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发明申请
Method for high resolution patterning using soft X-ray, process for preparing nano device using the method 审中-公开
标题翻译：使用软X射线的高分辨率图案化方法，使用该方法制备纳米器件的方法

公开(公告)号：US20080038542A1

公开(公告)日：2008-02-14

申请号：US11717191

申请日：2007-03-13

申请人： Joon Park , Young La , Joong Moon , Bongsoo Kim , Tai Kang , Ki Kim

发明人： Joon Park , Young La , Joong Moon , Bongsoo Kim , Tai Kang , Ki Kim

IPC分类号： B32B5/16 , H01L21/302

CPC分类号： G03F7/0045 , B81B2201/0214 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0198 , B82Y10/00 , B82Y30/00 , G03F7/0755 , G03F7/165 , G03F7/2039 , H01L21/0337 , H01L21/312 , Y10S430/168 , Y10T428/261

摘要： A method for nano-scale high resolution patterning of self-assembled monolayer using soft X-rays is provided. The method involves forming an aromatic imine molecular layer having substitutents at its terminal rings on a substrate, selectively cleaving bonds to the substituents of the aromatic imine molecular layer, and hydrolyzing the aromatic imine molecular layer.

摘要翻译： 提供了使用软X射线进行自组装单层纳米级高分辨率图案化的方法。该方法包括在底物上的末端环上形成具有取代基的芳族亚胺分子层，选择性地切割与芳族亚胺分子层的取代基的键，并水解芳族亚胺分子层。