公开(公告)号：US5340637A

公开(公告)日：1994-08-23

申请号：US895430

申请日：1992-06-05

申请人： Makoto Okai ,  Shinji Tsuji ,  Akio Ohishi ,  Motohisa Hirao ,  Hiroyoshi Matsumura ,  Tatsuo Harada ,  Toshiaki Kita ,  Hideki Taira

发明人： Makoto Okai ,  Shinji Tsuji ,  Akio Ohishi ,  Motohisa Hirao ,  Hiroyoshi Matsumura ,  Tatsuo Harada ,  Toshiaki Kita ,  Hideki Taira

IPC分类号： G02B5/18 ,  G03F1/00 ,  B32B3/28 ,  G02B27/42 ,  G03C5/00

CPC分类号： G02B5/1857 ,  Y10T428/2457 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/24942

摘要： A method of fabricating diffraction gratings wherein a photomask is arranged on a substrate which is coated with a photoresist, light is to be incident thereupon at an acute angle relative to the normal direction of the photomask, and a bright/dark pattern is formed on said photoresist by the interference of the transmission light that has passed through the photomask and the diffraction light. The invention further deals with a photomask used for the above method.

摘要翻译： 一种制造衍射光栅的方法，其中光掩模布置在涂覆有光致抗蚀剂的基底上，光将相对于光掩模的法线方向以锐角入射到其上，并且在所述光掩模上形成明暗图案 通过透过光掩模的透射光的干涉和衍射光的光致抗蚀剂。 本发明还涉及用于上述方法的光掩模。