公开(公告)号：US5087553A

公开(公告)日：1992-02-11

申请号：US475307

申请日：1990-02-05

申请人： Hiroshi Adachi ,  Etsushi Adachi ,  Yoshiko Aiba ,  Osamu Hayashi

发明人： Hiroshi Adachi ,  Etsushi Adachi ,  Yoshiko Aiba ,  Osamu Hayashi

IPC分类号： B05D3/06 ,  B05D7/24 ,  C09K13/06 ,  G03F7/075 ,  G03F7/26 ,  G03F7/40 ,  H01L21/308

CPC分类号： G03F7/0757 ,  G03F7/40

摘要： A method for transferring patterns on a silicone ladder type resin, which comprises: applying onto a substrate a silicone ladder type resin to be represented by the following general formula (I) ##STR1## (where: R.sub.1 denotes a phenyl group or a lower alkyl group, and two R.sub.1 's may be the same or different kinds; R.sub.2 denotes hydrogen atom or a lower alkyl group, and four R.sub.2 's may be the same or different kinds; and n represents an integer of from 5 to 1,000); drying the thus applied resin layer; thereafter applying onto the resin layer a cresol novolac type positive photo-resist; forming a predetermined pattern in the photo-resist layer; subjecting the photo-resist layer to pretreatment; and finally etching the silicone ladder type resin.An etching liquid for etching a silicone ladder type resin, which comprises an aromatic type solvent.

摘要翻译： 一种用于在硅树脂型树脂上转印图案的方法，其包括：将由以下通式（I）表示的硅树脂梯型树脂（其中：R1表示苯基或 低级烷基，两个R 1可以相同或不同; R 2表示氢原子或低级烷基，4个R 2可以相同或不同，n表示5〜1000的整数）。 干燥所施加的树脂层; 然后在树脂层上施加甲酚酚醛清漆型正性光致抗蚀剂; 在光致抗蚀剂层中形成预定图案; 对光致抗蚀剂层进行预处理; 最后蚀刻硅树脂梯型树脂。 一种用于蚀刻硅树脂型树脂的蚀刻液，其包含芳族溶剂。

公开(公告)号：US5183846A

公开(公告)日：1993-02-02

申请号：US722476

申请日：1991-07-02

申请人： Yoshiko Aiba ,  Hiroshi Adachi ,  Etsushi Adachi

发明人： Yoshiko Aiba ,  Hiroshi Adachi ,  Etsushi Adachi

IPC分类号： C08L83/06 ,  C08L83/04 ,  C08L83/07 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/07 ,  H01L21/312

CPC分类号： C08L83/04 ,  C08L83/06 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  H01L21/312

摘要： Disclosed herein is a silicone ladder polymer coating composition containing silicone ladder polymer which is expressed in the following general formula: ##STR1## where R.sub.1 represents the same or different types of phenyl groups or lower alkyl groups, R.sub.2 represents the same or different types of hydrogen atoms or lower alkyl groups, and n represents an integer of 20 to 1000, an aromatic organic solvent which is so added that solid matter occupies 5 to 30 percent by weight, and a silane coupling agent of 150 to 3000 p.p.m. with respect to the polymer.

摘要翻译： 本文公开了含有硅梯子聚合物的硅树脂聚合物涂料组合物，其以下述通式表示：其中R 1表示相同或不同类型的苯基或低级烷基，R 2表示相同或不同类型的氢 原子或低级烷基，n表示20〜1000的整数，添加固体成分为5〜30重量％的芳香族有机溶剂和150〜3000ppm的硅烷偶联剂 相对于聚合物。

公开(公告)号：US5262246A

公开(公告)日：1993-11-16

申请号：US633236

申请日：1990-12-21

申请人： Takao Nishikawa ,  Katsumi Sonoda ,  Yoshiko Aiba ,  Hiroshi Adachi

发明人： Takao Nishikawa ,  Katsumi Sonoda ,  Yoshiko Aiba ,  Hiroshi Adachi

IPC分类号： C09D143/00 ,  C09D183/04 ,  B32B27/30 ,  C08F30/10 ,  C08F112/08

CPC分类号： C09D183/04 ,  C09D143/00 ,  Y10T428/31855 ,  Y10T428/31931

摘要： A material for spacecrafts pertaining to this invention is made of a compound containing the group IV b elements, as a material of which proof for oxygen atom is absolutely necessary. The application of this material, in the form of a shield part (a resin layer) for covering at least a portion of material used in a structural part of the spacecraft enables a long use (from several months to several decades or more) in the oxygen atom environment in the space, which was impossible in the part.

摘要翻译： 用于本发明的航天器的材料由含有第Ⅳb族元素的化合物制成，作为绝对需要证明氧原子的材料。 将这种材料应用于用于覆盖航天器的结构部分中使用的材料的至少一部分的屏蔽部分（树脂层）的形式使得能够长期使用（几个月到几十年或更长时间）在 氧原子环境在空间，这是不可能的。