公开(公告)号：US20070254235A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：US11380731

申请日：2006-04-28

申请人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  DANIEL SANDERS ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG ,  GREGORY WALLRAFF

发明人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  DANIEL SANDERS ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG ,  GREGORY WALLRAFF

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/2041 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757

摘要： Resist compositions that can be used in immersion lithography without the use of an additional topcoat are disclosed. The resist compositions comprise a photoresist polymer, at least one photoacid generator, a solvent; and a self-topcoating resist additive. A method of forming a patterned material layer on a substrate using the resist composition is also disclosed.

摘要翻译： 公开了可用于浸没式光刻中而不使用另外的顶涂层的抗蚀剂组合物。 抗蚀剂组合物包含光致抗蚀剂聚合物，至少一种光致酸产生剂，溶剂; 和自 - 面漆抗蚀剂添加剂。 还公开了使用抗蚀剂组合物在衬底上形成图案化材料层的方法。

公开(公告)号：US20070254236A1

公开(公告)日：2007-11-01

申请号：US11380744

申请日：2006-04-28

申请人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG

发明人： ROBERT ALLEN ,  PHILLIP BROCK ,  CARL LARSON ,  RATNAM SOORIYAKUMARAN ,  LINDA SUNDBERG ,  HOA TRUONG

IPC分类号： G03C1/00

CPC分类号： G03F7/11 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0752 ,  G03F7/2041 ,  Y10S430/108 ,  Y10S430/111

摘要： A topcoat material for application on top of a photoresist material is disclosed. The topcoat material comprises an acid-inert compound. The topcoat material also comprises a polymer or an oligomer or a cage structure which shows negligible intermixing with the imaging layer and is soluble in aqueous base developer. A method of forming a patterned material layer on a substrate and a coated substrate comprising the topcoat material is also disclosed.

摘要翻译： 公开了一种用于施加在光致抗蚀剂材料上的面漆材料。 面漆材料包含酸惰性化合物。 面漆材料还包括聚合物或低聚物或保持架结构，其与成像层混合可忽略，并且可溶于碱性显影液。 还公开了在基材上形成图案化材料层的方法和包含面漆材料的涂布基材。