公开(公告)号：US20050145487A1

公开(公告)日：2005-07-07

申请号：US10511389

申请日：2003-04-11

申请人： Michael Geisler ,  Albert Kastner ,  Bernd Szyszka ,  Andreas Pflug ,  Niels Malkomes

发明人： Michael Geisler ,  Albert Kastner ,  Bernd Szyszka ,  Andreas Pflug ,  Niels Malkomes

IPC分类号： C25B9/00 ,  H01J37/34

CPC分类号： H01J37/34 ,  H01J37/3447

摘要： The invention relates to a coating installation comprising a recipient (1) which is divided into a cathode side (3) and a substrate side (4) by means of a screen (2). The cathode side (3) and the substrate side (4) respectively have a direct extraction outlet (10, 16) and a gas admission (8, 14). The gas admission (8) on the cathode side (3) is connected to a process gas source (9) and the gas admission (14) for the substrate side (4) is connected to a reactive gas source (15).

摘要翻译： 本发明涉及一种涂层装置，其包括借助于屏幕（2）被分为阴极侧（3）和基板侧（4）的接收器（1）。 阴极侧（3）和基板侧（4）分别具有直接提取出口（10,16）和气体入口（8,14）。 阴极侧（3）上的气体进入（8）连接到处理气体源（9），并且用于基板侧（4）的气体进入（14）连接到反应气体源（15）。

公开(公告)号：US06797128B1

公开(公告)日：2004-09-28

申请号：US10148099

申请日：2002-07-29

申请人： Bernd Szyszka ,  Niels Malkomes

发明人： Bernd Szyszka ,  Niels Malkomes

IPC分类号： C23C1434

CPC分类号： H01J37/32935 ,  C23C14/0042

摘要： The invention relates to a method for regulating MF or HF sputtering processes, a harmonic analysis of the electrical discharge parameters being implemented and the MF or HF output and/or the reactive gas flow being regulated on the basis of the analysis results.

摘要翻译： 本发明涉及一种用于调节MF或HF溅射工艺的方法，正在实施的放电参数的谐波分析和MF或HF输出和/或基于分析结果调节的反应气流。