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    Magneto-resistance effect magnetic head
    1.
    发明授权
    Magneto-resistance effect magnetic head 失效
    磁阻效应磁头

    公开(公告)号：US5661620A

    公开(公告)日：1997-08-26

    申请号：US480792

    申请日：1995-06-07

    申请人： Norio Saito ,  Kenichi Baba ,  Yutaka Soda

    发明人： Norio Saito ,  Kenichi Baba ,  Yutaka Soda

    IPC分类号： G11B5/31 ,  G11B5/39

    CPC分类号： G11B5/3954 ,  G11B5/3903 ,  G11B5/3967

    摘要： A magneto-resistance effect magnetic head in which the MR effects of the two MR thin films of a MR device are balanced for suppressing Barkhausen noise and assuring a stabilized output. Between a lower-layer magnetic shield core and an upper layer magnetic shield core is arranged an MR device, made up of two MR thin films such that a distance d.sub.1 between the lower-layer magnetic shield core and the MR thin film is smaller than a distance d.sub.2 between the upper-layer magnetic shield core and the MR thin film. A film thickness t.sub.1 of the MR thin film towards the lower-layer magnetic shield core is set so as to be thinner than a film thickness t.sub.2 of the MR thin film towards the upper-layer magnetic shield core. Preferably, the relation 0.5 3 holds.

    摘要翻译： 一种磁阻效应磁头，其中MR装置的两个MR薄膜的MR效应被平衡以抑制巴克豪森噪声并确保稳定的输出。 在下层磁屏蔽芯和上层磁屏蔽芯之间布置有由两个MR薄膜构成的MR器件，使得下层磁屏蔽芯和MR薄膜之间的距离d1小于 上层磁屏蔽芯和MR薄膜之间的距离d2。 朝向下层磁屏蔽芯的MR薄膜的膜厚度t1被设定为比MR薄膜朝向上层磁屏蔽芯的膜厚度t2薄。 优选地，关系0.5 3的关系成立。

    Azetidinone disulfides and a ring opening process for preparing the same
    2.
    发明授权
    Azetidinone disulfides and a ring opening process for preparing the same 失效
    氮杂环丁酮二硫化物及其制备方法

    公开(公告)号：US4801720A

    公开(公告)日：1989-01-31

    申请号：US46444

    申请日：1987-05-06

    申请人： Sigeru Torii ,  Hideo Tanaka ,  Junzo Nokami ,  Michio Sasaoka ,  Norio Saito ,  Takashi Siroi

    发明人： Sigeru Torii ,  Hideo Tanaka ,  Junzo Nokami ,  Michio Sasaoka ,  Norio Saito ,  Takashi Siroi

    IPC分类号： C07D205/08 ,  C07D205/095 ,  C07D403/12 ,  C07D417/12 ,  C07D417/14 ,  C07D501/20 ,  C07D501/36 ,  C07B43/06 ,  C07B45/00 ,  C07D401/12

    CPC分类号： C07D403/12 ,  C07D205/095 ,  C07D417/12 ,  C07D417/14 ,  Y02P20/55

    摘要： An azetidinone derivative represented by the formula (I) ##STR1## wherein R.sup.1 is substituted or unsubstituted phenyl or substituted or unsubstituted phenoxy, R.sup.2 is hydrogen, optionally substituted hydrocarbon residue or amino-protecting group selected from acyl, silyl, sulfonyl and phosphonyl derived from organic or inorganic acid, ##STR2## is >C.dbd.O or>C.dbd.N--OR.sup.3 (wherein R.sup.3 is hydrogen or lower alkyl), X.sup.1 and X.sup.2 are the same or different and are halogen, hydroxyl, alkoxy, acyloxy, SR.sup.4 (wherein R.sup.4 is straight chain or branched chain lower alkyl substituted or unsubstituted, substituted or unsubstituted phenyl or substituted or unsubstituted heterocyclic group), amino or hydrogen, one of X.sup.1 and X.sup.2 being hydrogen when the other is not, and R.sup.5 is substituted or unsubstituted phenyl or substituted or unsubstituted heterocyclic group, and a process for preparing the same.

    摘要翻译： 由式（I）表示的氮杂环丁酮衍生物其中R1是取代或未取代的苯基或取代或未取代的苯氧基，R2是氢，任选取代的烃残基或氨基保护基，其选自酰基，甲硅烷基，磺酰基和 衍生自有机或无机酸的膦酰基是C = O或C = N-OR 3（其中R 3为氢或低级烷基），X 1和X 2相同或不同，为卤素，羟基，烷氧基，酰氧基 ，SR4（其中R4是直链或支链低级烷基取代或未取代的，取代或未取代的苯基或取代或未取代的杂环基），氨基或氢，当另一个未被取代时，X 1和X 2之一为氢，R 5为取代基 或未取代的苯基或取代或未取代的杂环基，及其制备方法。

    Process for preparing azetidinone derivatives
    5.
    发明授权
    Process for preparing azetidinone derivatives 失效
    制备氮杂环丁酮衍生物的方法

    公开(公告)号：US4622178A

    公开(公告)日：1986-11-11

    申请号：US608695

    申请日：1984-05-01

    申请人： Shigeru Torii ,  Hideo Tanaka ,  Junzo Nogami ,  Michio Sasaoka ,  Norio Saito ,  Takashi Shiroi

    发明人： Shigeru Torii ,  Hideo Tanaka ,  Junzo Nogami ,  Michio Sasaoka ,  Norio Saito ,  Takashi Shiroi

    IPC分类号： C07D205/08 ,  C07D205/095 ,  C07D401/12 ,  C07D403/12 ,  C07D417/12 ,  C07D417/14 ,  C07D401/14

    CPC分类号： C07D401/12 ,  C07D205/095 ,  C07D403/12 ,  C07D417/12 ,  C07D417/14 ,  Y02P20/55

    摘要： A process for preparing an azetidinone derivative represented by the formula ##STR1## wherein R.sup.1 represents a straight-chain or branched-chain lower alkyl group, substituted or unsubstituted aryl group, substituted or unsubstituted phenylmethyl group or substituted or unsubstituted phenyloxymethyl group, R.sup.2 represents hydrogen atom, an optionally substituted hydrocarbon residue or protective group for amino group selected from the class consisting of acyl, silyl, sulfonyl and phosphonyl derived from organic or inorganic acid, and R.sup.3 represents a substituted or unsubstituted aryl group or the residue of substituted or unsubstituted heterocyclic ring.

    摘要翻译： PCT No.PCT / JP83 / 00298 Sec。 371日期1984年5月1日 102（e）日期1984年5月1日PCT提交1983年9月6日PCT公布。 出版物WO84 / 00960 日本3月15日，1984年。一种制备式（I）表示的氮杂环丁酮衍生物的方法，其中R 1表示直链或支链的低级烷基，取代或未取代的芳基，取代或未取代的苯基甲基 或取代或未取代的苯氧基甲基，R2表示氢原子，任选取代的烃残基或选自有机或无机酸的酰基，甲硅烷基，磺酰基和膦酰基的氨基的保护基，R3表示取代或未取代的 芳基或取代或未取代的杂环的残基。

    2-substituted cephem derivatives and process for preparing the same
    6.
    发明授权
    2-substituted cephem derivatives and process for preparing the same 失效
    2-取代的头孢烯衍生物及其制备方法

    公开(公告)号：US4604457A

    公开(公告)日：1986-08-05

    申请号：US614162

    申请日：1984-05-08

    申请人： Shigeru Torii ,  Hideo Tanaka ,  Junzo Nogami ,  Michio Sasaoka ,  Norio Saito ,  Takashi Shiroi

    发明人： Shigeru Torii ,  Hideo Tanaka ,  Junzo Nogami ,  Michio Sasaoka ,  Norio Saito ,  Takashi Shiroi

    IPC分类号： A61K31/545 ,  A61K31/546 ,  A61P31/04 ,  C07D501/04 ,  C07D501/20 ,  C07D501/22

    CPC分类号： C07D501/22 ,  Y02P20/55

    摘要： A 2-substituted cephem derivative represented by the formula ##STR1## wherein R.sup.1 represents a substituted or unsubstituted phenyl group, substituted or unsubstituted phenylmethyl group or substituted or unsubstituted phenoxymethyl group, R.sup.2 represents hydrogen atom or protective group for carboxylic acid and Y represents allyloxy group, benzyloxy group, alkylthio group, carboxyalkylthio group or group of the formula ##STR2## wherein R.sup.4 represents hydrogen atom or lower alkyl group, X represents --O--, --S-- or ##STR3## R.sup.5 represents hydrogen atom, a lower alkyl group or phenyl group and R.sup.6 represents hydrogen atom or lower alkyl group, and a process for preparing the derivatives.

    摘要翻译： PCT No.PCT / JP83 / 00299 Sec。 371日期：1984年5月8日 102（e）日期1984年5月8日PCT提交1983年9月6日PCT公布。 第WO84 / 00965号公报 日本3月15日，1984年。由式（II）表示的2-取代头孢烯衍生物，其中R1表示取代或未取代的苯基，取代或未取代的苯甲基或取代或未取代的苯氧基甲基，R2表示氢原子或 羧酸的保护基，Y表示烯丙氧基，苄氧基，烷硫基，羧基烷硫基或式的基团，其中R4表示氢原子或低级烷基，X表示-O - ， - S-或< R5表示氢原子，低级烷基或苯基，R6表示氢原子或低级烷基，以及其衍生物的制备方法。

    Moving device for moving movable body
    8.
    发明授权
    Moving device for moving movable body 有权
    用于移动移动体的移动装置

    公开(公告)号：US08931139B2

    公开(公告)日：2015-01-13

    申请号：US14112136

    申请日：2012-04-18

    申请人： Norio Saito

    发明人： Norio Saito

    IPC分类号： E05F1/08 ,  E05F1/16 ,  E05F5/02 ,  E05F5/00

    CPC分类号： E05F1/16 ,  E05F5/003 ,  E05F5/02 ,  E05F5/027 ,  E05Y2201/412 ,  Y10T16/27 ,  Y10T16/593

    摘要： A movable device for a movable body has a reception body fixed to a support body or the movable body relatively moving to the support body, and includes a plurality of engagement portions protruding from the support body or the movable body by being separated from each other; a base body provided in the other of the support body or movable body; an abutment body formed to move along a movement direction of the movable body, and engaging one of the engagement portions in a case wherein the movable body moves in a movement completion position thereof; and an urging mechanism formed urgingly between the base body and the abutment body, restricting a movement of the base body or abutment body by urging, and releasing restriction of the movement by engagement of the abutment body with one of engagement portions.

    摘要翻译： 一种可移动体的移动装置，具有固定在支承体上或相对移动到支承体上的移动体的接纳体，并且具有从支撑体或移动体相互分离而突出的多个接合部， 设置在所述支撑体或移动体的另一方的基体; 所述抵接体形成为沿着所述移动体的移动方向移动，并且在所述移动体的移动完成位置移动的情况下，使所述卡合部中的一个卡合; 以及推动机构，其在所述基体和所述抵接体之间被推动地形成，通过推动限制所述基体或抵接体的运动，并且通过所述抵接体与接合部中的一个接合而释放所述运动的限制。

    METHOD FOR PRODUCING ANTENNA DEVICE
    9.
    发明申请
    METHOD FOR PRODUCING ANTENNA DEVICE 失效
    生产天线装置的方法

    公开(公告)号：US20120227248A1

    公开(公告)日：2012-09-13

    申请号：US13365575

    申请日：2012-02-03

    申请人： Katsuhisa Orihara ,  Satoru Sugita ,  Norio Saito ,  Masayoshi Kanno

    发明人： Katsuhisa Orihara ,  Satoru Sugita ,  Norio Saito ,  Masayoshi Kanno

    IPC分类号： H01P11/00

    CPC分类号： G06K19/07749 ,  H01Q1/2225 ,  H01Q7/06

    摘要： A method for manufacturing an antenna device may include a first step of forming an antenna circuit so that the resonance frequency of the antenna circuit will be lower than an oscillation frequency of the reader/writer. The antenna circuit includes an antenna coil that receives the magnetic field transmitted from the reader/writer and a capacitor electrically connected to the antenna coil. The manufacturing method also includes a second step of affixing a magnetic sheet to the antenna coil via an adhesive. The magnetic sheet is at a face-to-face position with respect to the antenna coil and is configured to change the inductance of the antenna coil. The adhesive is of a film thickness to change the inductance so that the resonance frequency of the resonance circuit will be coincident with the oscillation frequency depending on the spacing between the antenna coil and the magnetic sheet.

    摘要翻译： 天线装置的制造方法可以包括形成天线电路的第一步骤，使得天线电路的谐振频率将低于读取器/写入器的振荡频率。 天线电路包括接收从读取器/写入器发送的磁场的天线线圈和电连接到天线线圈的电容器。 该制造方法还包括通过粘合剂将磁性片固定到天线线圈的第二步骤。 磁性片相对于天线线圈处于面对面位置，并且被配置为改变天线线圈的电感。 粘合剂具有改变电感的膜厚度，使得谐振电路的谐振频率将与根据天线线圈和磁性片之间的间隔的振荡频率一致。

    Process for producing penicillanic acid compound
    10.
    发明授权
    Process for producing penicillanic acid compound 有权
    生产青霉烷酸化合物的方法

    公开(公告)号：US07514553B2

    公开(公告)日：2009-04-07

    申请号：US10569692

    申请日：2004-09-02

    申请人： Yoshihisa Tokumaru ,  Norio Saito ,  Makoto Akizuki

    发明人： Yoshihisa Tokumaru ,  Norio Saito ,  Makoto Akizuki

    IPC分类号： C07D477/06

    CPC分类号： C07D499/04 ,  Y02P20/55

    摘要： A process for preparing a penicillanic acid compound of the formula (2) comprising reacting a halogenated penicillanic acid compound of the formula (1), (a) in the presence of a metal bismuth or bismuth compound, (b) with a metal having a lower standard oxidation-reduction potential than bismuth to obtain the compound (2) (X and Y are a hydrogen atom or halogen atom, provided that X and Y are not hydrogen atoms at the same time, n is an integer of 0 to 2, R is carboxylic acid protecting group) (n and R are same as above).

    摘要翻译： 一种制备式（2）的青霉烷酸化合物的方法，包括使式（1）的卤代青霉烷酸化合物，（a）在金属铋或铋化合物存在下，（b）与具有 比铋更低的标准氧化还原电位以获得化合物（2）（X和Y是氢原子或卤素原子，条件是X和Y不同时为氢原子，n为0-2的整数， R是羧酸保护基）（n和R与上述相同）。