公开(公告)号：US20110237022A1

公开(公告)日：2011-09-29

申请号：US13070206

申请日：2011-03-23

申请人： Nicholas P.T. BATEMAN ,  William T. WEAVER ,  Paul SULLIVAN ,  John W. GRAFF

发明人： Nicholas P.T. BATEMAN ,  William T. WEAVER ,  Paul SULLIVAN ,  John W. GRAFF

IPC分类号： H01L31/0376 ,  H01L31/0248

CPC分类号： H01L21/266 ,  H01L31/022441 ,  H01L31/0682 ,  H01L31/1804 ,  Y02E10/547 ,  Y02P70/521

摘要： Methods to form complementary implant regions in a workpiece are disclosed. A mask may be aligned with respect to implanted or doped regions on the workpiece. The mask also may be aligned with respect to surface modifications on the workpiece, such as deposits or etched regions. A masking material also may be deposited on the implanted regions using the mask. The workpiece may be a solar cell.

摘要翻译： 公开了在工件中形成互补植入区域的方法。 掩模可以相对于工件上的注入或掺杂区域排列。 掩模也可以相对于工件上的表面改性（例如沉积物或蚀刻区域）对准。 掩模材料也可以使用掩模沉积在注入区域上。 工件可以是太阳能电池。