公开(公告)号：US07972553B2

公开(公告)日：2011-07-05

申请号：US11579540

申请日：2004-11-25

申请人： Marc Beck ,  Babak Heidari ,  Erik Bolmsjö ,  Erik Theander

发明人： Marc Beck ,  Babak Heidari ,  Erik Bolmsjö ,  Erik Theander

IPC分类号： B29C35/02 ,  B29C35/08

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B29C35/0888 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C43/10 ,  B29C59/022 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2043/025 ,  B29C2043/3647 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00

摘要： Method for transferring a pattern from a template (10) having a structured surface (11) to a substrate (12) carrying a surface layer (14) of a material devised to 5 solidify upon exposure to radiation, comprising: arranging said template and substrate mutually parallel in an imprint apparatus, with said structured surface facing said surface layer; heating the template and the substrate to a temperature Tp by means of a heater device (20); and while maintaining said temperature Tp, performing the steps of: pressing the template towards the substrate for imprinting said pattern into said layer; exposing said layer to radiation (19) for solidifying the layer, and—postbaking the layer.

摘要翻译： 用于将图案从具有结构化表面（11）的模板（10）转移到承载设计为5的材料的表面层（14）的基底（12）的方法，其在暴露于辐射时固化，包括：布置所述模板和基底 在压印装置中相互平行，所述结构化表面面向所述表面层; 通过加热器装置（20）将模板和衬底加热至温度Tp; 并且在保持所述温度Tp的同时，执行以下步骤：将模板压向基板以将所述图案压印到所述层中; 将所述层暴露于辐射（19）以固化该层，并且对该层进行后烘烤。

公开(公告)号：US07704425B2

公开(公告)日：2010-04-27

申请号：US11268574

申请日：2005-11-08

申请人： Babak Heidari ,  Anette Löfstrand ,  Erik Bolmsjö ,  Erik Theander ,  Marc Beck

发明人： Babak Heidari ,  Anette Löfstrand ,  Erik Bolmsjö ,  Erik Theander ,  Marc Beck

IPC分类号： B29C59/02

CPC分类号： B29C33/3857 ,  B29C35/0888 ,  B29C59/022 ,  B29C59/026 ,  B29C2035/0827 ,  B29C2059/023 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002

摘要： The invention relates to a two-step process for transferring a pattern from a template (1) to a target surface of a substrate, by creating an intermediate flexible polymer stamp (5) from the template in a primary step, and then using the polymer stamp to make an imprint in a radiation-sensitive moldable layer on the target surface in a secondary step. In the secondary step, the process steps of pressing the polymer stamp and the substrate against each other, UV exposure of the moldable layer through the polymer stamp, and postbaking of the radiated moldable layer, are all performed at a control constant temperature, in order to eliminate damages to the pattern created in the moldable layer caused by thermal expansion effects.

摘要翻译： 本发明涉及通过在初级步骤中从模板中生成中间柔性聚合物印模（5），然后使用聚合物（2），将图案从模板（1）转移到基材的目标表面的两步法 在第二步骤中对目标表面上的辐射敏感的可成型层进行印记。 在第二步骤中，将聚合物印模和基板彼此挤压，通过聚合物印模的可模制层的UV曝光和辐射的可模塑层的后烘烤的工艺步骤全部按照控制恒温进行 以消除由热膨胀效应引起的在可模塑层中产生的图案的损坏。