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    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER
    1.
    发明申请
    RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POLYMER 有权
    辐射敏感性树脂组合物和聚合物

    公开(公告)号：US20120058429A1

    公开(公告)日：2012-03-08

    申请号：US13242920

    申请日：2011-09-23

    申请人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

    发明人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

    IPC分类号： G03F7/039 ,  C08F220/30 ,  C08F220/58 ,  C08F228/02 ,  C08F220/24

    CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/38 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C08F2220/1883 ,  C08F220/22 ,  C08F2220/382

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer that includes at least one repeating unit (i) selected from a repeating unit shown by a formula (1), (2), and (3); and a repeating unit (ii) shown by a formula (4). R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R2 independently represents one of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 25 carbon atoms. p is an integer from 0 to 3, and q is an integer from 1 to 3, and p+q≦5. A chemically-amplified positive-tone resist film that is sensitive to extreme ultraviolet rays (EUV) can be formed using the radiation-sensitive resin composition.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有至少一种选自式（1），（2）和（3）所示的重复单元的重复单元（i）的聚合物; 和式（4）所示的重复单元（ii）。 R1表示氢原子或甲基。 每个R 2独立地表示具有1至12个碳原子的直链或支链烷基，具有1至12个碳原子的直链或支链烷氧基和具有3至25个碳原子的脂环族烃基。 p为0〜3的整数，q为1〜3的整数，p + q＆nlE; 5。 可以使用放射线敏感性树脂组合物形成对极紫外线（EUV）敏感的化学放大正性抗蚀剂膜。

    Radiation-sensitive resin composition and polymer
    2.
    发明授权
    Radiation-sensitive resin composition and polymer 有权
    辐射敏感树脂组合物和聚合物

    公开(公告)号：US08470513B2

    公开(公告)日：2013-06-25

    申请号：US13242920

    申请日：2011-09-23

    申请人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

    发明人： Kota Nishino ,  Ken Maruyama ,  Daisuke Shimizu ,  Toshiyuki Kai

    IPC分类号： C08F228/00

    CPC分类号： G03F7/0392 ,  C08F12/20 ,  C08F12/24 ,  C08F212/14 ,  C08F220/18 ,  C08F220/38 ,  C09D125/18 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0397 ,  C08F2220/1883 ,  C08F220/22 ,  C08F2220/382

    摘要： A radiation-sensitive resin composition includes a polymer that includes at least one repeating unit (i) selected from a repeating unit shown by a formula (1), (2), and (3); and a repeating unit (ii) shown by a formula (4). R1 represents a hydrogen atom or a methyl group. Each R2 independently represents one of a linear or branched alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a linear or branched alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, and an alicyclic hydrocarbon group having 3 to 25 carbon atoms. p is an integer from 0 to 3, and q is an integer from 1 to 3, and p+q≦5. A chemically-amplified positive-tone resist film that is sensitive to extreme ultraviolet rays (EUV) can be formed using the radiation-sensitive resin composition.

    摘要翻译： 辐射敏感性树脂组合物包括含有至少一种选自式（1），（2）和（3）所示的重复单元的重复单元（i）的聚合物; 和式（4）所示的重复单元（ii）。 R1表示氢原子或甲基。 每个R 2独立地表示碳原子数1〜12的直链或支链烷基，碳原子数1〜12的直链或支链烷氧基和碳原子数3〜25的脂环族烃基。 p为0〜3的整数，q为1〜3的整数，p + q〜5。 可以使用放射线敏感性树脂组合物形成对极紫外线（EUV）敏感的化学放大正性抗蚀剂膜。