公开(公告)号：US5759739A

公开(公告)日：1998-06-02

申请号：US635856

申请日：1996-04-22

申请人： Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Minoru Shigemitsu ,  Ken'ichi Itoh

发明人： Katsuya Takemura ,  Toshinobu Ishihara ,  Kazumasa Maruyama ,  Yoshihumi Takeda ,  Minoru Shigemitsu ,  Ken'ichi Itoh

IPC分类号： G03F7/00 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  G03C1/73

CPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/0045 ,  Y10S430/111

摘要： A resist composition comprising an alkali-soluble resin, typically a partially t-butoxycarbonylated polyhydroxystyrene, a p-butoxystyrene/t-butylacrylate copolymer or p-butoxystyrene/maleic anhydride copolymer as a dissolution inhibitor, and a iodonium or sulfonium salt as a photoacid generator is effective for forming a resist film which can be precisely and finely patterned using high energy radiation such as a KrF excimer laser.

摘要翻译： 抗蚀剂组合物，其包含碱溶性树脂，通常为部分叔丁氧基羰基化的聚羟基苯乙烯，作为溶解抑制剂的对丁氧基苯乙烯/叔丁基丙烯酸酯共聚物或对丁氧基苯乙烯/马来酸酐共聚物，以及作为光酸产生剂的碘鎓盐或锍盐 对于形成可以使用高能辐射如KrF准分子激光器精确和精细地图案化的抗蚀剂膜是有效的。

公开(公告)号：US5352564A

公开(公告)日：1994-10-04

申请号：US184171

申请日：1994-01-19

申请人： Yoshihumi Takeda ,  Toshinobu Ishihara ,  Ken'ichi Itoh ,  Kazumasa Maruyama

发明人： Yoshihumi Takeda ,  Toshinobu Ishihara ,  Ken'ichi Itoh ,  Kazumasa Maruyama

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/075 ,  G03C1/492

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/11

摘要： A resist composition comprising a base resin, an acid release agent, and a dissolution inhibitor is improved in sensitivity and resolution when the base resin is typically selected from poly-t-butoxystyrene/poly-hydroxystyrene, poly-t-butoxystyrene/poly-p-methoxymethoxystyrene/polyhydroxystyrene, and poly-t-butoxystyrene/poly-p-methoxystyrene/polyhydroxystyrene copolymers. The composition forms a resist useful for the manufacture of LSI.

摘要翻译： 当基础树脂通常选自聚 - 丁氧基苯乙烯/聚 - 羟基苯乙烯，聚-t-丁氧基苯乙烯/多聚磷酸酯时，包含基础树脂，酸脱模剂和溶解抑制剂的抗蚀剂组合物的灵敏度和分辨率提高 聚甲氧基苯乙烯/聚羟基苯乙烯和聚-t-丁氧基苯乙烯/聚对甲氧基苯乙烯/聚羟基苯乙烯共聚物。 该组合物形成用于制造LSI的抗蚀剂。

公开(公告)号：US5416060A

公开(公告)日：1995-05-16

申请号：US079791

申请日：1993-06-23

申请人： Akira Yamamoto ,  Ken'ichi Itoh ,  Mitsuyoshi Oshima ,  Masatoshi Arai ,  Shigeru Saito

发明人： Akira Yamamoto ,  Ken'ichi Itoh ,  Mitsuyoshi Oshima ,  Masatoshi Arai ,  Shigeru Saito

IPC分类号： A23B7/157 ,  A23L3/3427 ,  A01N3/02

CPC分类号： A23B7/157 ,  A23L3/3427

摘要： A refreshing agent comprising a compound having a hydrosilyl group and a hydrosilylation catalyst quickly adsorbs ethylene without forming hazardous substances and is thus suitable for keeping vegetables, fruits, and flowers fresh.

摘要翻译： 包含具有氢化硅烷基的化合物和氢化硅烷化催化剂的清新剂快速吸附乙烯而不形成有害物质，因此适合于保持蔬菜，水果和鲜花新鲜。