公开(公告)号：US07033729B2

公开(公告)日：2006-04-25

申请号：US10962867

申请日：2004-10-12

申请人： Jae-chang Jung ,  Keun Kyu Kong ,  Seok-kyun Kim

发明人： Jae-chang Jung ,  Keun Kyu Kong ,  Seok-kyun Kim

IPC分类号： G03C1/73 ,  G03C1/835 ,  G03F7/20 ,  G03F7/36 ,  C08F34/02

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08F232/08 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Disclosed are a light absorbent agent polymer for organic anti-reflective coating which can prevent diffused reflection of lower film layer or substrate and reduce standing waves caused by variation of thickness of the photoresist itself, thereby, increasing uniformity of the photoresist pattern, in a process for forming ultra-fine patterns of photoresist for photolithography by using 193 nm ArF among processes for manufacturing semiconductor device, and its preparation method. Also, the present invention discloses an organic anti-reflective coating composition comprising the light absorbent agent polymer for the organic anti-reflective coating and a pattern formation process using the coating composition.

摘要翻译： 公开了一种用于有机抗反射涂层的光吸收剂聚合物，其可以防止下膜层或基材的扩散反射，并减少由光致抗蚀剂本身的厚度变化引起的驻波，从而增加光致抗蚀剂图案的均匀性 用于通过在制造半导体器件的工艺中使用193nm的ArF来形成用于光刻的光刻胶的超精细图案及其制备方法。 此外，本发明公开了一种有机抗反射涂层组合物，其包含用于有机抗反射涂层的光吸收剂聚合物和使用该涂料组合物的图案形成方法。

公开(公告)号：US20050130061A1

公开(公告)日：2005-06-16

申请号：US10962867

申请日：2004-10-12

申请人： Jae-Chang Jung ,  Keun Kong ,  Seok-kyun Kim

发明人： Jae-Chang Jung ,  Keun Kong ,  Seok-kyun Kim

IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F232/08 ,  G03F7/09 ,  B05D5/06 ,  C08F116/34 ,  G03C1/492

CPC分类号： G03F7/091 ,  C08F232/08 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/126

摘要： Disclosed are a light absorbent agent polymer for organic anti-reflective coating which can prevent diffused reflection of lower film layer or substrate and reduce standing waves caused by variation of thickness of the photoresist itself, thereby, increasing uniformity of the photoresist pattern, in a process for forming ultra-fine patterns of photoresist for photolithography by using 193 nm ArF among processes for manufacturing semiconductor device, and its preparation method. Also, the present invention discloses an organic anti-reflective coating composition comprising the light absorbent agent polymer for the organic anti-reflective coating and a pattern formation process using the coating composition.

摘要翻译： 公开了一种用于有机抗反射涂层的光吸收剂聚合物，其可以防止下膜层或基材的扩散反射，并减少由光致抗蚀剂本身的厚度变化引起的驻波，从而增加光致抗蚀剂图案的均匀性 用于通过在制造半导体器件的工艺中使用193nm的ArF来形成用于光刻的光刻胶的超精细图案及其制备方法。 此外，本发明公开了一种有机抗反射涂层组合物，其包含用于有机抗反射涂层的光吸收剂聚合物和使用该涂料组合物的图案形成方法。