公开(公告)号：US20120043457A1

公开(公告)日：2012-02-23

申请号：US13284634

申请日：2011-10-28

申请人： Jan-Jaco Marco Wieland ,  Johannes Christian van ' t Spijker ,  Remco Jager ,  Pieter Kruit

发明人： Jan-Jaco Marco Wieland ,  Johannes Christian van ' t Spijker ,  Remco Jager ,  Pieter Kruit

IPC分类号： H01J3/14 ,  H01J3/26 ,  G01J1/04

CPC分类号： G03F7/70383 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03B27/52 ,  G03F7/70291 ,  G03F7/70508 ,  G03F7/70825 ,  G03F7/70991 ,  H01J37/045 ,  H01J37/3174 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/0432 ,  H01J2237/0435 ,  H01J2237/0437 ,  H01J2237/2482

摘要： A maskless lithography system for transferring a pattern onto the surface of a target. At least one beam generator for generating a plurality of beamlets. A plurality of modulators modulate the magnitude of a beamlet, and a control unit controls of the modulators. The control unit generates and delivers pattern data to the modulators for controlling the magnitude of each individual beamlet. The control unit includes at least one data storage for storing the pattern data, at least one readout unit for reading out the data from the data storage, at least one data converter for converting the data that is read out from the data storage into at least one modulated light beam, and at least one optical transmitter for transmitting the at least one modulated light beam to the modulation modulators.

摘要翻译： 一种用于将图案转印到目标表面上的无掩模光刻系统。 用于产生多个子束的至少一个光束发生器。 多个调制器调制小波束的幅度，并且控制单元控制调制器。 控制单元生成并将模式数据传送到调制器，以控制每个单独子束的幅度。 控制单元包括用于存储图案数据的至少一个数据存储器，用于从数据存储器读出数据的至少一个读出单元，至少一个数据转换器，用于将从数据存储器读出的数据转换为至少 一个调制光束和至少一个用于将至少一个调制光束发射到调制调制器的光发射器。