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    PHOTO-MASK AND WAFER IMAGE RECONSTRUCTION
    1.
    发明申请
    PHOTO-MASK AND WAFER IMAGE RECONSTRUCTION 有权
    照片和图像重建

    公开(公告)号：US20120189187A9

    公开(公告)日：2012-07-26

    申请号：US12475338

    申请日：2009-05-29

    申请人： Moshe E. Preil ,  Alex N. Hegyi ,  Daniel S. Abrams

    发明人： Moshe E. Preil ,  Alex N. Hegyi ,  Daniel S. Abrams

    IPC分类号： G06T7/00

    CPC分类号： G06T7/001 ,  G03F1/84 ,  G06T2207/30148

    摘要： A system receives a mask pattern and a first image of at least a portion of a photo-mask corresponding to the mask pattern. The system determines a second image of at least the portion of the photo-mask based on the first image and the mask pattern. This second image is characterized by additional spatial frequencies than the first image.

    摘要翻译： 系统接收掩模图案和对应于掩模图案的光掩模的至少一部分的第一图像。 该系统基于第一图像和掩模图案来确定光掩模的至少一部分的第二图像。 该第二图像的特征在于比第一图像更多的空间频率。

    Photo-mask and wafer image reconstruction
    2.
    发明授权
    Photo-mask and wafer image reconstruction 有权
    光掩模和晶片图像重建

    公开(公告)号：US08204295B2

    公开(公告)日：2012-06-19

    申请号：US12475354

    申请日：2009-05-29

    申请人： Moshe E. Preil ,  Alex N. Hegyi ,  Daniel S. Abrams

    发明人： Moshe E. Preil ,  Alex N. Hegyi ,  Daniel S. Abrams

    IPC分类号： G06K9/36

    CPC分类号： G06T7/001 ,  G03F1/84 ,  G06T2207/30148

    摘要： A system receives a mask pattern and a first image of at least a portion of a photo-mask corresponding to the mask pattern. The system determines a second image of at least the portion of the photo-mask based on the first image and the mask pattern. This second image is characterized by additional spatial frequencies than the first image.

    摘要翻译： 系统接收掩模图案和对应于掩模图案的光掩模的至少一部分的第一图像。 该系统基于第一图像和掩模图案来确定光掩模的至少一部分的第二图像。 该第二图像的特征在于比第一图像更多的空间频率。

    Photo-Mask and Wafer Image Reconstruction
    6.
    发明申请
    Photo-Mask and Wafer Image Reconstruction 有权
    照片掩模和晶片图像重建

    公开(公告)号：US20100021042A1

    公开(公告)日：2010-01-28

    申请号：US12475338

    申请日：2009-05-29

    申请人： Moshe E. Preil ,  Alex N. Hegyi ,  Daniel S. Abrams

    发明人： Moshe E. Preil ,  Alex N. Hegyi ,  Daniel S. Abrams

    IPC分类号： G06T7/00

    CPC分类号： G06T7/001 ,  G03F1/84 ,  G06T2207/30148

    摘要： A system receives a mask pattern and a first image of at least a portion of a photo-mask corresponding to the mask pattern. The system determines a second image of at least the portion of the photo-mask based on the first image and the mask pattern. This second image is characterized by additional spatial frequencies than the first image.

    摘要翻译： 系统接收掩模图案和对应于掩模图案的光掩模的至少一部分的第一图像。 该系统基于第一图像和掩模图案来确定光掩模的至少一部分的第二图像。 该第二图像的特征在于比第一图像更多的空间频率。