公开(公告)号：US3914515A

公开(公告)日：1975-10-21

申请号：US37955273

申请日：1973-07-16

Applicant: RCA CORP

Inventor： KANE JAMES ,  SCHWEIZER HANSPETER

IPC: C03C17/245 ,  C23C16/04 ,  C23C16/40 ,  B32B17/06 ,  C03C17/22 ,  C23C11/08

CPC classification number: C23C16/042 ,  C03C17/245 ,  C03C2217/217 ,  C03C2217/229 ,  C03C2218/152 ,  C03C2218/328 ,  C23C16/405 ,  C23C16/406

Abstract: Photomasks for microcircuit technology are prepared by evaporating cyclopentadienyl derivatives of transition metals, contacting the vapor with a heated substrate in an oxygencontaining atmosphere to form transition metal oxide films on the substrate and removing part of the film to form a desired pattern.

Abstract translation: 用于微电路技术的光掩模是通过蒸发过渡金属的环戊二烯基衍生物，使蒸气与含氧气氛中的加热衬底接触，在衬底上形成过渡金属氧化物膜，并除去膜的一部分以形成所需的图案。