492 ,  C03B2201/07 ,  C03B2201/21 ,  C03B2201/23 ,  C03B2207/00 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/11 ,  C03C2201/21 ,  C03C2201/23 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/44 ,  C03C2203/46 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  G02B1/02 ,  G02B13/143 ,  G03F7/70241 ,  G03F7/70958

摘要： A silica glass member of the present invention is one wherein when a composition thereof is expressed by SiOx, x is not less than 1.85 nor more than 1.95, wherein a concentration of hydrogen molecules included therein is not less than 1×1016 molecules/cm3 nor more than 5×1018 molecules/cm3, and wherein a difference A−B between an absorption coefficient A immediately before an end of irradiation with 1×104 pulses of ArF excimer laser light in an average one-pulse energy density of 2 mJ/cm2 and a second absorption coefficient B at 600 seconds after a stop of the irradiation with the ArF excimer laser light is not more than 0.002 cm−1. When this silica glass member is applied to an illumination optical system and/or a projection optical system in projection exposure apparatus, it becomes feasible to implement uniform exposure while reducing variation in illuminance on a reticle surface and in an exposure area on a wafer.

摘要翻译： 本发明的石英玻璃构件是当其组成由SiO x表示时，x不小于1.85或不大于1.95，其中包含的氢分子的浓度不小于1×10 16分子/ cm <3>不超过5×10 18分子/ cm 3，并且其中在照射结束之前的吸收系数A与平均单脉冲中的1×10 4个ArF准分子激光脉冲之间的差AB 用ArF准分子激光照射停止600秒后的能量密度为2mJ / cm 2，第二吸收系数B为0.002cm -1以下。 当将该石英玻璃构件应用于投影曝光装置中的照明光学系统和/或投影光学系统时，可以实现均匀曝光，同时减小掩模版面和晶片上的曝光区域中的照度变化。

公开(公告)号：US06339033B2

公开(公告)日：2002-01-15

申请号：US09736279

申请日：2000-12-15

申请人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida

发明人： Hiroki Jinbo ,  Norio Komine ,  Seishi Fujiwara ,  Akiko Yoshida

IPC分类号： C03C306

CPC分类号： C03B32/00 ,  C03B19/1453 ,  C03B2201/21 ,  C03B2207/32 ,  C03C3/06 ,  C03C2201/21 ,  C03C2203/40 ,  C03C2203/52 ,  C03C2203/54 ,  Y02P40/57

摘要： A silica glass is provided for use in an optical system processing an excimer laser beam. The silica glass has a molecular hydrogen concentration of about 5×1018 molecules/cm3 or less and is substantially free from defects which become precursors susceptible to an one-photon absorption process and a two-photon absorption process upon irradiation of the excimer laser beam to the silica glass.

摘要翻译： 提供石英玻璃用于处理准分子激光束的光学系统中。 二氧化硅玻璃的分子氢浓度约为5×1018分/ cm 3或更低，并且基本上没有成为对单光子吸收过程敏感的前体的缺陷和在将准分子激光束照射到二氧化硅上时的双光子吸收过程 玻璃。

公开(公告)号：US06269661B1

公开(公告)日：2001-08-07

申请号：US09347403

申请日：1999-07-06

申请人： Hiroki Jinbo ,  Akiko Moriya ,  Norio Komine

发明人： Hiroki Jinbo ,  Akiko Moriya ,  Norio Komine

IPC分类号： C03C1500

CPC分类号： C03C23/007 ,  C03C15/00 ,  C03C17/245 ,  C03C19/00 ,  C03C23/008 ,  Y10S65/08

摘要： The present invention provides a method for manufacturing an optical component that have increased transmittance in the ultraviolet region of the spectrum. The method includes the steps of cutting out a part from a block material; polishing optical sides of the part; subjecting the part to heat treatment at a temperature of between 100 and 900° C.; and subjecting the part to acid treatment.

摘要翻译： 本发明提供一种在光谱的紫外区域具有增加的透射率的光学部件的制造方法。 该方法包括从块材料切割零件的步骤; 抛光部分光学面; 在100至900℃的温度下对该部件进行热处理; 并对该部件进行酸处理。