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公开(公告)号：US20140113221A1
公开(公告)日：2014-04-24
申请号：US14059533
申请日：2013-10-22
申请人： Jong Keun OH , Hyungho KO , Inkyun SHIN , Jaehyuck CHOI , JunYoul CHOI
发明人： Jong Keun OH , Hyungho KO , Inkyun SHIN , Jaehyuck CHOI , JunYoul CHOI
IPC分类号： G03F1/50
摘要： A photomask and a method of forming the same, the photomask including a transparent substrate; a light shielding pattern on the transparent substrate, the light shielding pattern including molybdenum and silicon; and an etch stop layer covering at least a sidewall of the light shielding pattern, wherein the etch stop layer has an etch rate lower than an etch rate of the light shielding pattern with respect to an ammonia-based cleaning solution.
摘要翻译： 光掩模及其形成方法，所述光掩模包括透明基板; 透明基板上的遮光图案，包括钼和硅的遮光图案; 以及覆盖所述遮光图案的至少一侧壁的蚀刻停止层，其中所述蚀刻停止层的蚀刻速率低于所述遮光图案相对于氨基清洗溶液的蚀刻速率。
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2.发明申请Nozzle, Substrate Processing Apparatus Including The Nozzle, And Processing Solution Supply Method Using The Apparatus 审中-公开喷嘴，包括喷嘴的基板处理装置，以及使用该装置的处理液供给方法公开(公告)号：US20110253043A1
公开(公告)日：2011-10-20
申请号：US13049336
申请日：2011-03-16
申请人： Seongyoon KIM , Chanuk JEON , Inkyun SHIN
发明人： Seongyoon KIM , Chanuk JEON , Inkyun SHIN
IPC分类号： B05C11/00
CPC分类号： H01L21/6715
摘要： In one embodiment, the nozzle includes a first body having an open lower surface and a plurality of buffer spaces to store a processing solution therein. A first shutter is disposed at a lower part of the first body to selectively open and close lower surfaces of the buffer spaces, and a driving unit configured to move the first shutter or the first body so that a position of the first shutter is varied relative to the buffer spaces.
摘要翻译： 在一个实施例中，喷嘴包括具有敞开的下表面的第一主体和用于在其中存储处理溶液的多个缓冲空间。 第一挡板设置在第一主体的下部，以选择性地打开和关闭缓冲空间的下表面;以及驱动单元，构造成使第一挡板或第一主体移动，使得第一挡板的位置相对变化 到缓冲区。
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