公开(公告)号：US08164077B2

公开(公告)日：2012-04-24

申请号：US12625336

申请日：2009-11-24

申请人： Marco Wedowski ,  Nadyeh Shariloo, legal representative ,  Markus Weiss ,  Stephan Muellender ,  Johann Trenkler ,  Hartmut Enkisch ,  Gisela Sipos ,  Hubert Adriaan van Mierlo ,  Michiel David Nijkerk ,  Fokko Pieter Wieringa

发明人： Marco Wedowski ,  Markus Weiss ,  Stephan Muellender ,  Johann Trenkler ,  Hartmut Enkisch ,  Gisela Sipos ,  Hubert Adriaan van Mierlo ,  Michiel David Nijkerk ,  Fokko Pieter Wieringa

IPC分类号： G01J3/10

CPC分类号： G03F7/70958 ,  B82Y10/00 ,  G03F7/70175 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70916 ,  G21K1/00 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

摘要： An optical element, especially a normal-incidence collector mirror, for radiation in the EUV and/or soft X-ray region of wavelengths is described. The element has a substrate, a multilayer coating with an optically active region, and a capacitor, having a first and a second capacitor electrode. At least one layer of the multilayer coating serves as the first capacitor electrode. At least one dielectric layer is provided between the two capacitor electrodes. Also described is an optical system with at least one optical element, having a first electrode arranged in the vicinity of the optical element.

摘要翻译： 描述了用于EUV和/或波长的软X射线区域中的辐射的光学元件，特别是法向入射收集镜。 元件具有基板，具有光学活性区域的多层涂层和具有第一和第二电容器电极的电容器。 多层涂层的至少一层用作第一电容器电极。 在两个电容器电极之间提供至少一个电介质层。 还描述了具有至少一个光学元件的光学系统，其具有布置在光学元件附近的第一电极。

公开(公告)号：US08961694B2

公开(公告)日：2015-02-24

申请号：US12520327

申请日：2007-12-21

申请人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

发明人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

IPC分类号： B08B6/00 ,  B08B3/00 ,  H01L21/306 ,  H01J37/32

CPC分类号： H01J37/3266 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32623 ,  H01J2237/335

摘要： The invention relates to a plasma generator (1) for cleaning an object. The plasma generator (1) comprises a plasma chamber (2) and a support structure (6) arranged in the plasma chamber for supporting the object (7) to be cleaned. Further, the plasma generator comprises an electromagnetic shield (5a, 5b, 5c) counteracting a flow of charged plasma particles flowing from a plasma generating region towards the object, and a plasma source (8). In addition, the plasma generator comprises an additional plasma source (9,10) to form a composition of plasma sources that are arranged to generate in the plasma generating region plasmas, respectively, that mutually interact during operation of the plasma generator so as to force plasma particles to flow in a diffusely closed flow path.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于清洁物体的等离子体发生器（1）。 等离子体发生器（1）包括等离子体室（2）和布置在等离子体室中的支撑结构（6），用于支撑待清洁的物体（7）。 此外，等离子体发生器包括抵抗从等离子体产生区域朝向物体流动的带电等离子体粒子的流动的电磁屏蔽（5a，5b，5c）和等离子体源（8）。 此外，等离子体发生器包括附加的等离子体源（9,10），以形成等离子体源的组成，其被布置成分别在等离子体产生区等离子体中产生，这些等离子体在等离子体发生器的操作期间相互作用，从而迫使 等离子体颗粒在弥漫闭合的流动路径中流动。

公开(公告)号：US20100059085A1

公开(公告)日：2010-03-11

申请号：US12520327

申请日：2007-12-21

申请人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

发明人： Fokko Pieter Wieringa ,  Norbertus Benedictus Koster ,  Roland van Vliet ,  Hubert Adriaan van Mierlo

IPC分类号： B08B6/00

CPC分类号： H01J37/3266 ,  H01J37/32357 ,  H01J37/32623 ,  H01J2237/335

摘要： The invention relates to a plasma generator (1) for cleaning an object. The plasma generator (1) comprises a plasma chamber (2) and a support structure (6) arranged in the plasma chamber for supporting the object (7) to be cleaned. Further, the plasma generator comprises an electromagnetic shield (5a, 5b, 5c) counteracting a flow of charged plasma particles flowing from a plasma generating region towards the object, and a plasma source (8). In addition, the plasma generator comprises an additional plasma source (9,10) to form a composition of plasma sources that are arranged to generate in the plasma generating region plasmas, respectively, that mutually interact during operation of the plasma generator so as to force plasma particles to flow in a diffusely closed flow path.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于清洁物体的等离子体发生器（1）。 等离子体发生器（1）包括等离子体室（2）和布置在等离子体室中的支撑结构（6），用于支撑待清洁的物体（7）。 此外，等离子体发生器包括抵抗从等离子体产生区域朝向物体流动的带电等离子体粒子的流动的电磁屏蔽（5a，5b，5c）和等离子体源（8）。 此外，等离子体发生器包括附加的等离子体源（9,10），以形成等离子体源的组成，其被布置成分别在等离子体产生区等离子体中产生，这些等离子体在等离子体发生器的操作期间相互作用，从而迫使 等离子体颗粒在弥漫闭合的流动路径中流动。