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公开(公告)号：US5618580A
公开(公告)日：1997-04-08
申请号：US454292
申请日：1995-06-15
IPC分类号： B01J12/02 , B01J19/00 , B01J19/18 , C01B13/20 , C01B13/34 , C01G9/03 , C01G23/07 , C23C16/44 , C23C16/455 , B05D7/00 , C01G23/047
CPC分类号： C23C16/45502 , B01J12/02 , B01J19/0053 , B01J19/0066 , B01J19/1806 , B01J19/1887 , C01B13/20 , C01B13/34 , C01G23/07 , C01G9/03 , C23C16/45561 , B01J2219/00132 , B01J2219/00164 , B01J2219/185 , C01P2004/51 , C01P2004/62 , C01P2004/86
摘要： The present invention provides a method for producing ceramic fine particles comprising the steps of supplying gaseous starting materials or starting material droplets to a reaction space arranged in an annular portion between inner and outer cylinders of a coaxial, double-cylinder reaction apparatus, the reaction apparatus having a stationary outer cylinder and a rotatable inner cylinder; and subjecting the gaseous starting materials or the starting material droplets to reaction in the reaction space while rotating the inner cylinder. Also, the present invention provides a production apparatus used therefor. In the present invention, by utilizing the Taylor vortex flow as the flow for a CVD reaction field or a pyrolytic reaction field, uniform ceramic fine particles can be produced at a high yield because of an even temperature distribution, and an even concentration distribution of the reaction gases or an even concentration distribution of the droplet number in the vortex flow, and residence time of the resulting fine particles locked in the vortex flow.
摘要翻译： PCT No.PCT / JP93 / 01889 Sec。 371日期：1995年6月15日 102（e）日期1995年6月15日PCT 1993年12月24日PCT公布。 公开号WO94 / 14530 日期：1994年7月7日本发明提供一种陶瓷微粒的制造方法，其特征在于，包括以下步骤：将气态原料或原料液滴供给布置在同轴双筒反应的内外筒之间的环状部分的反应空间 装置，反应装置具有固定的外筒和可旋转的内筒; 并且在使内筒旋转的同时使气态原料或原料液滴在反应空间中反应。 另外，本发明提供一种用于其的制造装置。 在本发明中，通过利用泰勒涡流作为CVD反应场或热解反应场的流动，由于均匀的温度分布，可以高产率地制备均匀的陶瓷细颗粒，并且均匀的浓度分布 反应气体或液滴数量在涡流中的均匀浓度分布，以及所得细颗粒停留在涡流中的停留时间。
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公开(公告)号：US5759627A
公开(公告)日：1998-06-02
申请号：US623010
申请日：1996-03-28
申请人： Sachiko Kokubo , Takeshi Nakajima , Eiten Chin
发明人： Sachiko Kokubo , Takeshi Nakajima , Eiten Chin
CPC分类号： B05C5/0262
摘要： A coating apparatus 10 is disclosed, which comprises a slot 18 and a chamber 17 formed upstream the slot 18 such as to distribute a coating liquid 12 in a coating width direction. The coating liquid is coated such that it is pressed against a web 11 as it is discharged from the slot. The slot gap H of the slot and the slot gap error .DELTA.H in the coating width direction satisfies a relation .DELTA.H/H.ltoreq.0.05 and the pressure loss Pb of the coating liquid flowing in the chamber in the coating width direction, and the pressure loss Ps flowing in the slot satisfies a relation as follows. Pb/Ps.ltoreq.0.15
摘要翻译： 公开了一种涂覆装置10，其包括槽18和形成在槽18上游的腔室17，以便在涂覆宽度方向上分布涂布液体12。 涂布液被涂覆，使得其在从槽中排出时被压靠在纸幅11上。 槽的间隙H和涂布宽度方向的槽间隙误差DELTAH满足在涂布宽度方向上流入室内的涂布液的关系ΔTA/ H <0.05和压力损失Pb， 在槽中流动的压力损失Ps满足以下关系。 Pb / Ps
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